産業財産権

特許権

純度が向上したシリコンの製造方法

  • 安田 幸司
  • ,
  • 野平 俊之

出願番号
特願2015-184164
出願日
特許番号/登録番号
特許6,739,803号
登録日
2020年7月28日
発行日

PCT国際特許 WO 2017/047798 [国際出願日 平成28年5月23日]