三宅正男 (Masao Miyake) - マイポータル

基本情報

所属: 京都大学

ORCID iD: https://orcid.org/0000-0001-8208-4030
J-GLOBAL ID: 201401070441593925
researchmap会員ID: 7000008946

研究分野

経歴

2024年4月 - 現在

京都大学大学院エネルギー科学研究科, エネルギー応用科学専攻, 教授
2013年3月 - 2024年3月

京都大学大学院エネルギー科学研究科, エネルギー応用科学専攻, 准教授
2010年4月 - 2013年2月

京都大学大学院エネルギー科学研究科, エネルギー応用科学専攻, 助教
2007年4月 - 2010年3月

イリノイ大学アーバナ・シャンペーン校, 客員研究員
2007年4月 - 2009年3月

日本学術振興会海外特別研究員
2003年4月 - 2007年6月

東京大学生産技術研究所

学歴

2000年4月 - 2003年3月

京都大学大学院, 工学研究科材料工学専攻, 博士後期課程
1998年4月 - 2000年3月

京都大学大学院, 工学研究科材料工学専攻, 修士課程
1994年4月 - 1998年3月

京都大学, 工学部, 物理工学科材料科学コース
1991年4月 - 1994年3月

愛知県立新川高等学校

委員歴

2020年 - 現在

資源・素材学会, 代議員
2011年 - 現在

表面技術協会, 関西支部評議員
2023年 - 2024年

応用物理学会放射線分科会, 幹事
2015年 - 2020年

資源・素材学会, 会報誌編集委員
2013年 - 2015年

資源・素材学会, Journal of MMIJ 編集委員
2012年 - 2013年

資源・素材学会, 代議員

受賞

2021年

論文賞, 乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析, 表面技術協会

三宅正男, 平田瑞樹, 岡本弘晃, 平藤哲司
2015年

奨励賞, 資源・素材学会

論文

Achieving Single-Orientation VO ₂ Films by Substrate-Tuned Topotactic Oxidation

Hisato Nishii, Takumi Ikenoue, Masao Miyake

Crystal Growth & Design 25(21) 9268-9274 2025年10月13日査読有り最終著者責任著者
Mixed-Halide Inorganic Molten Salts with Moderately Lower Melting Points for Aluminum Electrodeposition

Ayumu Okubo, Kouhei Kiyama, Masao Miyake

ACS Electrochemistry 1(9) 1833-1839 2025年7月30日査読有り最終著者責任著者
Effects of Electrochemical Oxygen Reduction on Aluminum Electrodeposition from 1-ethyl-3-methylimidazolium Chloride and Acetamide Electrolytes

Shota Higashino, Takashi Yamamoto, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato, Masao Miyake

Journal of The Electrochemical Society 2025年6月18日査読有り最終著者責任著者
Role of BiCl₃ Additives for Aluminum Electrodeposition in Aluminum Trifluoromethanesulfonate-Based Electrolytes: A Critical Evaluation

Jingda Wu, Takumi Ikenoue, Masao Miyake

Journal of The Electrochemical Society 172(4) 042505-042505 2025年4月1日査読有り最終著者責任著者
Growth of rock-salt MgO–NiO–ZnO films: Relationship between lattice constant and composition

Shintarou Iida, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

Journal of Alloys and Compounds 1020 179272-179272 2025年3月査読有り
Ionic liquid electrolytes composed of AlCl3 and primary/secondary alkylamine hydrochlorides with varying alkyl chain lengths for Al electrodeposition

Takashi Kubo, Akihiro Tanaka, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato, Masao Miyake

Electrochimica Acta 514 145647-145647 2025年2月査読有り最終著者責任著者
Low-cost ionic liquid electrolytes based on low-molecular-weight primary and secondary alkylamine hydrochlorides for rechargeable Al batteries

Takashi Kubo, Tatsuo Yamamoto, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

Journal of Energy Storage 99 113332-113332 2024年10月査読有り責任著者
Optimal Oxidation Conditions Using Water Vapor for the Topotactic Formation of High-Quality Vanadium Dioxide Films from Vanadium Sesquioxide Epitaxial Films

