論文

査読有り
2019年12月

Evaluation of residual defects created by plasma exposure of Si substrates using vertical and lateral pn junctions

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY B
  • Yoshihiro Sato
    • ,
  • Satoshi Shibata
    • ,
  • Keiichiro Urabe
    • ,
  • Koji Eriguchi
巻
38
号
1
記述言語
英語
掲載種別
研究論文（学術雑誌）
DOI
10.1116/1.5126344
リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1116/1.5126344
ID情報
  • DOI : 10.1116/1.5126344
  • ISSN : 0734-211X
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