作道 訓之

J-GLOBALへ         更新日: 17/07/19 04:19
 
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研究者氏名
作道 訓之
 
サクドウ ノリユキ
所属
金沢工業大学
部署
金沢工業大学 産学連携室
職名
教授
学位
工学博士(東京大学), 工学博士

研究分野

 
 

経歴

 
1970年
 - 
1988年
日立製作所 中央研究所 主任研究員
 
1988年
 - 
1994年
日立製作所 日立研究所 技術主幹
 
1991年
 - 
1994年
茨城大学 工学部 非常勤講師
 
1994年4月
 - 
2013年3月
金沢工業大学 工学部 教授
 
2013年4月
 - 
2016年3月
金沢工業大学 大学院工学研究科 教授
 

学歴

 
 
 - 
1970年
東京大学 工学系研究科 電子工学
 
 
 - 
1965年
東京大学 工学部 電子工学
 

委員歴

 
1985年4月
 - 
1987年3月
(公社)応用物理学会  学会誌「応用物理」編集委員会・委員
 
1988年4月
 - 
1989年3月
IIT'88組織委員会  イオン打ち込み技術国際会議(IIT1988,Kyoto)プログラム委員会・委員
 
1989年4月
 - 
1991年3月
日本機械工業連盟  電磁波応用研究交流会委員
 
1990年3月
 - 
1991年12月
IS'91組織委員会  イオン源国際会議(IS'91, Bensheim, Germany)プログラム委員会・委員
 
1989年4月
 - 
1992年3月
イオン工学シンポジューム組織委員会  イオン工学シンポジューム実行委員会・委員
 

論文

 
Quadrupole Field in Circular Concave Electrodes
T.HAYASHI, 作道 訓之
Review of Scientific Instruments   39(7) 958-961   1968年7月   [査読有り]
任意形状の四重極電極で作られる電界を、高次の多重極電界に展開する方法を提案した。これを使って円筒形四重極電極の、厚みがゼロの場合と、無限大の場合の二つのケースについて最適化を行った。分担:研究及び論文の執筆全般を、指導教官である林友直氏のもとで行った。
Quadrupole Field in Circular Concave Electrodes with Finite Thickness
T.HAYASHI, 作道 訓之
Review of Scientific Instruments   40(7) 923-924   1969年7月   [査読有り]
円筒分割形四重極電極について、電極の厚みによって最適な電極開き角がどのように変わるかを、フィールドプロッティング法により求めた。但し、最適解の場合でも20重極以上の高次の成分は残るが、値は小さい。分担:研究の実行および論文の執筆全般を、指導教官である林友直氏のもとで行った。
Quadrupole Electrodes with Flat Faces
作道 訓之, T.HAYASHI
Review of Scientific Instruments   46(8) 1060-1062   1975年8月   [査読有り]
断面が多角形となる、複数の平板で構成された四重極電界を解析するため、等角写像を使った方法を提案した。具体的な電極の例として、向き合った面が平行になる形のものを解析し、最適形状を求めた。分担:研究の実行と論文の執筆全般を行った。林友直氏には全般的に助言を受けた。
Some Applications of Ion Microprobe Analysis to Problems in Semiconductor Devices
H.DOI, I.KANOMATA, 作道 訓之
Japanese J.of Applied Physics   15 71-78   1976年   [査読有り]
マイクロプローブ二次イオン質量分析計の感度向上のため、バックグランドノイズを抑制する新しい方法を提案し実験的に示した。また、固体試料表面の任意の領域だけを分析できる「マスク法」を提案し、実験的に効果を確認した。分担:「マスク法」のアイデアを出し、実験装置の設計と実験結果の検討を行った。
Display Device for Ion Beam Profile
作道 訓之, I.KANOMATA, H.TSUYAMA, E.MITANI
Review of Scientific Instruments   47(10) 1288-1292   1976年10月   [査読有り]
イオンビーム断面の強度分布を計測し、表示する装置を考案し製作稼働させた。従来、イオンビームの強度分布をその場で観察できる装置は無かった。比較器等の電子回路とビーム偏向系の組合せで、ビーム強度分布を等強度線表示させる装置を考案し、作製した。

Misc

 
マイクロ波イオン源
作道 訓之, 登木口 克己, 小池 英己, 鹿又 一郎
IONICS   16-22   1977年8月
マイクロ波イオン源の基本特性から応用までを具体例をあげて説明。分担:全体のまとめ。
Sputtered Neutral Mass Spectrometry Using Post-Ionization in a Microwave Plasma
T.ISHITANI, 作道 訓之, H.TAMURA, I.KANOMATA
Physics Letters   67(5) 375-378   1978年9月   [査読有り]
二次イオン質量分析計(SIMS)の分析感度を上げるため、試料からスパッタされる中性原子をマイクロ波放電によりイオン化する方法を試みた。従来より感度が向上することが分った。また、従来の方法では元素により感度に差があったが、この方法では差が小さくなった。分担:マイクロ波放電構造の設計及び実験結果の検討。
イオン空間電荷のセパレータ透過率への影響
登木口 克己, 田谷 俊陸, 作道 訓之, 鹿又 一郎
IONICS   11-16   1979年9月
ウィーンフィルタ型と扇形磁場型の質量分離器についてイオンビームの透過率を比較した結果、ウィーンフィルタのように電場を使うものは中和電子がなくなるため、透過率が悪いことを実例で説明した。分担:実験結果の検討。
破ろう常識、超えよう限界:私の発明手法
作道 訓之
発明   88(8) 44-45   1991年8月   [依頼有り]
全国発明表彰の恩賜賞を受賞した「有磁場マイクロ波プラズマエッチング技術の発明」に関して、発明に至る経緯などをもとに、創造性やひらめきを育てる方法について論じた。
高密度マイクロ波プラズマの形成と応用
作道 訓之
Sputtering & Plasma Processes   12(1) 11-21   1997年3月   [依頼有り]
工業的に応用されている、高密度のマイクロ波プラズマについて、その発生原理について説明し、具体的な応用例について述べた。また、イオンビームデポジションによる成膜への応用で重要になる、イオンビームのエネルギー値についても論じている。

書籍等出版物

 
LSIハンドブック
作道 訓之, 電子通信学会編 他
オーム社   1984年   
LSIに関する製造プロセス技術、装置技術およびLSIデバイス設計技術についてまとめたハンドブック。分担:4.5.1.イオン打込み装置
電子・イオンビームハンドブック 第2版
作道 訓之, 日本学術振興会編 他
日刊工業新聞社   1984年   
電子ビーム及びイオンビームの基礎から応用までをまとめたハンドブック。分担:6.2.高周波イオン源、6.2.1.RFイオン源、6.2.2.マイクロ波イオン源
エネルギービーム加工
作道 訓之, 精密工学会編 他
リアライズ社   1985年   
電子ビーム、イオンビームおよびレーザビームによる加工技術に関する著書。分担:5.注入
半導体立国
作道 訓之, 垂井 康夫監修
日刊工業新聞社   1991年   
日本半導体製造装置協会が行った座談会の内容をまとめたもの。第6章前工程の代表装置、酸化・ドーピング装置:わが国の半導体製造装置の立ち上げの時代(3)
"The Physics and Technology of Ion Sources, 2nd, Revised and Extended Edition"
I.BROWN, 作道 訓之, P.ROSE, G.PYDING, M.FARLEY, E.OKS, R.HOLLINGER, B.SHARKOV
Wiley-VCH, Germany   2004年8月   
イオン源に関する、学術参考書。全12章の中の第10章 Microwave Ion Sources の執筆を担当した。