Hisato Nishii, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

Crystal Growth & Design 24 5733-5739 2024年6月17日査読有り責任著者
Fabrication of epitaxial V2O3 thin films on Al2O3 substrates via mist chemical vapor deposition

Hisato Nishii, Shintarou Iida, Akira Yamasaki, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Toshiya Doi, Tetsuji Hirato

Journal of Crystal Growth 626 127484-127484 2024年1月査読有り
Toward Tungsten Electrodeposition at Moderate Temperatures Below 100 °C Using Chloroaluminate Ionic Liquids

Shota Higashino, Yoshikazu Takeuchi, Masao Miyake, Takuma Sakai, Takumi Ikenoue, Masakazu Tane, Tetsuji Hirato

Journal of The Electrochemical Society 170(5) 052501-052501 2023年5月1日査読有り
Fabrication of micron-sized three-dimensional porous Al from an Al–Zn monotectoid alloy via selective etching and Al passivation

Masao Miyake, Yuya Tanaka, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato

Journal of Materials Science 58(19) 8169-8177 2023年4月25日査読有り筆頭著者責任著者
Aluminum Barrel Plating on Steel Bolts Using Chloroaluminate Ionic Liquids

Miyake, M., Kita, T., Ikenoue, T., Hirato, T.

Journal of the Electrochemical Society 169(7) 072509-072509 2022年7月1日査読有り筆頭著者責任著者
Scalable Fabrication of Metal Halide Perovskites for Direct X-ray Flat-Panel Detectors: A Perspective †

Haruta, Y., Kawakami, M., Nakano, Y., Kundu, S., Wada, S., Ikenoue, T., Miyake, M., Hirato, T., Saidaminov, M.I.

Chemistry of Materials 34(12) 2022年6月10日査読有り招待有り
Aluminum Electrodeposition in Dry Air Atmosphere: Comparative Study of an Acetamide-AlCl₃ Deep Eutectic Solvent and a 1-Ethyl-3-Methylimidazolium Chloride-AlCl₃ Ionic Liquid

Yamagami, M., Higashino, S., Yamamoto, T., Ikenoue, T., Miyake, M., Hirato, T.

Journal of the Electrochemical Society 169(6) 062502-062502 2022年6月1日査読有り責任著者
Tungsten(II) chloride hydrates with high solubility in chloroaluminate ionic liquids for the electrodeposition of Al–W alloy films

Higashino, S., Takeuchi, Y., Miyake, M., Ikenoue, T., Tane, M., Hirato, T.

Journal of Electroanalytical Chemistry 912 116238-116238 2022年5月査読有り
Formation of Uniquely Oriented VO₂Thin Films by Topotactic Oxidation of V₂O₃Epitaxial Films on R-Plane Al₂O₃

Matamura, Y., Kimura, M., Ikenoue, T., Miyake, M., Hirato, T.

Crystal Growth and Design 22(5) 2022年4月12日査読有り責任著者
Dissolution Behavior of Hydrated Tungsten Chlorides in Chloroaluminate Ionic Liquids and It's Application in Aluminum–Tungsten Alloy Electrodeposition

Yoshikazu Takeuchi, Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato

ECS Meeting Abstracts MA2021-02(58) 2021年10月19日
Columnar Grain Growth of Lead-Free Double Perovskite Using Mist Deposition Method for Sensitive X-ray Detectors

Yuki Haruta, Shinji Wada, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

Crystal Growth & Design 21(7) 4030-4037 2021年6月17日査読有り
Mist CVD of vanadium dioxide thin films with excellent thermochromic properties using a water-based precursor solution

Yuya Matamura, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

Solar Energy Materials and Solar Cells 230(15) 111257-111287 2021年査読有り責任著者
One-Step Coating of Full-Coverage CsPbBr3 Thin Films via Mist Deposition for All-Inorganic Perovskite Solar Cells

Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

ACS Applied Energy Materials 3(12) 11523-11528 2020年12月28日査読有り

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MISC

112

乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析

三宅正男, 平藤哲司

表面技術 73(3) 118-122 2022年3月1日招待有り筆頭著者責任著者
イオン液体を用いたアルミニウム電解精製

津田哲哉, 細矢佳, 上田幹人, 宇井幸一, 三宅正男, 布村順司, 大谷良行, 兒島洋一

電気化学 89(1) 27-31 2021年3月5日査読有り招待有り
有機溶媒からのめっき

平藤哲司, 三宅正男

表面技術 71(12) 734-739 2020年12月査読有り招待有り
ミストデポジション法を用いたCs₂AgBiBr₆膜の作製

和田愼史, 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 81st 2020年
ミスト CVD 法による六方晶 MoO3 薄膜の作製

池之上卓己, 滝野天琴, 三宅正男, 平藤哲司

第11回ナノ構造・エピタキシャル成長講演会 2019年6月14日
乾燥空気中でのクロロアルミネート系イオン液体を用いたアルミニウム電析

三宅正男, 平田瑞樹, 池之上卓己, 平藤哲司

表面技術協会講演大会講演要旨集 2019年3月19日
ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長

股村雄也, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

表面技術協会講演大会講演要旨集 2019年3月18日
ミストデポジション法による CsPbBr3 厚膜の作製

春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2019年3月11日
ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長

木村信, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2019年3月9日
アルミニウム材新製造プロセス技術開発

兒島洋一, 布村順司, 津田哲哉, 宇井幸一, 上田幹人, 三宅正男

UACJ Technical Reports 6 51-59 2019年招待有り
ミストデポジション法で作製したCsPbBr₃厚膜とその放射線検出特性

春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
ミストCVD法によるMoO₂薄膜の作製と電気特性の評価

股村雄也, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 80th 2019年
Formation of a photocatalytic WO3 layer on electrodeposited Al-W alloy films by selective leaching and heat treatment

Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato

Joint International Symposium on Energy Science between Kyoto University and Indian Institute of Science 2018年12月3日
ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長

股村雄也, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司

表面技術協会第 20 回関西表面技術フォーラム 20 2018年11月22日
Growth of dense CsPbBr3 thin films by mist deposition method for all-inorganic perovskite solar cells

Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

Electronic Materials Symposium 37 Th1-17 2018年10月11日
Growth and conductivity control of epitaxial Li-doped NiO thin film by mist chemical vapor deposition method

Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

Electronic Materials Symposium 37 We2-19 2018年10月10日
ミストデポジション法を用いた全無機型ペロブスカイト太陽電池の作製

春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th ROMBUNNO.21a‐432‐4 2018年9月5日
Epitaxial growth of NiO thin ?lms on alpha-Al2O3 substrates by using mist CVD method

Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato

19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy P2-42 2018年6月7日
Electrodeposition of Al?W Alloys and Surface Modification by Anodization

Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato

22nd Topical Meeting of the International Society of Electrochemistry 2018年4月17日査読有り
銅電解アノードスライムの湿式塩化処理における金の浸出挙動

石井俊匡, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司

資源・素材(Web) 2018 ROMBUNNO.3112‐17‐02 (WEB ONLY) 2018年

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書籍等出版物

スマートウィンドウ(調光窓)の開発動向 (エレクトロニクスシリーズ)

三宅正男, 股村雄也, 池之上卓己, 平藤哲司 (担当:分担執筆, 範囲:6 スマートウィンドウに向けた二酸化バナジウム膜のミストCVD法による作製)

シーエムシー出版 2023年8月17日 (ISBN: 4781317464)
イオン液体の実用展開へ向けた最新動向

津田哲哉, 上田幹人, 宇井幸一, 三宅正男, 布村順司, 大谷良行, 兒島洋一 (担当:分担執筆, 範囲:4 イオン液体を用いたアルミニウムハイアップグレードリサイクル技術)

シーエムシー出版 2022年8月 (ISBN: 9784781316741)

