草野英二 (KUSANO EIJI) - マイポータル

基本情報

所属: 金沢工業大学金沢工業大学バイオ・化学部応用化学科教授

学位: 博士(工学)(1993年9月東京大学)

J-GLOBAL ID: 200901003342206775
researchmap会員ID: 1000215061

研究キーワード

研究分野

自然科学一般 / 半導体、光物性、原子物理 / 薄膜物性

経歴

2001年

金沢工業大学教授
1996年 - 2000年

金沢工業大学助教授

学歴

1981年4月 - 1983年3月

神戸大学大学院, 工学研究科, 工業化学専攻
1977年4月 - 1981年3月

神戸大学, 工学部, 工業化学科

委員歴

2022年9月 - 現在

The international union for vacuum science, technique, and applications, Division of Surface Engineering, Committee Member (Representative from Japan)
2022年8月 - 現在

公益社団法人日本表面真空学会, 国際連携委員会委員
2004年4月 - 現在

日本ファインセラミックス協会, 規格化委員会薄膜・コーティング部門委員長
2021年1月 - 2022年9月

Intl.Union. Vacuum Science, Technique, and Applications 22th Intl. Vacuum Congress, Programming Committee, Member
2007年1月 - 2021年12月

表面技術協会, 評議員
2013年9月 - 2019年8月

Intl.Union. Vacuum Science, Technique, and Applications, Division of Surface Engineering, Committee Member (Representative from Japan)
2017年4月 - 2017年12月

表面技術協会, 第136会講演大会実行委員長
2015年4月 - 2016年8月

Intl.Union. Vacuum Science, Technique, and Applications, 20th Intl. Vacuum Congress, Programming Committee, Member
2012年4月 - 2013年8月

Intl.Union. Vacuum Science, Technique, and Applications, 19th Intl. Vacuum Congress, Programming Committee, Member
2010年9月 - 2013年8月

Intl.Union. Vacuum Science, Technique, and Applications, Division of Plasma Science and Technologies, Committee Member (Representative from Japan)
2007年1月 - 2012年12月

日本真空協会, 理事
2004年1月 - 2010年12月

Thin Solid FIlms, Editorial Board Member
2004年4月 - 2010年3月

日本真空協会, スパッタリング技術部会部会長
2004年1月 - 2005年12月

応用物理学会, 代議員
2002年4月 - 2003年12月

日本真空協会, Intl. Symp. Sputtering & Plasma Processes，Organizing Committee Chair
1995年4月 - 1995年12月

日本真空協会, The 3rd Intl. Sympo. Sputtering Plasma Processes, Organizing Committee,Chair
Intl.Union. Vacuum Science, Technique, and Applications, Member of Division Committee

論文

Revisitation of reactive direct current magnetron sputtering discharge: Investigation of Mg–CF4, Mg–O2, and Ti–O2 discharges by probe measurements

Eiji Kusano

Journal of Vacuum Science & Technology A 42(2) 2024年2月2日査読有り筆頭著者責任著者
Dependence of film structure on the film structure-independent equivalent film thickness in magnetron sputtering deposition of Ag thin films

Eiji Kusano

Journal of Vacuum Science & Technology A 40(5) 053405-1-053405-14 2022年9月査読有り筆頭著者責任著者
Growth of flat-topped, mound-shaped grains with voids when depositing silver thin films at high substrate temperatures using direct-current magnetron sputtering

Eiji Kusano

Journal of Vacuum Science & Technology A 40(1) 013410-1-013410-12 2022年1月査読有り筆頭著者責任著者
Discharge characteristics of electronegative Mg–CF4 direct current magnetron sputtering by probe measurements

Eiji Kusano

Journal of Applied Physics 129(23) 233305-1-233305-20 2021年6月21日査読有り筆頭著者責任著者
Structure-Zone Modeling of Sputter-Deposited Thin Films: A Brief Review

Eiji Kusano

Applied Science and Convergence Technology 28(6) 179-185 2019年12月査読有り招待有り筆頭著者責任著者
Homologous substrate-temperature dependence of structure and properties of TiO<inf>2</inf>, ZrO<inf>2</inf>, and HfO<inf>2</inf> thin films deposited by reactive sputtering

Kusano, E.

