篠原 正典

J-GLOBALへ         更新日: 17/05/18 14:21
 
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研究者氏名
篠原 正典
 
シノハラ マサノリ
所属
佐世保工業高等専門学校
部署
電気電子工学科
職名
准教授
学位
博士(工学)(東北大学)

研究キーワード

 
 

研究分野

 
 

経歴

 
2003年
 - 
2004年
 東北大学電気通信研究所 研究員
 
2004年
 - 
2005年
 ウィスコンシン大学マディソン校 客員研究員
 
2002年
 - 
2007年
 長崎大学工学部電気電子工学科 助手
 
2007年
 - 
2009年
 長崎大学工学部電気情報工学講座 助教
 
2009年
 - 
2011年
 長崎大学大学院生産科学研究科システム科学専攻環境システム科学 助教
 

委員歴

 
2009年
   
 
 表面科学会 編集委員会
 
2004年
 - 
2006年
 プラズマ・核融合学会 「プラズマ-物質相互作用の科学」専門委員会 プラズマ・核融合学会「プラズマ-物質相互作用の科学」専門委員会委員(2004-2006)
 
2003年
 - 
2004年
応用物理学会  プラズマエレクトロニクス分科会幹事
 
2009年
 - 
2010年
応用物理学会  学術講演会 現地実行委員
 
2003年
   
 
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会  国際ワークショップ「プラズマナノテクノロジー」実行委員会 幹事 
 

受賞

 
2007年
日本MRS学会奨励賞
 

Misc

 
"Infrared spectroscopy study of adsorption of silane on Si(100)"
M. Shinohara, Y. Kimura, M. Saito and M. Niwano,
Surface Science ELSEVIER   502-503, 96 96-101   2002年
半導体表面・界面反応の赤外分光観察
庭野道夫、篠原正典、木村康男
応用物理学会   71(59) 1143-1147   2002年
Controllability of bonding configurations of hydrocarbon species in amorphous carbon films
M. Shinohara, H. Shibata, J. Hayashi, H. Shimada, Y. Matsuda and H. Fujiyama
proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing   1(1) 615-616   2006年
31. Deposition of Aluminum Doped Zinc Oxide Films by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering
Yoshinobu Matsuda, Yoshichika Nagano, Shiro Iwai, Masanori Shinohara, and Hiroshi Fujiyama
proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing   1(1) 433-434   2006年
PECVD法による炭素系薄膜形成の理解のためのリアルタイム赤外分光解析
篠原正典、松田良信、藤山 寛、中谷達行
表面技術協会ナノテク部会 第14回研究会資料   1(1) 7-11   2006年

講演・口頭発表等

 
プラズマーシリコン表面相互作用で誘起される欠陥生成メカニズムの解明2
新学術領域新学術全体会議   2011年   
プラズマプロセスの赤外分光解析
8. 原子分子光の素過程とプラズマ分光の研究フロンティア」「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会   2011年   
プラズマーシリコン表面相互作用で誘起される欠陥生成メカニズムの解明3
新学術領域新学術全体会議   2011年   
Behavior of hydrogen on Si surface during oxygen-plasma
Symposium of Plasma Processing 2004   2004年   
X-ray diffraction of magnesium oxide thin films produced by reactive ionized sputtering
Symposium of Plasma Processing 2004   2004年   

Works

 
low-K膜 形成過程の解明
2003年 - 2004年
第10回 プラズマエレクトロニクスサマースクールテキスト
2003年
第11回 プラズマエレクトロニクスサマースクールテキスト
2003年 - 2004年
ハーモニックECRプラズマによる極細管内壁コーティング法の研究
2005年 - 2007年
チューブの中のプラズマプロセス診断技術と膜堆積技術の創製によるチューブの高機能化
2006年 - 2008年

競争的資金等の研究課題

 
プラズマ固体表面相互反応の解析
科学研究費補助金
研究期間: 2001年   
プラズマCVD法を用いた炭素系薄膜の堆積過程の赤外分光法による解明
科学研究費補助金
研究期間: 2003年   
パイライト薄膜形成に関する研究
経常研究
研究期間: 1996年 - 1999年
SiおよびSiC結晶成長に関する研究
科学研究費補助金
研究期間: 1998年 - 2002年
水素プラズマとSi表面水素の相互作用に関する研究
科学研究費補助金
研究期間: 2001年   

特許

 
親水性炭素質膜の製造方法及び製造装置
115707