牟田浩司 (Hiroshi Muta) - マイポータル

基本情報

所属: 近畿大学産業理工学部教授

学位: 博士（工学）(九州大学)

J-GLOBAL ID: 200901032847091743
researchmap会員ID: 5000029735

経歴

2015年4月 - 現在

近畿大学産業理工学部, 電気電子工学科, 教授

委員歴

2002年

プラズマ・核融合学会, 広報委員

受賞

1986年

電気関係学会九州支部連合大会発表賞

論文

Characteristics of very high-frequency plasma with an underexpanded supersonic gas jet

Hiroshi Muta, Hiroyuki Taguchi, Teppei Yamanishi, Go Hirano, Satoshi Nishida

Vacuum 217 112530-1-112530-7 2023年11月査読有り筆頭著者
非平衡プラズマジェットCVD法によるシリコン製膜時に装置内圧力が製膜速度，膜質におよぼす影響

西田哲, 納土亮, 牟田浩司, 栗林志頭眞

化学工業論文集 41(2) 148-152 2015年査読有り
高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法

西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞

ながれ（日本流体力学会誌） 34(1) 15-20 2015年
140

Estimation of negative ions in VHF SiH4/H-2 plasma

Tsukasa Yamane, Shinya Nakano, Sachiko Nakao, Yoshiaki Takeuchi, Ryuta Ichiki, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 53(11) 116101-1-116101-4 2014年11月査読有り
244

Effect of gas flow rate on the high-rate, localized jet-deposition of silicon in SiH4/H-2 PE-CVD

Satoshi Nishida, Hiroshi Muta, Shizuma Kuribayashi

JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN 47(6) 478-482 2014年6月査読有り
Investigation of VHF argon plasma at high pressure by balanced power feeding using laser Thomson scattering

W. Chen, K. Ogiwara, K. Koge, K. Tomita, K. Uchino, Y. Kawai

Engineering Sciences Reports, Kyushu University 35(1) 6-11 2013年9月査読有り
66

Measurements of SiH4/H-2 VHF plasma parameters with heated Langmuir probe

T. Yamane, S. Nakao, Y. Takeuchi, H. Muta, R. Ichiki, K. Uchino, Y. Kawai

CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS 53(8) 588-591 2013年9月査読有り
138

VHF SiH4/H-2 plasma characteristics with negative ions

Tsukasa Yamane, Sachiko Nakao, Yoshiaki Takeuchi, Yasuhiro Yamauchi, Hiromu Takatsuka, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 228 S433-S436 2013年8月査読有り
154

Effect of VHF excitation frequency on localized deposition of silicon in non-equilibrium-plasma-enhanced CVD by an under-expanded supersonic jet

Shizuma Kuribayashi, Yoshihiro Tsunekawa, Shoji Akahori, Daisuke Ando, Jiro Nakamura, Satoshi Nishida, Hiroshi Muta, Yoshiaki Takeuchi, Yasuhiro Yamauchi, Hiromu Takatsuka

Surface and Coatings Technology 225 75-78 2013年6月25日査読有り
Behaviour of sheath voltage in negative ion plasma

J. Y. Zhang, R. Ichiki, Y. Kawai

11TH APCPST (ASIA PACIFIC CONFERENCE ON PLASMA SCIENCE AND TECHNOLOGY) AND 25TH SPSM (SYMPOSIUM ON PLASMA SCIENCE FOR MATERIALS) 441 12010 2013年査読有り
Development of a 915 MHz ECR plasma source

Yoshinobu Kawai, Kiichiro Uchino, Hiroshi Muta, Tobias Röwf

Vacuum 87 123-127 2013年1月1日
Control of large area VHF plasma produced at high pressure

Tatsuyuki Nishimiya, Tsukasa Yamane, Yoshiaki Takeuchi, Yasuhiro Yamauchi, Hiromu Takatsuka, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai

Thin Solid Films 519 6931-6934 2011年8月1日
Characteristics of SiH<inf>4</inf>/H<inf>2</inf> VHF plasma produced by short gap discharge

Tatsuyuki Nishimiya, Tsukasa Yamane, Sachiko Nakao, Yoshiaki Takeuchi, Yasuhiro Yamauchi, Hiromu Takatsuka, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai

Surface and Coatings Technology 205 2011年7月25日
Effect of excitation frequency on the spatial distributions of a surface wave plasma

Hiroshi Muta, Satoshi Nishida, Shizuma Kuribayashi, Naoki Yoshikawa, Ryota Komatsu, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai

Japanese Journal of Applied Physics 50(1) 01AB07-01AB07-4 2011年1月1日
Development of large diameter ECR plasma source

