2007年
電子ビーム励起プラズマ装置によるB-C-N薄膜生成
表面科学講演大会講演要旨集
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B-C-NとはB(ホウ素),C(炭素),N(窒素)から成る化合物であり,特にBC2Nは高硬度,低摩擦係数などの諸性質を持つ.その為,硬質コーティング材としての薄膜生成が望まれる.しかし,現在のところB-C-N薄膜中の窒素構成比の制御が困難,膜厚が低いなどの問題がある.<BR> そこで本研究では新しいプロセスのスパッタ装置としてプラズマ自体のパラメータを緻密に制御可能な電子ビーム励起プラズマ装置を用い,B-C-N薄膜の生成を目指す.