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films 37(5)-051508-8 2019年査読有り筆頭著者責任著者
Revisitation of the structure zone model based on the investigation of the structure and properties of Ti, Zr, and Hf thin films deposited at 70-600 C using DC magnetron sputtering

Kusano Eiji

Journal of Vacuum Science & Technology A 36(4) 41506-1-41506-9 2018年7月査読有り筆頭著者責任著者
Radio frequency sputter deposition of Cu<inf>2</inf>ZnSnS<inf>4</inf> thin films with a temperature-controlled reflector wall: Effects of H<inf>2</inf> addition to the sputtering gas

Kusano, E., Kondo, Y.

Thin Solid Films 646 75-82 2018年査読有り筆頭著者責任著者
Mechanisms of the structural modification of Ti films by pulsed direct current and inductively coupled plasma-assisted pulsed direct current sputtering

Eiji Kusano, Naoto Kikuchi

THIN SOLID FILMS 634(31) 73-84 2017年7月査読有り筆頭著者責任著者
Control of composition and properties by the use of reflector wall in RF sputter deposition of Cu<inf>2</inf>ZnSnS<inf>4</inf> thin films

Kusano, E., Sakamoto, M.-A.

Thin Solid Films 589(31) 433-440 2015年査読有り筆頭著者責任著者
Evaluation of time-dependent compound layer formation and removal at target surface by model calculation of mass balance change in reactive sputtering

KUSANO EIJI, SAKAMOTO MUNEAKI

19th International Vacuum Congress IVC-19 Paris 2013年9月
One-step deposition of Cu2ZnSnS4 thin films by hot-wall sputtering

SAKAMOTO MUNEAKI, KUSANO EIJI

Proceedings of the 12th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes 12th 388-391 2013年7月査読有り責任著者
80

Model calculation of dynamic mass-balance changes in reactive sputtering

KUSANO EIJI

Proceedings of the 12th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes 12th 10-13 2013年7月査読有り筆頭著者責任著者
Structure modification of titanium oxide thin films by rf-plasma assistance in Ti-O<inf>2</inf> reactive dc and pulsed dc sputtering

Sakamoto, M.-A., Kusano, E., Matsuda, H.

Thin Solid Films 531 49-55 2013年査読有り責任著者
Interface stress induced hardness enhancement and superelasticity in polytetrafluoroethylene/metal multilayer thin films

E. Kusano, N. Kikuchi

THIN SOLID FILMS 520(1) 404-412 2011年10月査読有り筆頭著者責任著者
Densification of titanium oxide thin films by rf-plasma assistance in Ti-O2 reactive dc and pulsed sputtering

KUSANO EIJI, SAKAMOTO MUNEAKI

Proc Int Symp Sputtering Plasma Processes 11th 219-222 2011年7月査読有り筆頭著者
The 10th Asia-Pacific conference on Plasma Science and Technology (APCPST 2010): The 153rd symposium on Plasma Science for Materials (SPSM 2010)

Chae, H.Y., Chung, C.W., Chung, J.W., Hong, M.P., Joo, J.H., Kim, H.J., Kim, D.H., Kusano, E., Overzet, L., Pu, Y.-K. …

Thin Solid Films 519(20) 2011年
Effects of radio-frequency plasma on structure and properties in Ti film deposition by dc and pulsed dc magnetron sputtering

Toshiyuki Oya, Eiji Kusano

THIN SOLID FILMS 517(20) 5837-5843 2009年8月査読有り責任著者
高周波プラズマ支援スパッタリング法によるインジウム-スズ酸化物（ITO）薄膜の構造および物性制御

草野英二, 大谷寿幸

真空 52(6) 364-368 2009年査読有り筆頭著者責任著者
Characterization of organic polymer thin films deposited by rf magnetron sputtering

