江利口浩二 (Koji Eriguchi) - マイポータル

金属元素が窒化ホウ素膜中のsp³結合形成に及ぼす影響

朝本雄也, 朝本雄也, 野間正男, 長谷川繁彦, 山下満, 占部継一郎, 江利口浩二

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 71st 2024年
金属元素が立方晶窒化ホウ素膜中の遷移層形成に及ぼす影響に関する研究

岡田晟良, 朝本雄也, 野間正男, 長谷川繁彦, 山下満, 占部継一郎, 江利口浩二

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 85th 2024年
イオンフラックス制御型反応性プラズマ支援成膜法による窒化ホウ素膜構造制御に関する研究

松田崇行, 濱野誉, 朝本雄也, 野間正男, 山下満, 長谷川繁彦, 占部継一郎, 江利口浩二

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年
熱電子供給型真空アーク放電の放電電流決定機構に基づくプロセス制御

朝本雄也, 松田崇行, 濱野誉, 野間正男, 長谷川繁彦, 山下満, 占部継一郎, 江利口浩二

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 82nd 2021年
Dry Process FOREWORD

Tatsuru Shirafuji, Keizo Kinoshita, Hiroshi Akatsuka, Koji Eriguchi, Takashi Ichikawa, Takanori Ichiki, Tatsuo Ishijima, Kenji Ishikawa, Kazuhiro Karahashi, Kazuaki Kurihara …

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 59 2020年6月
反応性プラズマ支援成膜法により堆積した窒化ホウ素薄膜の機械的特性と耐プラズマ性に関する研究

占部継一郎, 住平透, 野間正男, 山下満, 長谷川繁彦, 江利口浩二

日本航空宇宙学会中部・関西支部合同秋期大会講演論文集(CD-ROM) 56th 2019年
先端CMOS/メモリデバイスにおけるプラズマ加工技術の現状と課題

江利口浩二, 占部継一郎

応用物理 87(12) 895-901 2018年12月招待有り
Formation of superhard c-BN films on the body and edge of cutting tools by reactive plasma-assisted coating (RePAC)

江利口浩二

The 16th International Conference on Precision Engineering 941-8147 2016年11月査読有り
Reliability Projecting for ReRAM based on Stochastic Differential Equation (集積回路)

魏志強, 江利口浩二, 村岡俊作, 片山幸治, 安原隆太郎, 河合健, 早川幸夫, 島川一彦, 三河巧, 米田慎一

電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 116(3) 33-37 2016年4月14日
Molecular dynamics simulations of Si etching in Cl- and Br-based plasmas: Cl+ and Br+ ion incidence in the presence of Cl and Br neutrals (vol 118, 233304, 2015)

Nobuya Nakazaki, Yoshinori Takao, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 119(5) 2016年2月
反応性プラズマ支援成膜法により形成したBN膜の構造変化と密着性

野間正男, 山下満, 江利口浩二, 長谷川繁彦

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 63rd 2016年
Experimental demonstration of oblique ion incidence with sheath control plates during plasma etching of silicon

Proc. 37th International Symposium on Dry Process (DPS) 13-14 2015年11月査読有り
Silicon Nanowire Groeth on Si and SiO2 Substrate by Plasma Sputtering

Proc. 37th International Symposium on Dry Process (DPS) 139-140 2015年11月査読有り
Surface orientation dependence of plasma-induced ion bombardment damage in Si substrate

江利口浩二

Proc. 37th International Symposium on Dry Process (DPS) 211-212 2015年11月査読有り
A new evaluation method to characterize low-k dielectric damage during plasma processing

Proc. 37th International Symposium on Dry Process (DPS) 213-214 2015年11月査読有り
Role of Plasma Density in Damage Characterization and its Impact on Low-Damage Plasma Process Design

AVS 62nd International Symposium & Exhibition PS+AS+SS-WeA-10 2015年10月査読有り
Dry Process

M. Sekine, O. Sakai, K. Eriguchi, S. Higashi, T. Ichiki, K. Kinoshita

Japanese Journal of Applied Physics 54(6S2) 06G001-06G001 2015年5月20日査読有り
反応性プラズマ支援成膜法により形成したBN膜の粘弾性と密着性

野間正男, 山下満, 江利口浩二, 長谷川繁彦

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 62nd 2015年
Distribution Projecting the Reliability for 40 nm ReRAM and beyond based on Stochastic Differential Equation

Z. Wei, K. Eriguchi, S. Muraoka, K. Katayama, R. Yasuhara, K. Kawai, Y. Ikeda, M. Yoshimura, Y. Hayakawa, K. Shimakawa …

2015 IEEE INTERNATIONAL ELECTRON DEVICES MEETING (IEDM) 177-180 2015年査読有り
Surface Orientation Dependence of Ion Bombardment Damage during Plasma Processing

