産業財産権

特許権

偏極キセノンガスの濃縮方法及び偏極キセノンガスの製造供給装置

  • 藤原 英明
  • ,
  • 今井 宏彦
  • ,
  • 井口 智史
  • ,
  • 吉村 弘伸
  • ,
  • 木村 敦臣

出願番号
特願2010-522738
出願日
2009年7月29日
特許番号/登録番号
特許5191543
登録日
2013年2月8日
発行日