戸坂亜希 (Aki Tosaka) - マイポータル

基本情報

学位: 博士（理学）(学習院大学)

J-GLOBAL ID: 200901097015648246
researchmap会員ID: 5000019559

外部リンク: http://surface.sci.yokohama-cu.ac.jp/

研究キーワード

研究分野

自然科学一般 / 半導体、光物性、原子物理 /

経歴

学歴

論文

N-IsopropylacrylamideとButyl AcrylateとN,N-Dimethylacrylamideの共重合体を用いた新規冷却塗料の開発

Hayato Sasaki, Hisashi Honda, Rokuro Fujita, Aki Tosaka, Kanako Sekimoto, Yukiumi Kita, Hideyuki Tukada

International Research Journal of Pure & Applied Chemistry 11 1-11 2016年査読有り
Application of Copolymers of N-Isopropylacrylamide and Vinyl Acetates for use in Cooling Materials

Hayato Sasaki, Hisashi Honda, Rokuro Fujita, Aki Tosaka, Kanako Sekimoto, Yukiumi Kita, Hideyuki Tukada

International Journal of Innovative Research in Technology & Science 4(1) 8-17 2016年査読有り
Influence of step morphology on the structural phase transition of the α-Al2O3(0001) surface

Aki Tosaka, Tatsuya Kitamura, Takuhiro Sugiyama, Koji Koyama, Yukichi Shigeta

Applied Physics Letters 104(22) 2014年6月
Strain induced intermixing of Ge atoms in Si epitaxial layer on Ge(111)

Aki Tosaka, Izumi Mochizuki, Ryota Negishi, Yukichi Shigeta

Journal of Applied Physics 113(7) 073511-073511 2013年2月21日
Direct observation of Si(111) √7 x √7-Co structure and its local electronic structure

Mayu Odagiri, Izumi Mochizuki, Yukichi Shigeta, Aki Tosaka

Appl. Phys. Lett. 97 151911 2010年査読有り
Development of Wide Ion Beam Profile Measurement Method for a Period-by-Period Extreme Ultraviolet Multilayer Milling System

Aki Tosaka, Yu Sakai, Toshihide Tsuru, Masaki Yamamoto

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 49(12) 126601 2010年査読有り
Development of a period-by-period EUV multilayer milling system for the final nm figure error correction by 0.1 nm per period

T. Tsuru, A. Tosaka, Y. Sakai, M. Yamamoto

9TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON X-RAY MICROSCOPY 186 012077 2009年査読有り
軟X線多層膜鏡の形状誤差補正のための大面積イオン銃を用いたミリング装置の開発

戸坂亜希, 酒井優, 津留俊英, 山本正樹

真空 51(3) 115-117 2008年
Reaction analysis of initial oxidation of silicon by UV-light-excited ozone and the application to rapid and uniform SiO2 film growth

Aki Tosaka, Hidehiko Nonaka, Shingo Ichimura, Tetsuya Nishiguchi

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 101(3) 034909 2007年2月査読有り
The comparative study of two dimensional condensation of Xe and Kr physisorbed on Ag(111) and Ag(100)

A Tosaka, Arakawa, I

SURFACE SCIENCE 600(5) 1071-1076 2006年3月査読有り
オゾン濃度その場測定によるUV光励起オゾン低温酸化プロセス中のO(^1D)の時間分布の解析

戸坂亜希, 西口哲也, 野中秀彦, 一村信吾

真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN 49(3) 123-125 2006年
Low-temperature oxidation of silicon using UV-light-excited ozone

A Tosaka, T Nishiguchi, H Nonaka, S Ichimura

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS 44(33-36) L1144-L1146 2005年査読有り
オゾン光解離励起状態酸素原子によるシリコン低温酸化

戸坂亜希, 西口哲也, 野中秀彦, 一村信吾

真空 = JOURNAL OF THE VACUUM SOCIETY OF JAPAN 48(5) 309-312 2005年
Observation of growth and structure of Kr films physisorbed on Ag(111) and Ag(100)

A Tosaka, T Mitake, T Miura, Arakawa, I

LOW TEMPERATURE PHYSICS 29(9-10) 776-779 2003年9月査読有り
単結晶金属表面上の物理吸着層を観察するための 2 パラメータ自動消光偏光解析装置の開発

見嶽太朗, 石井慶介, 戸坂亜希, 三浦崇, 荒川一郎

真空 46(8) 636-639 2003年8月20日
Lateral compression of a Xe film physisorbed on Ag(111)

