MISC

2013年4月

Novel process optimization approach for DMD-based grayscale 3D microstructuring photolithography

The 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System Technology
  • Y. Kato
    • ,
  • Yoshikazu Hirai
    • ,
  • F. van Kempen
    • ,
  • F. van Keulen
    • ,
  • K. Sugano
    • ,
  • Toshiyuki Tsuchiya
    • ,
  • Osamu Tabata
開始ページ
192
終了ページ
193
記述言語
英語
掲載種別
エクスポート
BibTeX RIS
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