細野 秀雄

安達 千波矢, 藤本 弘 (担当:分担執筆, 範囲:金 正煥、 細野 秀雄 第21章 透明酸化物半導体の電極材料への応用 ―陰極への応用と実例―)

Alain Tressaud, Kenneth Poeppelmeier (担当:分担執筆, 範囲:Y. Kamihara, H. Hosono "19. Superconductivity in Iron Oxypnictide Induced by F-Doping")

Janglin Chen, Wayne Cranton, Mark Fihn (担当:分担執筆, 範囲:Toshio Kamiya , Hideo Hosono "Oxide TFTs")

細野 秀雄, 平野 正浩 (担当:監修)

細野 秀雄, 松尾 豊, 関山 和秀, 唐津 治夢 (担当:共著)

Peter D. Johnson (担当:分担執筆, 範囲:Chapter 1. Introduction: Discovery and Current Status)

小島由継 (担当:分担執筆, 範囲:原 亨和、北野 政明、細野 秀雄 第7章 高活性なアンモニア合成触媒)

水谷 仁 (担当:分担執筆)

日本学術振興会透明酸化物光, 電子材料, 委員会 編 (担当:分担執筆)

増本 健, 金森 順次郎, 馬越 佑吉, 福山 秀敏, 友野 宏, 中島 英雅, 北田 正弘 (担当:分担執筆, 範囲:鉄系高温超伝導)

edited by Zhe, Chuan Feng (担当:分担執筆, 範囲:Toshio Kamiya, Hideo Hosono "13. Amorphous In-Ga-Zn-O thin film transistors: fabrication and properties")

edited by, Boris I. Kharisov, Oxana V. Kharissova, Ubaldo Ortiz M?ndez (担当:分担執筆, 範囲:Koichi Kajihara, Linards Skuja, and Hideo Hosono "Chapter 5. Frenkel Defect Process in Silicon Dioxide")

Nan-Lin Wang, Hideo Hosono, Pengcheng Dai (担当:共著)

Somiya Shigeyuki (担当:分担執筆, 範囲:Chapter 6.4. New Frontiers Opened Up Through Function Cultivation in Transparent Oxides)

山口 真史 ほか (担当:分担執筆, 範囲:野村 研二、神谷 利夫、細野 秀雄 第6章．N型a-In-Ga-Zn-O/P型c-Siヘテロ接合型太陽電池の開発)

新日本編集企画 (担当:分担執筆, 範囲:松石 聡、細野 秀雄 第3節．鉄系超伝導体)

日本化学会 (担当:分担執筆, 範囲:第Ⅰ部1章 フロントランナーに聞く（座談会） 中村 栄一、玉尾 皓平、細野 秀雄)

村田貴士, 企画編集 (担当:分担執筆, 範囲:神谷 利夫、細野 秀雄 第25節 光学法,X線法によるアモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析)

Horst Rogalla, Peter H. Kes (担当:分担執筆, 範囲:4.5. Fe-Pnictides and -Chalcogenides)

Janglin Chen, Wayne Cranton, Mark Fihn, editors (担当:分担執筆, 範囲:5.3.4. Oxide TFTs)