上柿順一 (Jun'ichi Uegaki) - マイポータル

基本情報

所属: 株式会社エリオニクス

学位: 理学博士(東北大学)

J-GLOBAL ID: 201601002013873492
researchmap会員ID: B000265543

八王子刀道愛好会・会員

研究キーワード

研究分野

経歴

2022年10月 - 現在

（フリーランス）, イオン・電子ビーム照射装置設計コンサルタント
2020年1月 - 2022年9月

株式会社エリオニクス, 開発技術部, 主幹
2016年1月 - 2019年12月

株式会社エリオニクス, 監査役
2012年1月 - 2015年12月

国立研究開発法人理化学研究所, 大森素形材工学研究室, 支援研究員
1986年6月 - 2011年12月

株式会社エリオニクス, 開発技術部, 主幹
2001年4月 - 2011年3月

長岡技術科学大学, 技術開発センター, 客員教授
1984年6月 - 1986年5月

ブリティッシュ・コロンビア大学（カナダ）, TRIUMF （トライアンフ）研究所, 研究員
1981年1月 - 1984年5月

アルバータ大学（カナダ）, 原子核研究所, TRIUMF研究所派遣研究員
1976年9月 - 1980年12月

サスカチュワン大学（カナダ）, 加速器実験所, 研究員

学歴

1971年4月 - 1976年3月

東北大学大学院, 理学研究科博士課程, 原子核理学専攻
1966年4月 - 1970年3月

富山大学, 文理学部, 理学科物理学専攻
1963年4月 - 1966年3月

京都府立綾部高等学校

受賞

2000年3月

第30回中堅・中小企業新機械開発賞, 高加速電界放射型電子線描画装置の開発, 財団法人機械振興協会

上柿順一, 会社, エリオニクス

論文

Development of Ni‐P-Plated Inconel Alloy Mold for Imprinting on Pyrex Glass.

H.Mekaru, C.Okuyama, T. Tsuchida, M. Yasui, T.Kitadani, M, Yamasita、J.Uegaki, M. Takahashi

Japanese Journal of Applied Physics 48 (2009) 06FH06 48(6) 2009年6月査読有り
パイレックスガラスインプリントに適用したNi-Pめっきインコネル合金モールドの開発

銘苅春隆, 奥山千枝子, 土田智之, 安井学, 北谷武, 山下満, 上柿順一, 高橋正春

精密工学会学術講演会講演論文集 2009 431-432 2009年
Fabrication of glassy carbon molds using hydrogen silsequioxane patterned by electron beam lithography as O-2 dry etching mask

Yasui Manabu, Sugiyama Yoshinari, Takahashi Masaharu, Kaneko Satoru, Uegaki Jun-ichi, Hirabayashi Yasuo, Sugimoto Koh-ichi, Maeda Ryutaro

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 47(6) 5167-5170 2008年6月査読有り
Micro Lens Imprinted on Pyrex Glass by using Amorphous Ni‐P Alloy Mold.

H. Mekaru, T. Tsuchida, J.Uegaki, M. Yasui, M, Yamasita and

Microelectronic Engineering 85 (2008) 873 - 876. 85(5-6) 873-876 2008年5月査読有り
Micro press molding of borosilicate glass using plated Ni-W molds

Manabu Yasui, Masaharu Takahashi, Satoru Kaneko, Tomoyuki Tsuchida, Yasuo Hirabayashi, Kohichi Sugimoto, Jun-ichi Uegaki, Ryutaro Maeda

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS 46(9B) 6378-6381 2007年9月査読有り
Fabrication of glassy carbon molds using hydrogen silsequioxane patterned by electron beam lithography as O2 dry etching mask

M. Yasui, Y. Sugiyama, M. Takahashi, S. Kaneko, J. Uegaki, Y. Hirabayashi, R. Maeda

Digest of Papers - Microprocesses and Nanotechnology 2007; 20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 290-291 2007年査読有り
Active shielding suitable for electron-beam lithography systems

K Yamazaki, K Kato, K Ashiho, T Uda, K Fujiwara, N Takahashi, A Haga, T Sato, J Uegaki, Y Sakuma

IEEE TRANSACTIONS ON MAGNETICS 39(5) 3229-3231 2003年9月
RADIATIVE-CAPTURE OF POLARIZED NEUTRONS BY HYDROGEN BELOW THE PION-PRODUCTION THRESHOLD

JM CAMERON, CA DAVIS, H FIELDING, P KITCHING, J PASOS, J SOUKUP, J UEGAKI, J WESICK, HS WILSON, R ABEGG …

NUCLEAR PHYSICS A 458(4) 637-651 1986年10月査読有り
Measurement of the Electron Spin Transfer Efficiency in an Optically Pumped H￣ Ion Source.