Toshiyuki Oya, Eiji Kusano

VACUUM 83(3) 564-568 2008年10月査読有り最終著者責任著者

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MISC

入学学生の多様化と進路先の多様化をつなぐ工学・工業教育のあり方 -進路指導担当者からみた新しい時代の工学・工業教育-

草野英二

KIT progress : 工学教育研究 11 77-87 2006年3月1日
(149)つくる,評価する,考えるを実践する「ものづくり」教育 : スパッタリング法による半導体薄膜作製・評価実験(セッション43 教育システムB(実技)VII)

草野英二, 南都秀仁, 谷口昌宏

工学・工業教育研究講演会講演論文集 16 295-296 2004年7月30日
高周波マグネトロンスパッタリング法を用いた低誘電性有機薄膜の作製

林利江, 菊地直人, 草野英二, 南戸秀人, 金原粲

電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料 101(395) 101-106 2001年10月19日
タッチパネル用SnO_2:Nb透明導電性薄膜の作製とその評価

岸尾悦郎, 菊地直人, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

電子情報通信学会技術研究報告. CPM, 電子部品・材料 100(396) 47-52 2000年10月20日
薄膜の付着評価法 (特集1 試験・測定技術)

金原粲, 菊地直人, 草野英二

月刊トライボロジ 14(6) 20-22 2000年6月
TiスパッタリングにおけるTiのイオン分率

斉藤隆義, 彩木傑, 福島和宏, 菊地直人, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 43(3) 448-448 2000年3月20日
ポリイミドフィルムのスパッタリングにおける放電ガスへのN_2の添加効果

池田佳広, 福島和宏, 菊地直人, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 43(3) 453-453 2000年3月20日
スパッタリング用プラズマ

金原粲, 草野英二, 菊地直人, 福島和宏, 斉藤隆義

真空 43(3) 450-450 2000年3月20日
微小押し込み硬さ試験によるAl/TiNおよびCu/TiN二層薄膜の変形挙動の検討

沢平嘉浩, 菊地直人, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 43(3) 388-388 2000年3月20日
Al, Cu-TiN薄膜の押し込み試験における変形への多層化の影響

菊地直人, 沢平嘉浩, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 43(3) 389-389 2000年3月20日
二元交互スパッタリング法を用いたTiC-C系多層薄膜の作製

菊地直人, 沢平嘉浩, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 43(3) 387-387 2000年3月20日
組成変調型多層構造薄膜における高強度化機構の実験的検証

松井慎, 沢平嘉浩, 菊地直人, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 43(3) 390-390 2000年3月20日
組成変調したTiN-Ti多層薄膜の構造と硬さおよび内部応力

菊地直人, 北河勝, 佐藤彰繁, 沢平嘉浩, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 42(3) 429-429 1999年3月
Al/TiN多層薄膜の微小押し込み硬さ試験におけるエネルギー散逸

沢平嘉浩, 佐藤彰繁, 菊地直人, 草野英二, 南戸秀仁, 金原粲

真空 42(3) 426-426 1999年3月
反応性スパッタリングによるセラミックス薄膜の作製

草野英二

セラミックス 33(10) 811-815 1998年10月1日
固体炭素源を用いた反応性スパッタリング法によるTiC膜の作製

佐藤彰繁, 北河勝, 黒田靖信, 草野英二, 金原粲

真空 41(3) 373-373 1998年3月20日
Cu/TiN薄膜間の接着層の効果

則武千景, 石原康生, 近藤市治, 近藤憲司, 竹中修, 草野英二, 金原粲

電気学会研究会資料. EFM, 電子材料研究会 1996(10) 9-16 1996年10月8日
第1回スパッタリングおよびプラズマプロセス国際シンポジウム(ISSP′91)を開催して

草野英二

真空 34(8) p658-660 1991年8月

書籍等出版物

気泡･ボイドの発生メカニズムと未然防止･除去技術

草野英二

株式会社技術情報協会 2014年1月
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎表面技術協会

草野英二

コロナ社 2013年4月
スパッタリングの基礎と応力発生メカニズム・密着力の向上

草野英二

技術情報協会 2008年
生産現場・開発現場において役立つ薄膜作製技術おわりに－これからの薄膜作成技術－

草野英二

（株）リアライズ理工センター 2006年11月
生産現場・開発現場において役立つ薄膜作製技術第２章基盤技術・薄膜作成技術第４節化学気相成長法１．化学気相成長法の概要

