2021年3月
Characterization techniques of ion bombardment damage on electronic devices during plasma processing—plasma process-induced damage
Jpn. J. Appl. Phys.
- 巻
- 60
- 号
- 開始ページ
- 040101
- 終了ページ
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
江利口 浩二
エリグチ コウジ (Koji Eriguchi)
更新日: 02/14