国際会議 2016年5月 RT Atomic Layer Deposition of ZrO2 By Using Plasma Excited Water Vapor 229th ECS meeting K. Kanomata, K. Tokoro, T. Imai, P. P. Pansila, M. Miura, B. Ahmmad, S. Kubota, K. Hirahara, F. Hirose 記述言語 英語 会議種別 ポスター発表