J.Uegaki, P.W.Schmor, C.D.P.Levy, Y.Mori

Physics Letters 115A（1986）216. 115(5) 216-218 1986年4月14日査読有り
Analyzing Powers in the np → dγ Reaction at 180 and 270 MeV.

J.M.Cameron, C.A.Davis, H.Fielding, P.Kitching, J.Soukup, J.Uegaki, J.Wesick, H.S.Wilson, R.Abegg, D.A.Hutcheon …

Physics Letters 137B（1984）315. 137(5-6) 315-317 1984年査読有り
Analyzing Powers in the np → dγ Reaction at 185 and 270 MeV.

R. Abegg, J.M. Cameron, C.A. Davies, N.E. Davidson, G.W.R. Edwards, H.W. Fielding, G. Gaillard, M. Hindi, A.H. Hussein, D.A. Hutcheon …

Bull. Am. Phys. Soc. 30 (1985) 697. 137(5-6) 315-317 1984年査読有り
A measurement of the Wolfenstein R Parameter in Proton－4Helium Elastic Scattering at 500 MeV.

G.A.Moss, C.A.Davis, J.M.Greben, L.G.Greeniaus, G.Roy, J.Uegaki, R.Abegg, D.A.Hutcheon, C.A.Miller, W.T.H.van Oers

Nuclear Physics A392（1983）361. 392(2-3) 361-367 1983年査読有り
High Resolution High Energy Telescope Counters for（γ，charged particles）Reaction Studies.

J.Uegaki, L.O.Dallin, Y.M.Shin, C.Y.Kim

Nuclear Instruments and Methods，179（1981）55. 179(1) 55-60 1981年査読有り
A STUDY OF THE DECAY MODES OF THE G-9/2 AND I-11/2 ISOBARIC ANALOG RESONANCES IN BI-209 USING ELECTRONS AND BREMSSTRAHLUNG

J UEGAKI, K SHODA, M SUGAWARA, T SAITO, H TSUBOTA

NUCLEAR PHYSICS A 371(1) 93-110 1981年査読有り
The T> GDR and the Characteristic Decay Mode by the（e，p）Reaction on 139La and 141Pr.

J.Uegaki, K. Shoda

Nuclear Physics A341（1980）125. 341(1) 125-136 1980年査読有り
CHARGED-PARTICLE PHOTOEMISSION FROM CA-42

RE PYWELL, MN THOMPSON, K SHODA, M SUGAWARA, T SAITO, H TSUBOTA, H MIYASE, J UEGAKI, T TAMAE, H OHASHI …

AUSTRALIAN JOURNAL OF PHYSICS 33(4) 685-689 1980年査読有り
（γ，p ）Cross Sections and Isospin Splitting of the Giant Dipole Resonance in N = 50 Nuclei.

K. Shoda, H. Miyase, M.Sugawara, T.Saito, S.Oikawa, A.Suzuki, J.Uegaki

Nuclear Physics A239（1975）397. 査読有り
Photoproton Cross Section for 19F.

H.Tsubota, N.Kawamura, S.Oikawa, J.Uegaki

Journal of the Physical Society of Japan 38（1975）299. 査読有り
The T> Giant Resonance of 181Ta.

A.Suzuki, K.Shoda, M.Sugawara, T.Saito, H.Miyase, S.Oikawa, J.Uegaki, M.N.Thompson, K.J.F.Allen, H.J.Askin …

Nuclear Physics A257（1976）477. 査読有り
Study of the f7/2 Ground Isobaric Analog Resonance in the（e，e’p）Reaction on 139La and 141Pr.