草野英二

（株）リアライズ理工センター 2006年11月
はじめての薄膜作製技術

草野英二

工業調査会 2006年3月

講演・口頭発表等

Electronegativity of Mg-CF4 reactive sputter discharge

KUSANO EIJI

18th International Conference on Reactive Sputter Deposition RSD 2019年12月5日
3Ep12 Mg-CF4直流反応性スパッタリング放電における負イオン形成と薄膜再スパッタリング

草野英二

2019年10月30日
[18p-C309-8] Mg-CF4直流反応性スパッタリング放電における負のプラズマ電位の発生

草野英二

2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月18日公益社団法人応用物理学会
Revisitation of the structure zone model of sputter-deposited thin films

KUSANO EIJI

The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes 2019年6月12日 The Japan Society of Vacuum and Surface Science 招待有り
Model calculation and visualization of time-dependent reactive gas mass balance change in Ti-O2 reactive sputtering,” 16th International Conference on Reactive Sputtering

16th International Conference on Reactive Sputtering 2017年12月5日招待有り
Band gap and film structure control by H2 addition to Ar discharge gas in Cu2ZnSnS4 thin film deposition by reflector-wall sputtering

KUSANO EIJI, KondoYu

Iberian Vacuum Conf. RIVA-X 8th 2017年10月1日
Suppression of F- ion incidence to growing film surface by using a double-grid retarding electrode in sputter deposition of MgF2 thin films,” 15th International Conference on Plasma Surface Engineering

Eiji Kusano, Satoshi Jinbo

15th International Conference on Plasma Surface Engineering 2016年9月13日
Mechanisms involved in modification of film structure and properties in ICP assisted dc and pulsed dc sputtering

KUSANO EIJI, KIKUCHI Naoto

2015 International Symposium on Surface Engineering based Convergence Science and Technology, The 49th Summer Annual cConference of the Korean Vacuum Society 2015年8月
Fundamentasls of Sputtering

KUSANO EIJI

Workshop on Sputtering technology and optical coatings, Taiwan Photonics Society 2011年8月招待有り

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

フッ化・硫化物薄膜スパッタリング堆積におけるアニオン欠陥形成の機構解明とその抑制

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2015年4月 - 2018年3月

草野英二
硫化物太陽電池薄膜の低コスト・低温堆積に向けたホットウォールスパッタリング法

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究 2012年4月 - 2015年3月

草野英二
表面プラズモン共鳴現象を用いたエレクトロニックノーズシステムの機能設計と構築

日本学術振興会科学研究費助成事業萌芽研究 2004年 - 2006年

南戸秀仁, 草野英二, 竹井義法, 山ノ口崇, 参沢匡将
分子認識機能を有するインテリジェント匂いおよび味センサシステムの開発とその応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2004年 - 2006年

南戸秀仁, 草野英二, 竹井義法, 山ノ口崇, 参沢匡将
プラズマ有機薄膜の機能設計とエレクトロニックノースへの応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2000年 - 2002年

南戸秀仁, 竹井義法, 草野英二, 金原粲
多層薄膜への超微小圧子押し込み/引き抜き過程におけるエネルギー散逸の物理的評価

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 1998年 - 2000年

草野英二, 南戸秀仁, 金原粲
金属/誘電体薄膜界面の表面プラズモン共鳴現象の感性化学センサへの応用

日本学術振興会科学研究費助成事業萌芽的研究 1998年 - 1999年

南戸秀仁, 草野英二, 金原あきら
モジュレーションスパッタ法による半導体薄膜の機能設計と感性化学センサへの応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 1997年 - 1999年

南戸秀仁, 草野英二, 金原粲
フラクタル網目構造無機薄膜材料の作製および表面物性の評価

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 1996年 - 1997年

草野英二, 金原粲
モジュレーション・リアクティヴ・スパッタリング法の開発とその多層構造への応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 1995年 - 1996年

金原粲, 草野英二

草野英二

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研究分野

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学歴

委員歴

論文

MISC

書籍等出版物

講演・口頭発表等

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