特許権 純度が向上したシリコンの製造方法 安田 幸司, 野平 俊之 出願番号 特願2015-184164 出願日 特許番号/登録番号 特許6,739,803号 登録日 2020年7月28日 発行日 PCT国際特許 WO 2017/047798 [国際出願日 平成28年5月23日]