Yukimasa Okada, Koji Eriguchi, Kouichi Ono

2015 INTERNATIONAL CONFERENCE ON IC DESIGN & TECHNOLOGY (ICICDT) 2015年査読有り

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書籍等出版物

電子デバイス材料へのプラズマ誘起ダメージとその分析技術

『応用物理』第94巻第11号(p. 574-580) 2025年11月
半導体製造におけるエッチング技術

江利口浩二, 分担執筆, プラズマエッチングにおけるプラズマダメー (担当:共著, 範囲:プラズマエッチングにおけるプラズマダメージ発生機構)

株式会社シーエムシー出版 2025年
半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術

江利口浩二(分担執筆:プラズマエッチングのダメージについて(第3章第6節))

株式会社R&D支援センター 2022年
最新実用真空技術総覧

江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:第3編薄膜, 第7章ドライエッチング)

(株)エヌ・ティー・エス, 2019 2019年2月
先端CMOS/メモリデバイスにおけるプラズマ加工技術の現状と課題

江利口浩二, 占部継一郎 (担当:共著)

応用物理第87巻第12号 2018年12月
真空科学ハンドブック

江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:6.2 プラズマプロセス)

株式会社コロナ社(日本真空学会編) 2018年2月
プラズマプロセス技術

江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:第4章 4.4)

森北出版株式会社 2017年
プラズマプロセスの新しい応用

江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:先端プロセスとプラズマ誘起ダメージ)

ケミカルエンジニヤリング 2013年
Molecular Dynamics – Studies of Synthetic and Biological Macromolecules

江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:Application of Molecular Dynamics Simulations to Plasma Etch Damage in Advanced Metal–Oxide–Semiconductor Field-Effect Transistors)

InTech 2012年
Emerging Technologies and Circuits", Lecture Notes in Electrical Engineering

K. Eriguchi, M. Kamei, K. Okada, H. Ohta, K. Ono (担当:分担執筆, 範囲:Threshold Voltage Shift Instability Induced by Plasma Charging Damage in MOSFETS with High-K Dielectric)

Springer 2010年
半導体プロセスにおけるチャージング・ダメージ

江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:チャージングによるMOSデバイスのゲート酸化膜劣化)

リアライズ社 1996年
ロジックLSI技術の革新

江利口浩二 (担当:分担執筆, 範囲:アンテナ効果ダメージと評価技術)

サイエンスフォーラム社 1995年

講演・口頭発表等

Current Status and Future Perspectives of Plasma-Induced Damage and its Characterization

Koji Eriguchi

AVS 71th International Symposium & Exhibition 2025年9月22日招待有り
Time-dependent dielectric breakdown characterization of bulk boron nitride films in sp2-phase prepared by a reactive plasma assisted coating method

Y. Asamoto, M. Noma, S. Hasegawa, M. Yamashita, K. Urabe, K. Eriguchi

2024 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2024) 2024年
Diagnostics of Plasma Parameters and Surface Impedance by Measuring AC Probe Current at Harmonic Frequencies

J. Morozumi, K. Eriguchi, K. Urabe

AVS 70th International Symposium & Exhibition 2024年
Investigation of Highly Diffusive Point Defects During Si Plasma Etching

N. Kuboi, K. Saga, M. Miyoshi, T. Hamano, S. Kobayashi, T. Tatsumi, K. Eriguchi, Y. Hagimoto, H. Iwamoto

AVS 70th International Symposium & Exhibition 2024年
Effects of Si/N Ratio on Plasma-induced Damage Creation in Silicon Nitride Films

T. Goya, K. Urabe, K. Eriguchi

AVS 70th International Symposium & Exhibition 2024年
Characterization scheme for plasma-induced damage analysis of dielectric films with pre-existing defects

S. Kuronuma, K. Urabe, K. Eriguchi

45th International Symposium on Dry Process: DPS2024 2024年
Electrical and mechanical property changes of Si-rich SiN films due to plasma exposure: Experimental and first-principles calculation study

T. Goya, K. Urabe, K. Eriguchi

45th International Symposium on Dry Process: DPS2024 2024年
Effect of low-energy ion irradiation during deposition on dielectric breakdown of hexagonal boron nitride films

Y. Asamoto, M. Noma, S. Hasegawa, M. Yamashita, K. Urabe, K. Eriguchi

45th International Symposium on Dry Process: DPS2024 2024年
Prediction of ion irradiation-induced defect creation in ultimately scaled devices based on stochastic process

K. Eriguchi, K. Urabe

44th International Symposium on Dry Process: DPS2023 2023年
Characterization of H2-plasma-induced damage in InP substrates using optical and electrical methods

T. Goya, A. Kawashima, K. Urabe, K. Eriguchi

44th International Symposium on Dry Process: DPS2023 2023年
Plasma-Induced Damage: Modeling and Characterization

