磁場制御電子ビーム誘導による三次元形状金型の表面平滑化を目的とし，EBポリッシングによる高アスペクト比穴底面の表面平滑化を試みた．磁場制御の基礎的検討として磁石を工作物下部に設置し，電磁場解析によって電子ビーム照射時の工作物近傍における磁力線分布を算出した．電子は磁力線に対してらせん運動しながら進む性質があるため，解析で得られた磁力線分布から電子ビームを穴底面に誘導できる可能性を見出した．高アスペクト比穴底面試料に対して磁場制御下で電子ビームを照射した結果，穴底面中心部から端部まで電子ビームを誘導することができ，穴底面全面を均一に平滑化できることを明らかにした．