従来のバリア放電に比べて、放電開始電圧が20%程度低いプラズマ源が開発された。プラズマ源はバリア表面に浮遊電位の銅箔を多数点在させたものであり、この新方式の放電機構が明らかになった。銅箔の周囲で電界が集中し、放電は初め銅箔で起こるが、やがて放電は2つの過程を経てバリア領域に移る。表面処理を行ったところ、水の接触角が86.2°であったポリエチレン表面が処理により75.0°に減少し、低温プラズマ源としてプロセスでの有効性を確かめた。