Yoshinobu Kawai, Kiichiro Uchino, Hiroshi Muta, Shinji Kawai, Tobias Röwf

Vacuum 84 1381-1384 2010年6月25日
Dominant ion species in VHF SiH4/H2 plasma

Yasuhiro Yamauchi, Tomoyoshi Baba, Tsukasa Yamane, Yoshiaki Takeuchi, Hiromu Takatsuka, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai

Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid State Physics 7 549-552 2010年5月27日
モノメチルシランを原料とするHotwire-CVDによるSiC製膜の反応シミュレーション

亀山尊寛, 西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞

化学工学会研究発表講演要旨集 2010 555-555 2010年
Development of VHF plasma source with short discharge gap for solar cells

Yasuhiro Yamauchi, Tomoyoshi Baba, Yoshiaki Takeuchi, Hiromu Takatsuka, Hiroshi Muta, Kiichiro Uchino, Yoshinobu Kawai

Plasma Processes and Polymers 6 2009年12月1日
Investigation of plasma parameters in a VHF plasma with narrow gap under high gaseous pressure

Hiroshi Muta, Shinichi Kishida, Masayoshi Tanaka, Yasuhiro Yamauchi, Tomoyoshi Baba, Yoshiaki Takeuchi, Hiromu Takatsuka, Yoshinobu Kawai

PLASMA PROCESSES AND POLYMERS 6 S792-S795 2009年査読有り
Large area SiH4/H-2 VHF plasma produced at high pressure using multi-rod electrode

Yasuhiro Yamauchi, Yoshiaki Takeuchi, Hiromu Takatsuka, Yuichi Kai, Hiroshi Muta, Yoshinobu Kawai

SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY 202(22-23) 5668-5671 2008年8月査読有り

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MISC

B132 非平衡プラズマジェットCVDに於けるSi結晶化度制御法の実験的研究(一般講演(3))

納土亮, 松永卓真, 井関将仁, 牟田浩司, 西田哲, 栗林志頭眞

熱工学コンファレンス講演論文集 2013 57-58 2013年10月18日
G212 非平衡プラズマCVDに於けるガス流速がSi成膜速度に及ぼす影響の解析(OS-17: プラズマ革新技術の展開(1))

松岡一樹, 岡本直樹, 安藤大輔, 中村次郎, 西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞

熱工学コンファレンス講演論文集 2012 435-436 2012年11月16日
超音速不足噴流を用いた非平衡プラズマCVDによるα/μc-Si:H膜成長

安藤大輔, 中村次郎, 恒川佳寛, 西田哲, 牟田浩司, 栗林志頭眞, 竹内良昭, 山内康弘, 高塚汎

電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2010(48) 5-10 2010年8月11日
バラン給電法によるVHFプラズマの特性

水野健太, 松岡正典, 牟田浩司, 西田哲, 栗林志頭眞, 竹内良昭, 山内康弘, 高塚汎

電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会 2010(48) 29-32 2010年8月11日
29pA06P Ar/N_2ECRプラズマ中のイオン温度特性解析(プラズマ基礎・応用)

牟田浩司, 古賀麻由子, 河合良信

プラズマ・核融合学会年会予稿集 (19) 205-205 2002年
29pA14P 915MHz ECRプラズマにおける電子温度のパワー吸収分布依存性(プラズマ基礎・応用)

板垣奈穂, 牟田浩司, 河合良信

プラズマ・核融合学会年会予稿集 (19) 209-209 2002年
制御PMLSM磁気浮上列車の浮上開始及び浮上停止動作シミュレ-ション

吉田欣二郎, 牟田浩司

九州大学工学集報 62(5) p553-560 1989年10月

書籍等出版物

プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

牟田浩司 (担当:分担執筆, 範囲:第9章超音速噴流を用いた高速・大面積均一な微結晶シリコン製膜プロセス)

サイエンス＆テクノロジー 2018年9月

所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

超音速噴流を用いたＶＨＦプラズマによる高速大面積微結晶シリコン製膜法の開発

科学研究費補助金 2013年4月 - 2016年3月

牟田浩司
狭ギャップ高圧VHFプラズマを用いた微結晶シリコン薄膜作製

科学研究費補助金 2008年4月 - 2011年3月

牟田浩司
中性粒子風と渦の極性反転

科学研究費補助金 2007年4月 - 2010年3月

田中雅慶
低温プラズマ表面修飾技術による酸化チタン微粒子の環境浄化機能の改善に関する研究

科学研究費補助金 2002年4月 - 2003年3月

山田憲二
ECRプラズマ中の電子速度分布関数と成膜の再現性に関する研究

科学研究費補助金 1998年4月 - 2000年3月

牟田浩司

牟田浩司

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