細野 秀雄

J-GLOBALへ         更新日: 16/09/10 02:49
 
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研究者氏名
細野 秀雄
 
ホソノ ヒデオ
所属
東京工業大学
部署
科学技術創成研究院
職名
教授
学位
工学博士(東京都立大学)
科研費研究者番号
30157028
ORCID ID
0000-0001-9260-6728

経歴

 
1990年
   
 
-:名古屋工業大学 助教授
 
1995年
   
 
-:岡崎国立共同研究機構 助教授
 
1997年
   
 
-:東京工業大学 助教授
 
1999年
   
 
-:東京工業大学 教授
 

学歴

 
 
 - 
1982年
東京都立大学大学院 工学研究科 工業化学
 
 
 - 
1977年
東京都立大学 工学部 工業化学
 

受賞

 
2005年
文部科学大臣表彰(科学技術賞研究部門)
 
2006年
第3回本多フロンティア賞
 
2005年
JCerS優秀論文賞
 
2006年
第76回服部報公賞
 
1998年
市村学術賞
 

Misc

 
透明酸化物の機能探索から開けた新領域
細野秀雄
未来材料   10 2-8   2010年
鉄系高温超伝導体の特徴
神原陽一, 細野秀雄
電子材料 (工業調査会)   49 18-27   2010年
酸化物半導体新材料の設計とアモルファス酸化物TFT開発の現状
神谷利夫, 細野秀雄
鉱山   20-30   2010年
High Critical Current Density 4 MA/cm2 in Co-doped BaFe2As2 Epitaxial Films Grown on (La,Sr)(Al,Ta)O3 Substrates without Buffer Layers
Takayoshi Katase , Hidenori Hiramatsu , Toshio Kamiya, and Hideo Hosono
Applied Physics Express   3 063101   2010年
ありふれたものから、社会の役立つ新機能素材をつくる材料科学
細野秀雄
3(2) 3-5   2010年

書籍等出版物

 
12CaO窶「7Al2O3エレクトライドおよびLaOTMP
2009年   
鉄の高温超伝導、鉄137億年の宇宙誌1. 宮本、橘編
2009年   
透明アモルファス酸化物半導体とそのディスプレイへの展開、前田正史編
2009年   
第7章 光ファイバー
2009年   
第8章 有機EL技術開発の最前線
2008年   

講演・口頭発表等

 
Two Families of New Superconductors Discovered in our Materials Reseach on Transparent Oxide Semiconductors
2009年   
Impact of Subgap States on Peculiar Characteristics of Amorphous Oxide Thin-Film Transistor
Proc. IDW'09   2009年   
Electronic structures of defects and impurities in layered mixed anion compounds
Ext. Abstract of the 26th Int. Japan-Korea Seminar on Ceramics   2009年   
Defects and doping in amorphous oxide semiconductor studied by first-principles calculations
Ext. Abstract of the 26th Int. Japan-Korea Seminar on Ceramics   2009年   
Amorphous oxide semiconductor: Factors determining TFT performance and stability
9th Int. Meeting on Inf. Display (IMID2009)   2009年   

Works

 
透明アモルファス酸化物半導体の電子デバイスへの応用
芸術活動   2005年
C12A7エレクトライドの応用
芸術活動   2005年

競争的資金等の研究課題

 
透明酸化物半導体
欠陥エンジニアリングによる透明電子活性材料の創製
無機固体材料の電子構造制御