J.Uegaki, K.Shoda

Nuclear Physics A294（1978）141. 査読有り

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MISC

EB装置内部におけるアクティブ磁気シールドの遮蔽効果

阿部康之, 佐藤智也, 芳賀昭, 山崎慶太, 加藤和夫, 佐久間征彦, 上柿順一

日本応用磁気学会学術講演概要集 = Digest of ... annual conference on magnetics in Japan 27 311-311 2003年9月1日
電子線描画装置に適したアクティブ磁気シールドの検討

山崎慶太, 加藤和夫, 足穂孝平, 宇田敬史, 平岡慎太郎, 藤原耕二, 高橋則雄, 佐藤智也, 芳賀昭, 上柿順一 …

電気学会研究会資料. MAG, マグネティックス研究会 2002(184) 53-59 2002年12月9日
ナノ電子ビーム描画装置とその応用技術

上柿順一

日本学術振興会荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第2回ナノビームテクノロジーシンポジウム技術研究会資料（ 2001年12月13～14日）ｐ．39 39 2002年
Performance of a Compact ECR Ion Source.

J.Uegaki

Proc. 12th Symp. On ISIAT’89, Tokyo (1989) 95 1989年
ダイヤモンド電子源の開発とその応用

植田暁彦, 西林良樹, 池田和寛, 辰巳夏生, 今井貴浩, 上柿順一, 布川博, 土田智之, 小若裕則, 本目精吾 …

（独）日本学術振興会真空ナノエレクトロニクス第158委員会第83回研究会資料（2010年6月24日）
メーカー側から見た電子線描画装置の動向

上柿順一

日本学術振興会荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第2回ナノビーム技術研究会資料（ 1997年5月15～16日）ｐ．68
高加速電界放射型電子線描画装置の開発

本目精吾, 上柿順一, 村山芳昭, 布川博, 伊藤太朗

機械振興 2000年3月号、ｐ．38 特集／第30回中堅・中小企業新機械開発賞（財）機械振興協会
エリオニクスのＥＢ描画装置

上柿順一

Electronic Journal 2005年6月号ｐ．106
Focused Ion Beam System equipped with 3D-CAD for Nano-scale Fabrication

J. Uegaki, T. Tsuchida, S. Yoshino, T. Shinotsuka, S. Honme

International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2006. Digest of Papers p.108.
集束イオンビームを利用した超高精度ナノ加工装置とその応用

上柿順一, 土田智之, 吉野修司, 篠塚聡哉, 本目精吾, 井原郁夫

（独）日本学術振興会荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第175回研究会資料（2007年1月26日）ｐ．17
高加速電圧電子線描画装置

田口佳男, 布川博, 上柿順一

（独）日本学術振興会荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第189回研究会資料（2010年1月29日）ｐ．31
超微細加工用125kV電子ビーム描画装置

土田智之, 小若裕則, 布川博, 上柿順一

（独）日本学術振興会荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会第191回研究会資料（2010年7月30日）ｐ．28
Application of Continuous Mltiple Loading with Spherical-tip Nano-indentation to Mechanical Property Evaluations of Industrial Materials

I.Ihara, T.Matsumoto, Y.Yajima, J.Uegaki, Y.Shima

IMECO 2010 TC3 and TC22 Conferences Metrology in Modern Context. Nov. 2010, Pattaya, Chonburi, Thailand. 査読有り

講演・口頭発表等

磁性流体研磨剤を使用した切削時同時研磨の試み

上柿順一

第26回テクニスト研究会 2015年7月31日招待有り
反射鏡による太陽光熱収集の試み

上柿順一

理研シンポジウム「明るい未来の光熱エネルギー」 2015年1月9日招待有り
電子ビーム描画装置の紹介とその技術継承に関する雑感

上柿順一

第5回技術継承フォーラム「ものづくり技能継承の現状と展望」 2013年1月21日招待有り
Nano scale Fabrication by using Focused Ion Beam Milling System

J. Uegaki

The Third International Conference on nano Manufacturing 2012年7月26日
集束イオンビームを利用した超微細加工装置と加工例

上柿順一

第42回マイクロ加工懇談会マイクロ加工研究会 2012年2月23日招待有り
ナノインデンテーション試験法の開発とその先進材料評価への適用

上柿順一

平成20年度長岡技術科学大学技術開発センタープロジェクト成果報告会「知の実践」 2008年9月26日

共同研究・競争的資金等の研究課題

ダイヤモンド電子銃を搭載した電子ビーム描画装置の開発

NEDO 課題設定型産業技術開発費助成金 2006年11月 - 2009年9月
ヘリコン波プラズマを用いたエッチング装置の試作

関東通商産業局技術改善費等補助金 1993年4月 - 1994年3月

上柿順一

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講演・口頭発表等

共同研究・競争的資金等の研究課題

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