西川宏之

J-GLOBALへ         更新日: 15/09/18 19:25
 
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研究者氏名
西川宏之
 
ニシカワ ヒロユキ
URL
http://www.flex.ae.shibaura-it.ac.jp

研究分野

 
 

経歴

 
2009年4月
 - 
2015年
芝浦工業大学 工学部 電気工学科 教授
 
2003年4月
 - 
2009年3月
芝浦工業大学 工学部 電気工学科 准教授
 
2000年4月
 - 
2003年3月
芝浦工業大学 工学部 電気工学科 講師
 
1993年4月
 - 
2000年3月
東京都立大学 工学部 電気工学科 助手
 
1992年4月
 - 
1993年3月
早稲田大学 理工学部 電気工学科 助手
 

Misc

 
渡部 涼, 内田 諭, 西川 宏之
電気学会論文誌. A   135(9) 548-552   2015年
We studied 3D dielectrophoretic (DEP) effects induced by dielectric pillar arrays fabricated by soft lithography. Polydimethylsiloxane (PDMS) was casted onto a PMMA mold with arrays of high-aspect-ratio holes micromachined by proton beam writing (...
Hijiri Kato, Junichi Takahashi, Hiroyuki Nishikawa
Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics   32    2014年11月
© 2014 American Vacuum Society. This paper reports the fabrication of polydimethylsiloxane (PDMS) microlens arrays (MLAs) on a 5-13 μm-thick PDMS layer on polyethylene terephthalate (PET) films using proton beam writing (PBW). The PBW is performed...
W. Kada, K. Miura, H. Kato, R. Saruya, A. Kubota, T. Satoh, M. Koka, Y. Ishii, T. Kamiya, H. Nishikawa, O. Hanaizumi
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms      2014年7月
© 2014 Elsevier B.V. A focused 750keV proton microbeam was used to fabricate an embedded Mach-Zehnder (MZ) optical waveguide in a polydimethylsiloxane (PDMS) film for interferometer application. The sample position was precisely controlled by a me...
渡辺 和貴, 山口 正樹, 西川 宏之
電子情報通信学会技術研究報告. SDM, シリコン材料・デバイス   113(351) 85-89   2013年12月
本研究では,非鉛系強誘電体材料の一つであるチタン酸ビスマス(Bi_4Ti_3O_<12>, BIT)において,ポリビニルピロリドン(Polyvinylpyrrolidone, PVP)添加による厚膜形成と,プロトン照射による直接パターニングについて検討を行った.有機原料溶液にPVPを50%添加することで,Si基板上に作成した厚膜において,c軸配向性の促進ならびに応力緩和によるクラック抑制効果を確認した.また,Biを30%過剰に添加することで,PVP添加による組成ずれを補正することができた....
西川 宏之, 長谷川 忠大, 小池 義和
特別教育・研究報告集   6-9   2013年

書籍等出版物

 
大木 義路編著、西川宏之分担執筆 (担当:共著, 範囲:4章、13章)
オーム社   2007年12月   ISBN:4274204847
大木 義路、西川宏之分担執筆 (担当:共著, 範囲:10章)
培風館   2002年11月   ISBN:4563036919
西岡 泰城, 大木 義路, 西川 宏之, 服部 健雄, 岩崎 裕, 森田 悦郎, 吉見 年弘, 桜井 真理, 島貫 康, 下田 高広, 今井 馨太郎, 蒲原 史朗, 鳥海 明, 塩野 登, 塩澤 順一, 山部 紀久夫, 安田 直樹, 高木 信一 (担当:共著)
リアライズ理工センター   1991年7月   ISBN:4947655445
西川 宏之
数理工学社   2013年10月   ISBN:4864810052

競争的資金等の研究課題

 
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(B))
研究期間: 2009年 - 2011年    代表者: 西川 宏之
集束陽子線描画(PBW)による高アスペクト比構造を活かした三次元誘電泳動デバイスの創成を目的として、ビーム発生・制御、材料・プロセス、DEPデバイス応用という3つの課題に取り組んだ。微細加工技術として高い柔軟性を有するPBWを用い、材料・プロセスの面から取り組むことで、高アスペクト比ピラー構造部材の作製とそのデバイスへの組み込みに至るまでの技術を開発した。これにより、三次元誘電デバイスを作製し、その優れた微生物捕集特性を示すことができた。
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(A))
研究期間: 2007年 - 2010年    代表者: 神谷 富裕
ナノデバイスあるいはマイクロマシン創製の基盤技術として、MeV以上の高エネルギーイオンマイクロビームの特長を活かした3Dナノ構造創製技術を開発した。研究では、研究代表者自らが開発した各種のマイクロビーム装置を駆使し、その多様性、高空間分解能、高密度エネルギー付与、および長飛程の特長を活かし、それらを組み合わせてマスクレス描画する技術を開発し、ナノ細線を含む3次元微細構造の創製に見通しを得た。
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(B))
研究期間: 2005年 - 2007年    代表者: 西川 宏之
今日のマイクロフォトニクスや半導体集積回路におけるマイクロ・ナノ構造作製技術に対するニーズは、高精度、迅速性、および量産性の確立である。すなわち、高い分解能で高品質の構造体を高速かつ低コストのマイクロ・ナノ構造作製技術が要求される。同時に、その技術をナノバイオロジーなど他分野へと適用可能な柔軟性を有することも重要である。これらの要素を兼ね備えるのが、本研究において研究開発を行ったプロトンビーム描画(Proton Beam Writing、PBW)技術である。本研究の目的は、プロトンビーム描...
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
研究期間: 2003年 - 2004年    代表者: 西川 宏之
MeVオーダーの高エネルギー集束イオン線によるマイクロ・ナノ照射効果は、光学用の基幹材料であるシリカガラスにおいて欠陥生成や高密度化などの3次元分布構造を誘起することが知られている。この照射効果のサイズは、横方向でμmスケール、深さ方向でnmから数十μmスケールの分布を示すことに着眼して、本研究ではマイクロ・ナノ照射効果によってもたらされる「3次元誘起構造」の形成機構解明と制御、および微細光学素子等の形成への応用を目的として研究を遂行した。集束イオン線の照射実験は、日本原子力研究所高崎研究...
文部科学省: 科学研究費補助金(奨励研究(A))
研究期間: 2000年 - 2001年    代表者: 西川 宏之
初年度は、下記の3点に重点を置き研究を遂行した。(1)DUV-VIS励起顕微PL・ラマン3次元分光法(現有備品)による3次元微細構造のミクロ評価:誘起構造の電子状態および振動状態の高分解能(〜1μm)3次元同時マッピングによる解析。(2)機器分析(ESR、UV-VUV吸収測定)による物性評価(3)TRIMによる注入イオンのエネルギー損失シミュレーションと誘起構造分布の相互相関調査。上記の実験を遂行すべく、バルクシリカガラスに短冊状のH^+マイクロビーム照射を行い、顕微フォトルミネッセンス(...

特許

 
西川 宏之, 飯塚 徹也, 三田 孝仁, 西浦 崇雄, 竹森 利郁
西川 宏之, 関 佳裕, 飯塚 徹也, 三田 孝仁, 竹森 利郁
西川 宏之, 金子 智紀, 飯塚 徹也, 三田 孝仁, 竹森 利郁
西川 宏之, 古田 祐介, 椎根 康晴, 内田 諭, 神谷 富裕, 石井 保行, 佐藤 隆博
西川 宏之, 古田 祐介, 椎根 康晴, 内田 諭, 神谷 富裕, 石井 保行, 佐藤 隆博