中野 武雄

J-GLOBALへ         更新日: 17/03/24 13:15
 
アバター
研究者氏名
中野 武雄
 
ナカノ タケオ
URL
http://surf.ml.seikei.ac.jp/~nakano/
所属
成蹊大学
部署
理工学部 物質生命理工学科
職名
准教授
学位
博士(工学)(東京大学)
Twitter ID
nakanot

プロフィール

スパッタリング法を中心にした薄膜作製法、および薄膜の評価法について実験的な研究を行っています。

研究分野

 
 

学歴

 
 
 - 
1991年
東京大学 工学研究科 物理工学
 
 
 - 
1989年
東京大学 工学部 物理工学科
 

委員歴

 
2013年
 - 
現在
日本真空協会 SP 部会幹事
 
2010年
 - 
現在
電気学会  高密度金属プラズマ 調査専門委員会 幹事
 
2010年
 - 
現在
日本真空学会  教育委員会
 
2012年
 - 
2013年
日本真空学会  ISSP2013 実行委員長
 
2006年
 - 
2009年
電気学会  メタルスパッタプラズマの高度化調査専門委員会 委員
 

受賞

 
2015年12月
日本真空学会 第56回 真空に関する連合講演会 優秀ポスター賞 反応性スパッタにおけるモード遷移挙動の普遍性
受賞者: 木村光佑、竹内将人、飯嶋佑斗、長尾昌善、大崎 壽、中野武雄
 
2013年
日本真空学会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会 部会賞
 
1998年
第5回(1998年秋季)応用物理学会講演奨励賞
 

論文

 
Takeo Nakano, Tomoki Narita, Kei Oya, Masayoshi Nagao, Hisashi Ohsaki
Jounal of Vacuum Science & Technology B   35(2) 022204-takeonakano0422   2017年3月   [査読有り]
In this study, an array of Mo cones for volcano-structured Spindt-type microelectron emitters were fabricated. A recently developed triode high power pulsed magnetron sputtering system was used to control the positive plasma potential and efficien...
Takeo Nakano, Yudai Saitou, Kei Oya
Surface and Coatings Technology   in press   2016年12月   [査読有り]
The growth of the target erosion profile (racetrack) in DC magnetron sputtering has been experimentally studied at a modest target power. Unbalanced magnetron sputtering (UBMS) and balanced magnetron sputtering (BMS) of a copper target were conduc...
Takeo Nakano, Yudai Saitou, Mariko Ueda, Noriaki Itamura, Shigeru Baba
Journal of the Vacuum Society of Japan   58 261-264   2015年7月   [査読有り]
© 2015, Vacuum Society of Japan. All rights reserved. The evolution of target "race track" erosion was evaluated experimentally during the conventional DC magnetron sputtering of metal targets with different Ar gas pressure environments. At gas pr...
Motoki Inoue, Takeo Nakano, Akihiro Yamasaki
Sustainable Materials and Technologies   3 14-16   2015年4月   [査読有り]
A novel material for recovery and separation of precious metal using grape-derived waste has been developed. The material was fabricated glutaraldehyde-crosslinked polyphenol, which derived from grape-derived wastes. Adsorption performance of prec...
Takeo Nakano, Ryo Yamazaki, Shigeru Baba
Journal of the Vacuum Society of Japan   57(4) 152-154   2014年4月   [査読有り]
The transport process of sputtered atoms has been studied experimentally through deposition rate measurement by changing the target-to-substrate (T-S) distance systematically along with the gas pressure and target element. The deposition rate show...

Misc

 
柴田 一, 中野 武雄, 馬場 茂
成蹊大学理工学研究報告   51(1) 1-5   2014年6月
Curing process of acrylic coating on a slide glass is monitored with a microtribometer. The microtribometer equips a hemispherical diamond tip of 16 μm in radius and the tip is reciprocated on the coating surface. The tip is mounted at a free end ...
Takeo Nakano
Journal of the Vacuum Society of Japan   57 308-312   2014年1月
Discharge plasma, especially that generated at low gas pressures, is an important application of vacuum technology. This article describes the unique features of low gas pressure plasma, generation of plasma discharge and various plasma parameters...
Takeo Nakano, Takeo Nakano
Journal of the Vacuum Society of Japan   56 472-473   2013年12月
江上 傑, 村瀬 史弥, 田端 美咲, 小曾根 良介, 中野 武雄, 馬場 茂
成蹊大学理工学研究報告   50(2) 27-31   2013年12月
Structural properties of magnesium oxide (MgO) thin films are discussed from the dielectric breakdown measurement. Films of MgO of about 80 nm in thickness were prepared by rf-sputtering in an argon atmosphere at pressures of 0.24, 1.32 and 2.85 P...
大木 早苗, 大澤 修一, 中野 武雄, 馬場 茂
成蹊大学理工学研究報告   50(1) 9-16   2013年6月
The effect of low power helium–neon laser (632.8 nm) irradiation on the anodization of p-type silicon in hydrofluoric acid solution was studied. The laser beam of 2 mW power with a Gaussian diameter of 0.9 mm was successfully employed to control t...