S Igarashi, A Tosaka, T Hirayama, Arakawa, I

LANGMUIR 19(11) 4627-4632 2003年5月査読有り
Xe/Ag(111)の層成長における構造変化

五十嵐慎一, 戸坂亜希, 平山孝人, 荒川一郎

真空 43(4) 492-498 2000年4月20日
単結晶Ag上のXe吸着層の層成長における構造変化

五十嵐慎一, 戸坂亜希, 井口大介, 平山孝人, 荒川一郎

真空 43(3) 444-444 2000年3月20日
希ガス物理吸着層の層成長における構造相転移

五十嵐慎一, 阿部雪子, 入江泰雄, 神戸美雪, 戸坂亜希, 平山孝人, 荒川一郎

真空 42(3) 432-432 1999年3月

書籍等出版物

英語と日本語で学ぶ熱力学

Ruggero Micheletto, 戸坂亜希, Ruggero Micheletto (担当:共著)

共立出版 2015年10月24日 (ISBN: 432003595X)

講演・口頭発表等

反射高速電子回折によるα-Al2O3 (0001)面の√31×√31±R9°構造の解析

中島翔太, 戸坂亜希, 重田諭吉

2017年8月17日
Si(111) √3×√3-Au 表面の菊池パターンにおける局所表面ポテンシャルの影響

樋口森生, 萩原裕人, 戸坂亜希, 重田諭吉

2017年真空・表面科学合同講演会 2017年8月17日
Si(111) √3×√3-Ag表面に対する菊池パターンの強度計算

萩原裕人, 戸坂亜希, 重田諭吉

日本物理学会第72回年次大会 2017年3月17日
温度応答性高分子とアクリル酸ブチルを用いた新規冷却塗料の研究開発

佐々木隼人, 門倉萌衣子, 本多尚, 本多尚, 戸坂亜希, 戸坂亜希, 関本奏子, 関本奏子, 北幸海, 北幸海, 塚田秀行, 塚田秀行

高分子学会予稿集(CD-ROM) 2015年8月25日
反射高速電子線回折法によるAl₂O₃(0001)√31×√31R9°構造の解析

戸坂亜希, 杉山卓嘉, 小山浩二, 重田諭吉

日本物理学会講演概要集(CD-ROM) 2015年3月24日
Si(111)表面上のGe膜の固相エピタキシー成長におけるintermixing

吉田竜馬, 松岡理香, 戸坂亜希, 重田諭吉

日本物理学会講演概要集(CD-ROM) 2015年3月24日
反射高速電子回折による菊池線を用いたSi(111)表面歪みの測定

萩原裕人, 戸坂亜希, 重田諭吉

日本物理学会講演概要集(CD-ROM) 2015年3月24日
化学機械研磨処理したGaN(0001)表面の菊池線を用いた格子歪み評価

中田淳也, 小山浩司, 戸坂亜希, 重田諭吉

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2014年3月3日
歪み制御Si(111)√3×√3‐Ag表面上の金属状態

石井卓也, 戸坂亜希, 重田諭吉

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2014年3月3日
C12 RHEEDを用いたSic基板研磨表面のダメージ層評価(OS10 班磨技術(3))

小山浩司, 武田秀俊, 会田英雄, 中田淳也, 杉山卓嘉, 戸坂亜希, 重田諭吉

生産加工・工作機械部門講演会 : 生産と加工に関する学術講演会 2012年10月27日
大気中前処理条件によるα‐Al₂O₃(0001)面の構造変化

杉山卓嘉, 小山浩司, 戸坂亜希, 重田諭吉

日本物理学会講演概要集 2012年8月24日
化学機械研磨処理したGaN(0001)表面の昇温による構造変化の反射高速電子線回折法による研究

中田淳也, 杉山卓嘉, 小山浩司, 戸坂亜希, 重田諭吉

日本物理学会講演概要集 2012年8月24日
α‐Al₂I₃(0001)表面の構造相転移とステップ形状

杉山卓嘉, 小山浩司, 戸坂亜希, 重田諭吉

日本物理学会講演概要集 2012年3月5日
α‐Al₂O₃(0001)表面の構造相転移に与えるステップ構造の影響

杉山卓嘉, 小山浩司, 戸坂亜希, 重田諭吉

応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2011年8月16日

所属学協会

日本物理学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

Study of Rare Gas Films Physisorbed on Metal Surfaces

1998年 - 2004年
単結晶金属表面上の物理吸着層に関する研究

1998年 - 2004年

戸坂亜希

産業財産権

特許第5072287号基板の表面処理方法とその装置

西口哲也, 斉藤茂, 亀田直人, 戸坂亜希, 野中秀彦, 一村信吾
特許第4785497号酸化膜形成方法とその装置

戸坂亜希, 西口哲也, 一村信吾, 野中秀彦
特開2008-053560 基板の表面処理方法とその装置

西口哲也, 斉藤茂, 亀田直人, 戸坂亜希, 野中秀彦, 一村信吾
特開2006-270040 酸化膜形成方法とその装置

戸坂亜希, 西口哲也, 一村信吾, 野中秀彦