後藤俊夫 (Toshio Goto) - マイポータル

基本情報

所属: 中部大学総合工学研究所７．所長

学位: 工学博士

J-GLOBAL ID: 200901068761960832
researchmap会員ID: 1000023934

研究キーワード

研究分野

経歴

委員歴

2002年 - 2004年

応用物理学会, 会長
2004年

日本工学アカデミー, 理事
2000年 - 2002年

応用物理学会, 副会長
2002年

Institute of Physics, Fellow
2002年

IEEE, Fellow
1999年 - 2000年

レーザー学会, 中部支部長
1995年 - 2000年

応用物理学会, 本部評議員
1997年 - 1999年

応用物理学欧文誌刊行会, JJAP運営委員
1986年 - 1998年

レーザー学会, 編集委員
1995年 - 1997年

応用物理学会, 支部長
1995年 - 1997年

応用物理学会, 東海支部長
1993年 - 1995年

応用物理学会, 常務理事
1986年 - 1988年

応用物理学会プラズマエレクトロニクス研究会, 委員長
応用物理学会, 監事

受賞

2003年

応用物理学会プラズマエレクトロニクス賞
2003年

応用物理学会論文賞
2002年

Institute of Physics Fellow Award
2002年

日本工学教育協会賞（業績賞）
2002年

IEEE Fellow Award
2001年

Int. Microprocesses and Nanotechnology Conference 2000 Paper Award
2001年

International Biographical Center's 21st Award for Achievement
2001年

レーザー学会業績賞（進歩賞）
1993年

レーザー学会業績賞（論文賞）

MISC

1196

Silicon-oxide etching process employing an electron-beam-excited plasma

M Ito, K Takeda, T Shiina, Y Okamura, H Nagai, M Hori, T Goto

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 22(2) 543-547 2004年3月
Silicon-oxide etching process employing an electron-beam-excited plasma

M Ito, K Takeda, T Shiina, Y Okamura, H Nagai, M Hori, T Goto

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B 22(2) 543-547 2004年3月
Effects of driving frequency on the translational temperature and absolute density of Si atoms in very high frequency capacitively coupled SiF4 plasmas

T Ohta, M Hori, T Ishida, T Goto, M Ito, S Kawakami, N Ishii

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 42(12B) L1532-L1534 2003年12月
Effects of driving frequency on the translational temperature and absolute density of Si atoms in very high frequency capacitively coupled SiF4 plasmas

T Ohta, M Hori, T Ishida, T Goto, M Ito, S Kawakami, N Ishii

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 42(12B) L1532-L1534 2003年12月
Generation of squeezed vacuum using spectral filter by spatial light modulator and nonlinear polarization interferometer

J Higuchi, N Nishizawa, M Mori, R Goto, K Yamane, T Goto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 42(8) 5048-5051 2003年8月
Etching organic low dielectric film in ultrahigh frequency plasma using N-2/H-2 and N-2/NH3 gases

H Nagai, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 94(3) 1362-1367 2003年8月
Measurement of Si, SiF, and SiF2 radicals and SiF4 molecule using very high frequency capacitively coupled plasma employing SiF4

T Ohta, K Hara, T Ishida, M Hori, T Goto, M Ito, S Kawakami, N Ishii

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 94(3) 1428-1435 2003年8月
Generation of squeezed vacuum using spectral filter by spatial light modulator and nonlinear polarization interferometer

J Higuchi, N Nishizawa, M Mori, R Goto, K Yamane, T Goto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 42(8) 5048-5051 2003年8月
Etching organic low dielectric film in ultrahigh frequency plasma using N-2/H-2 and N-2/NH3 gases

H Nagai, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 94(3) 1362-1367 2003年8月
Measurement of Si, SiF, and SiF2 radicals and SiF4 molecule using very high frequency capacitively coupled plasma employing SiF4

T Ohta, K Hara, T Ishida, M Hori, T Goto, M Ito, S Kawakami, N Ishii

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 94(3) 1428-1435 2003年8月
Measurement of oxygen atom density employing vacuum ultraviolet absorption spectroscopy with microdischarge hollow cathode lamp

H Nagai, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 74(7) 3453-3459 2003年7月
Measurement of oxygen atom density employing vacuum ultraviolet absorption spectroscopy with microdischarge hollow cathode lamp

H Nagai, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS 74(7) 3453-3459 2003年7月
Fabrication of multilayered SiOCH films with low dielectric constant employing layer-by-layer process of plasma enhanced chemical vapor deposition and oxidation

H Nagai, M Hori, T Goto, T Fujii, M Hiramatsu

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 42(5A) 2775-2779 2003年5月
Fabrication of multilayered SiOCH films with low dielectric constant employing layer-by-layer process of plasma enhanced chemical vapor deposition and oxidation

H Nagai, M Hori, T Goto, T Fujii, M Hiramatsu

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 42(5A) 2775-2779 2003年5月
Measurement of C-2 radical density in microwave methane/hydrogen plasma used for nanocrystalline diamond film formation

M Hiramatsu, K Kato, CH Lau, JS Foord, M Hori

DIAMOND AND RELATED MATERIALS 12(3-7) 365-368 2003年3月
Effects of oxygen and nitrogen atoms on SiOCH film etching in ultrahigh-frequency plasma

H Nagai, Y Maeda, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 42(3B) L326-L328 2003年3月
Plasma induced subsurface reactions for anisotropic etching of organic low dielectric film employing N-2 and H-2 gas chemistry

H Nagai, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 42(3A) L212-L214 2003年3月
Measurement of C-2 radical density in microwave methane/hydrogen plasma used for nanocrystalline diamond film formation

M Hiramatsu, K Kato, CH Lau, JS Foord, M Hori

DIAMOND AND RELATED MATERIALS 12(3-7) 365-368 2003年3月
Effects of oxygen and nitrogen atoms on SiOCH film etching in ultrahigh-frequency plasma

H Nagai, Y Maeda, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 42(3B) L326-L328 2003年3月
Plasma induced subsurface reactions for anisotropic etching of organic low dielectric film employing N-2 and H-2 gas chemistry

H Nagai, M Hiramatsu, M Hori, T Goto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 42(3A) L212-L214 2003年3月

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書籍等出版物

応用物理学用語辞典

(株)オーム社 1998年
量子エレクトロニクス

(株)昭晃堂 1998年
フリーラジカルの科学

(株)学会出版センター 1998年
物質(もの)とはその機能と変換

第11回「大学と科学」公開シンポジウム組織委員会 1997年
検証:災害とは何か

(株)リバティ書房 1997年
半導体レーザによる気相中ラジカルの測定

IONIC 1994年
Measurements of Radicals in Gas Phase Using Semiconductor Lasers

IONIC 1994年
Density Measurements of Excited Atoms in Ne/Ar/F2 and He/Ar/F2 Mixtures Excited by Discharge

ISLOE 93 Proc. 1993年
Time Resolved Density Measurements of Excited Components in an ArF Excimer Laser

Proc. CLEO 1993年
電気磁気学

(株)昭晃堂 1993年
Density Measurements of Excited Atoms in Ne/Ar/F2 and He/Ar/F2 Mixtures Excited by Discharge

ISLOE 93 Proc. 1993年
Time Resolved Density Measurements of Excited Components in an ArF Excimer Laser

Proc. CLEO 1993年
プラズマ材料科学ハンドブック

オーム社 1992年
光エレクトロニクス事典

(株)産業調査会事典出版センター 1992年
プラズマ材料科学ハンドブック

(株)オーム社 1992年
Handbook for Plasma Material Sciences

1992年

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