K. Eriguchi

2022 IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW) 2022年10月10日招待有り
Quantitative Characterization of Plasma-Induced Defect Creation in InP Substrates Using Conductance Analysis

T. Goya, Y. Kodama, A. Kawashima, Y. Zaizen, M. Fukasawa, K. Urabe, K. Eriguchi

AVS 68th International Symposium & Exhibition 2022年
Characterization of nano-network structure transition of boron nitride films by ion irradiation during the film growth

T. Hamano, T. Matsuda, Y. Asamoto, M. Noma, S. Hasegawa, M. Yamashita, K. Urabe, K. Eriguchi

43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022 2022年
In-situ electrical monitoring of SiO2/Si structures in low-temperature plasma using impedance spectroscop

J. Morozumi, T. Goya, K. Eriguchi, K. Urabe

43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022 2022年
Characterization methods of plasma process-induced damage to InP structures

T. Goya, Y. Kodama, A. Kawashima, Y. Zaizen, M. Fukasawa, K. Urabe, K. Eriguchi

43rd International Symposium on Dry Process: DPS2022 2022年
Plasma-induced damage

K. Eriguchi

2021 IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW), Reliability Experts Forum 2021年10月19日招待有り
Comprehensive Characterization of Surface Modification Mechanisms in Boron Nitride Films Prepared by a Reactive Plasma-assisted Coating Technique

K. Eriguchi, M. Noma, M. Yamashita, K. Urabe, S. Hasegawa

The 47th ICMCTF 2021年4月28日招待有り
Evaluation methodology for assessment of dielectric degradation and breakdown dynamics using time-dependent impedance spectroscopy (TDIS)

T. Kuyama, K. Urabe, K. Eriguchi

IEEE Int. Reliability Physics Symp (IRPS) 2021年3月24日
Electrical characterization of exposure time dependence of plasma-induced radiation damage to SiO2 films: Early-stage degradation turnover in the progressive phase

T. Kuyama, S. Yura, K. Urabe, K. Eriguchi

42nd International Symposium on Dry Process: DPS2021 2021年
A comprehensive analysis of defect state generation by ion bombardment at bottoms and sidewalls of deep holes in Si substrates

T. Hamano, K. Urabe, K. Eriguchi

42nd International Symposium on Dry Process: DPS2021 2021年

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所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

超高密度反応性プラズマ法による窒化ホウ素ナノ結晶集合体構造の信頼性物理の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2023年4月 - 2026年3月

江利口浩二
電子捕獲準位の誘電損失機構を活用したナノ薄膜の欠陥回復と信頼性向上に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的研究(萌芽) 2021年7月 - 2023年3月

江利口浩二
パラメータ分離型アーク放電による窒化ホウ素膜のsp結合制御と機能設計の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2020年4月 - 2023年3月

江利口浩二
ゆらぎの確率過程を用いたマイクロ流体デバイス内の現象予測と信頼性評価技術の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的研究(萌芽) 2017年6月 - 2019年3月

巽和也, 江利口浩二
確率過程モデルにもとづくナノ構造体における欠陥制御型プロセス設計手法の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究 2016年4月 - 2019年3月

江利口浩二, 巽和也, 魏志強
イオンエネルギー確率分布関数制御型プラズマによる窒化ホウ素薄膜の組成制御の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2015年4月 - 2018年3月

江利口浩二, 長谷川繁彦, 斧高一, 野間正男
プラズマによる表面ナノ周期構造形成に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2015年4月 - 2018年3月

斧高一, 江利口浩二
誘電率変調構造を有する有機系新機能素子を目指したプラズマ表面反応制御の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究 2013年4月 - 2016年3月

江利口浩二, 斧高一, 鷹尾祥典
統合型誘電率設計手法を用いた極低消費電力素子のナノ材料プロセスの研究開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2011年4月 - 2014年3月

江利口浩二, 斧高一, 鷹尾祥典
プラズマと薄膜表面・界面の階層的複合反応制御による次世代ナノ加工技術の構築

日本学術振興会科学研究費助成事業新学術領域研究(研究領域提案型) 2009年7月 - 2014年3月

斧高一, 江利口浩二, 鷹尾祥典
ナノスケールのプラズマ微細加工技術開発のためのプラズマ・固体表面相互作用の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2009年 - 2011年

斧高一, 江利口浩二
ナノ領域誘電率解析手法を用いたプラズマ・固相界面改質プロセスの研究開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2008年 - 2010年

江利口浩二, 斧高一, 太田裕朗
マイクロプラズマスラスタの研究開発:高温反応場と高速流れ場の競合現象の解明と制御

日本学術振興会科学研究費助成事業特定領域研究 2006年 - 2007年

斧高一, 江利口浩二, 高橋和生
塩素・臭素系混合プラズマの気相および固体表面におけるプラズマ化学の解明と制御

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2005年 - 2006年

斧高一, 江利口浩二

江利口浩二

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