落合 幸徳

J-GLOBALへ         更新日: 17/01/09 19:16
 
アバター
研究者氏名
落合 幸徳
 
オチアイ ユキノリ
eメール
yukinori.ochiaijst.go.jp
URL
http://www.jst.go.jp/ihub/
所属
国立研究開発法人科学技術振興
部署
イノベーション拠点推進部
職名
推進PO(プログラムオフィサー)

研究分野

 

経歴

 
2015年4月
 - 
現在
国立研究開発法人科学技術振興機構 イノベーション拠点推進本部 推進PO(プログラムオフィサー)
 
2014年4月
 - 
2015年3月
国立研究開発法人産業技術総合研究所 つくばイノベーションアリーナ(TIA)推進本部 ナノテクノロジー・コーディネーター
 
2012年11月
 - 
2014年3月
国立研究開発法人産業技術総合研究所 ナノデバイスセンター事業推進室 ナノテクノロジー・コーディネーター
 
2009年1月
 - 
2012年10月
東洋合成工業株式会社 感光材研究所 所長
 
2005年9月
 - 
2008年12月
(独)科学技術振興機構 科学技術振興調整費室 プログラムオフィサー
 
1986年4月
 - 
2008年8月
日本電気株式会社(NEC) 基礎研究所、シリコンシステム研究所 研究課長
 
2006年
   
 
以下講師、留学、外部資金歴
 
2005年4月
 - 
2005年8月
筑波大学連携大学院教授
 
2003年
 - 
2005年
JST戦略的創造研究事業CREST研究員(2003-2005)
 
2002年
 - 
2005年
NEDOカーボンナノチューブ応用製品創製プロジェクト(飯島Pjリーダー)電子デバイス応用チームリーダー(2002-2005)
 
2004年7月
   
 
 北海道大学非常勤講師「カーポンナノチューブの電子デバイス応用」
 
2003年6月
   
 
 東京工業大学非常勤講師「先端微細加工技術」
 
2003年6月
   
 
 東京理科大学非常勤講師「先端微細加工技術とカーボンナノチューブの応用」
 
1989年
 - 
1990年
ケンブリッジ大学キャベンディッシュ研究所客員研究員 1989-1990
 

学歴

 
 
 - 
1986年
大阪大学 基礎工学研究科 電気工学専攻
 
 
 - 
1978年
広島大学 理学部 物性学科
 

委員歴

 
 
   
 
1. 日本応用物理学会欧文誌刊行会(IPAP)
 
2000年
 - 
2003年
  Editor(1997-99)、 Head Editor(2000-2003年度)
 
 
   
 
  (担当: Electron- Ion Beam Technology, Nanofabrication)
 
2003年
 - 
2007年
2. 日本応用物理学会代議員(2003-2007)
 
1996年
 - 
1997年
3. 日本応用物理学会学術講演会 世話人(7.ビーム応用)(1996-1997)、
 

受賞

 
2001年
日経BP機械技術賞(FIBを用いた立体ナノ構造形成技術) 皆藤、松井、落合、藤田
 
2003年
SEMI(セミ:半導体製造装置・材料協会)テクノロジーアワード「電子・イオンビームによるナノ加工とデバイス応用」落合幸徳
 
2004年
MicroProcesses and Nanotechnology国際会議 論文賞 J. Fujita, M. Ishida, T. Ichihashi, Y. Ochiai, T. Kaito, and S. Matsui, Graphitized Wavy Traces of Iron Particles Observed in Amorphous Carbon Nano-pillars”, Int. Conf on Microprocesses & Nanotechnology (MNC2003
 

Misc

 
Horizontally directional single-wall nanotubes grown by chemical vapor deposition with a local electric field
H. Hongo. F. Nihey, and Y. Ochiai,
J. Appl. Phys.   101 024325   2007年
Performance of nanomanipulator fabricated on glass capillary by focused-ion-beam chemical vapor deposition
R. Kometani, T. Hoshino, K. Kondo, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito, J. Fujita, M. Ishida, Y. Ochiai, and S. Matsui,
J. Vac. Sci. Technol.   B23 298   2005年
In situ observation of carbon-nanopillar tubulization process
T. Ichihashi, M. Ishida, Y. Ochiai, and J. Fujita
J. Vac. Sci. Technol.   B 22 3221   2004年
(2004)
Nanomechanical switch fabrication by focused-ion-beam chemical vapor deposition
T. Morita, K. Nakamatsu, K. Kanda, Y. Haruyama, K. Kondo, T. Hoshino, T. Kaito, J. Fujita, T. Ichihashi, M. Ishida, Y. Ochiai, T. Teshima, S. Matsui
J. Vac. Sci. Technol.   B22 3137   2004年
Nanomanipulator and actuator fabrication on glass capillary by focused-ion-beam-chemical vapor deposition
R. Kometani, T. Morita. K. Watanabe, T. Hoshino, K. Kondo, K. Kanda, Y. Haruyama, T. Kaito, J. Fujita, M. Ishida, Y. Ochiai, and S. Matsui,
J. Vac. Sci. Technol.   B22 257   2004年

書籍等出版物

 
「有機エレクトロニクス」長谷川悦雄編著、執筆担当: 第6章 新カーボンとデバイス応用、pp250-270、
工業調査会   2005年   ISBN:7-7693-1241-5
「ナノバイオ用語辞典」山科敦之編、監修: 石原直、馬場嘉信、落合幸徳、
オーム社   2005年   ISBN:4-274-50014-4
「実験化学講座28 ナノテクノロジーの化学」日本化学会編、編集委員 山崎陽太郎、山下敬郎、執筆担当:3.2.4節 ナノレジスト pp306-311、
丸善株式会社   2005年   ISBN:4-621-07327-3
「ナノテクノロジーハンドブック」、編集委員ならびに共著、 執筆担当: “5-1-1電子ビームナノリソグラフィー” pp181-184、
オーム社   2003年   ISBN:4-274-02498-9
「カーボンナノテクノロジーの基礎と応用」 (共著)、執筆担当; “5.2 ナノリソグフィとデバイス応用”、pp195-260、
サイペック   2003年   ISBN:4-89808-039-1

競争的資金等の研究課題

 
感光材、レジスト、微細加工技術、キャパシタ/電気二重層/リチウムイオン電池用各種電解液、イオン液体、細胞培養容器、バイオチップ

特許

 
カーボンナノチューブの製造方法およびカーボンナノチューブ構造体
特願2003-340984
炭素元素からなる円筒形物質の形成方法及びその形成装置
特願2003-361071
微小立体構造物形成方法
特願2003-086274
半導体装置及びその製造方法
特願2002-355416
レジスト材料及びレジストパターン形成方法
特願2002-066302