立体保護能の高いかさ高い置換基として、(Tip)_2C_6H_3基、(Mes)_2C_6H_3基、および(Dip)_2C_6H_3基を用い、ゲルマニウム元素上に、tBuMe_2Si基およびSiMe_3基を導入したジヒドロゲルマンの合成に成功した。さらに、ゲルマニウム上の水素を一つだけ臭素に置き換えた化合物1を合成することに成功した。1はゲルマニウム上にシリル基、臭素、水素という3つの異なる官能基が配置されているため、反応試薬の違いにより、アニオンを作り分けられる。この結果は高周期14族元素の多重結合を効率的に合成するための鍵試薬として用いることができる可能性をしめしており、大変興味深い。