講演・口頭発表等

国際会議
2019年7月

Low-temperature Atomic Layer Deposition of Yttrium Oxide using tris(butylcyclo pentadienyl) yttrium and a Plasma-Excited Humidified Argon

AVS 19th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2019)
  • Kentaro Saito
  • ,
  • K. Yosida
  • ,
  • K. Kanomata
  • ,
  • M. Miura
  • ,
  • B. Ahmmad
  • ,
  • K. Shigeru
  • ,
  • F. Hirose

記述言語
英語
会議種別
ポスター発表