論文

査読有り
2018年5月

Incident ion dose evolution of damaged layer thickness in Si substrate exposed to Ar and He plasmas

Jpn. J. Appl. Phys.
  • T. Hamano
  • ,
  • K. Eriguchi

57
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06JD02
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記述言語
英語
掲載種別
研究論文(学術雑誌)

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