講演・口頭発表等

155

塩化アルミニウム系無機イオン液体への臭化物添加の影響

大久保歩, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

表面技術協会第 149 回大会 2024年3月6日
低級アルキルアミン塩酸塩からなるクロロアルミネートイオン液体の特性比較

久保高志, 田中暉大, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

表面技術協会第 149 回大会 2024年3月5日
水系電解液からのAl電析の可能性の検証

Wu Jingda, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

第 25 回関西表面技術フォーラム 2023年12月1日
Control of grain size and effect of PAN addition in MA3Bi2I9 films for X-ray detection

Y. Nakano, T. Ikenoue, M. Miyake, T. Hirato

42nd Electronic Materials Symposium 2023年10月13日
Orientation control of VO2 thin films via topotactic oxidation

H. Nishii, H. Saito, T. Ikenoue, M. Miyake, T. Hirato

42nd Electronic Materials Symposium 2023年10月12日
PAN 添加溶液を用いた高感度 MA3Bi2I9 膜の作製

中野佑宇唯, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

第 84 回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月20日
サファイア基板上エピタキシャル V2O3 薄膜のトポタクティック酸化による VO2 薄膜の方位制御

西井飛智, 齋藤輝, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

第 84 回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月20日
エチルアミン塩酸塩–ジメチルアミン塩酸塩–AlCl3 電解液を用いたアルミニウムイオン電池の性能評価

久保高志, 山本龍雄, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

電気化学会第91回大会 2023年9月11日
Epitaxial Growth of β-Ga2O3 Films on MgO Substrate via Mist Chemical Vapor Deposition Method

Takumi Ikenoue, YongJin Cho, Vladimir Protasenko, Chandrashekhar, Prakash Savan, Bennett J Cromer, Masao Miyake, Tetsuji Hirato, Michael Thompson, Debdeep Jena, Huili Grace Xing

The 6th U.S. Gallium Oxide Workshop 2023年8月14日
イオン液体を用いたアルミニウム電析とミストCVDによる半導体製膜

三宅正男

日本学術振興会素材プロセシング第69委員会第2分科会（新素材関連技術）[第76回] 研究会] 2023年7月25日招待有り
Epitaxial Growth of Lattice-Matched NiMgZnO Films on MgO Substrate via Mist Chemical Vapor Deposition

Takumi Ikenoue, Shintaro Iida, YongJin Cho, Vladimir Protasenko, Bennett J Cromer, Chandrashekhar, Prakash Savan, Masao Miyake, Tetsuji Hirato, Michael Thompson, Debdeep Jena, Huili Grace Xing

65th Electronic Materials Conference 2023年6月28日
アルキルアミン塩酸塩/AlCl3 イオン液体を用いたアルミニウム空気電池

後藤晃毅, 山本龍雄, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

電気化学会第90回大会 2023年3月27日
PEAI を含む溶液からの高抵抗 (CH3NH3)3Bi2I9 膜の成膜

川上未央子, 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

第 70 回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月17日
VO2安定領域でのトポタクティック酸化による単一配向VO2薄膜の作製

西井飛智, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

第 70 回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月16日
イソプロピルアミン塩酸塩–AlCl3イオン液体からのアルミニウム電析

田中暉大, 山本恭司, 山本龍雄, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司

表面技術協会第 146 回講演大会 2023年3月7日
非水溶媒浴を用いたアルミニウム電析とその応用

三宅正男

資源・素材学会 2023年度春季大会 2023年3月7日招待有り
イオン液体および深共晶溶媒を用いたAl めっき

三宅正男

表面技術協会めっき部会 10 月例会 2022年10月24日招待有り
The relationship between the composition and lattice constant of MgO-NiO-ZnO semiconductors

S. Iida, T. Ikenoue, M. Miyake, T. Hirato

41st Electronic Materials Symposium 2022年10月21日
Large-area fabrication of MA3Bi2I9 films via mist deposition method

Y. Nakano, M. Kawakami, Y. Haruta, T. Ikenoue, M. Miyake, T. Hirato

41st Electronic Materials Symposium 2022年10月21日
Preparation of MA3Bi2I9 Thick Films via Mist Deposition Method for X-Ray Detection

M. Kawakami, Y. Haruta, T. Ikenoue, M. Miyake, T. Hirato

41st Electronic Materials Symposium 2022年10月19日