書籍等出版物

 
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
コロナ社   2013年5月   
ロールtoロール技術の最新動向
シーエムシー出版   2011年3月   
スパッタ実務[Q&A集]
技術情報協会   2009年1月   
薄膜ハンドブック(第2版)
オーム社   2008年3月   
ディスプレイ・光学部材における薄膜製造技術
情報機構   2007年8月   ISBN:978-4-901677-83-7

講演・口頭発表等

 
Tomoya Yoshida, Masayoshi Nagao, Takashi Nishi, Nobuko Koda, Takeo Nakano
Proceedings of the International Display Workshops   2012年12月1日   
A new fabrication method of Spindt-type emitters will be presented. In our method, a double-layered photoresist is used as a parting layer, and high-power impulse magnetron sputtering is used instead of e-beam evaporator for emitter-cone formation...
Tomoya Yoshida, Masayoshi Nagao, Nobuko Koda, Takashi Nishi, Hisashi Ohsaki, Takeo Nakano
Technical Digest - 25th International Vacuum Nanoelectronics Conference, IVNC 2012   2012年11月19日   
We propose Spindt-type field emitter array fabrication process using the high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) deposition. HiPIMS method can get a lot of ionized sputtering particles due to high plasma density. We think that highly coll...
吉田 知也, 長尾 昌善, 神田 信子, 西 孝, 中野 武雄
電子情報通信学会技術研究報告. ED, 電子デバイス   2012年11月12日   
従来のスピント型電子源作製プロセスを改良した新しいFEA作製プロセスを提案する.本提案プロセスでは,従来法の電子ビーム蒸着法で形成するアルミニウム剥離層の代わりにリフトオフレジストの剥離層を用い,エミッタコーン形成を大電力パルススパッタリング法によって行う.ゲート電極の形成は,エッチバック法を用いて行うため,従来法に比べ集束電極の形成も容易になる.本提案プロセスは,従来のスピント型電子源作製プロセスの大面積化の妨げになっていた電子ビーム蒸着プロセスを用いずに,大面積化が容易なスパッタプロセ...

競争的資金等の研究課題

 
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
研究期間: 2012年 - 2014年    代表者: 中野 武雄
本研究の目的は、大電力パルススパッタ (High Power Pulsed Magnetron Sputtering: HPPMS) で実現されるスパッタ原子の高いイオン化率に、プラズマ電位の制御を組み合わせることで、低温の接地基板に堆積される薄膜の構造を制御することである。本研究の申請時には、プラズマ電位の制御をアフターグロー期のターゲット電位を通して行うことを目指していたが、昨年度にプラズマに接触する新たな電極を追加して、ここに正の電位を加えることで、より有効なプラズマ電位制御が可能と...
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
研究期間: 2009年 - 2011年    代表者: 馬場 茂
2~5W/cm^<2>の放電電力のもと, 0.05~0.10nm/sの堆積速度で窒化チタン薄膜が得られるような反応性スパッタの環境で,膜への酸素混入の機構を探った。この条件では,酸素分圧が1×10^<-5> Pa以下では膜にOの混入は見られない。1×10^<-4> Paを超えるとOが検出されるようになるが,放電電力をあげることでTi原子のスパッタ放出が増え,そのゲッタリング効果によって雰囲気の残留酸素は減り,薄膜の純度が上がる。ここで,放電をパルス化させると,低めの放電電力でより純度の高い...
文部科学省: 科学研究費補助金(基盤研究(C))
研究期間: 2007年 - 2009年    代表者: 中野 武雄
化合物薄膜の製膜手法である反応性スパッタリングにおいて、膜組成制御のための研究を行った。まず蒸発源から放出された金属原子の輸送過程に、製膜時の全圧が影響し、膜組成が従来のモデルでは説明できない挙動を示すことを明らかにした。また膜表面への反応性ガスの付着確率が、特に窒化物の堆積において重要な役割を果たすことがわかった。さらにパルス放電スパッタの特性を評価し、膜構造制御の可能性を見出した。
文部科学省: 科学研究費補助金(奨励研究(A))
研究期間: 1999年 - 2000年    代表者: 中野 武雄
スパッタリング製膜法における粒子の輸送過程を、モンテカルロ法によってシミュレートする計算プログラムを開発した。ターゲットからスパッタされた粒子はガス分子との衝突によって減速するが、高圧力下では衝突が数多く起こり、スパッタ粒子に対するガス分子の運動が無視できなくなる。そこでスパッタ粒子と衝突するガス分子の速度分布を気体分子運動論から導き、シミュレーションに組み入れた。粒子が減速した後(熱中性化後)の輸送を連続体(流体)近似によって取り扱う手法も開発した。これはターゲットから放出されたスパッタ...
文部科学省: 科学研究費補助金(一般研究(C))
研究期間: 1993年 - 1994年    代表者: 馬場 茂
マグネトロンスパッタリングによって作製した200nm厚のMgO膜を、X線光電子分光装置(PHI1600型)に導入し、1253.6eVの特性X線を照射して放出される光電子のエネルギースペクトルを測定した。試料にイオンエッチングを加えた場合には、入射X線より高いエネルギーのエキソ電子が検出された。装置に導入された試料は表面の汚れを除くために約20秒のイオンエッチングが施された。その後10^<-8>Pa台の真空中で室温で48時間放置された。この試料にエネルギー3KeV、電流密度15mA/cm^2...