伊藤治彦 (Haruhiko Ito) - マイポータル

基本情報

J-GLOBAL ID: 201801002666548192
researchmap会員ID: 7000022289

経歴

2007年4月 - 現在

長岡技術科学大学准教授
1994年4月 - 2007年3月

長岡技術科学大学助教授
1989年1月 - 1994年3月

長岡技術科学大学助手
1988年4月 - 1988年12月

分子科学研究所日本学術振興会特別研究員

論文

Quantitative NEXAFS and solid-state NMR studies of sp(3)/(sp(2) + sp(3)) ratio in the hydrogenated DLC films

XiaoLong Zhou, Sarayut Tunmee, Tsuneo Suzuki, Pat Phothongkam, Kazuhiro Kanda, Keiji Komatsu, Seiichi Kawahara, Haruhiko Ito, Hidetoshi Saitoh

DIAMOND AND RELATED MATERIALS 73(1) 232-240 2017年3月査読有り
Investigation of pitting corrosion of diamond-like carbon films using synchrotron-based spectromicroscopy

Sarayut Tunmee, Pat Photongkam, Chanan Euaruksakul, Hiroki Takamatsu, XiaoLong Zhou, Pornwasa Wongpanya, Keiji Komatsu, Kazuhiro Kanda, Haruhiko Ito, Hidetoshi Saitoh

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 120(19) 1-10 2016年11月査読有り
Changes of chemical structure of hydrogenated amorphous silicon carbide films with the application of radio-frequency bias voltages during chemical vapor deposition

Haruhiko Ito, Takeshi Ogaki, Motoki Kumakura, Shunsuke Saeki, Tsuneo Suzuki, Hiroki Akasaka, Hidetoshi Saitoh

DIAMOND AND RELATED MATERIALS 66(1) 1-9 2016年6月査読有り
Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar

H. Ito, M. Kumakura, T. Suzuki, M. Niibe, K. Kanda, H. Saitoh

japanese Journal of Applied Physics 55(06HC01) 1-9 2016年5月20日査読有り
Contribution of CN(X-2 Sigma(+)) radicals to N atoms of hydrogenated amorphous carbon nitride films formed from the microwave discharge of the gas mixture of N-2 and CH3CN

Haruhiko Ito, Nobuyoshi Mogi, Kohtaro Okada, Hiroki Tsudome

DIAMOND AND RELATED MATERIALS 63(3月) 125-131 2016年3月査読有り
Influence of voltage on etching rate of hydrogenated amorphous carbon films with HNO3 studied using surface plasmon resonance

Sarayut Tunmee, Yasuyuki Nakaya, XiaoLong Zhou, Satoru Arakawa, Keiji Komatsu, Haruhiko Ito, Hidetoshi Saitoh

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(2) 1-4 2016年2月査読有り
Precursor of N atoms of hydrogenated amorphous carbon nitride films formed from the microwave discharge of C2H2/N-2 gas mixture

Haruhiko Ito, Hiroki Tsudome, Nobuyoshi Mogi, Hidetoshi Saitoh

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(1) 1-9 2016年1月査読有り
Production of CH(A2) radicals from the dissociative excitation reaction of C2H2 with microwave discharge flow of Ar

Haruhiko Ito, Hiroki Tsudome

Japanese Journal of Applied Physics 54(06GA04) 1-8 2015年6月1日査読有り
Laser-Spectroscopic measuremeents of the Free Radicals Produced from the Disssociation of C2H2 with the Miccrowave Discharge Flow of Ar

Haruhiko Ito, Hiroki Tsudome

Transactions of Material Research Society of Japan 40(1) 33-36 2015年3月20日査読有り
Study of Synchrotron Radiation Near-Edge X-Ray Absorption Fine-Structure of Amorphous Hydrogenated Carbon Films at Various Thicknesses

Sarayut Tunmee, Ratchadaporn Supruangnet, Hideki Nakajima, XiaoLong Zhou, Satoru Arakawa, Tsuneo Suzuki, Kazuhiro Kanda, Haruhiko Ito, Keiji Komatsu, Hidetoshi Saitoh

JOURNAL OF NANOMATERIALS 2015(276790) 1-7 2015年査読有り
Mechanism of Production of CN((XI)-I-2 (+)) pound Radicals from the Decomposition Reaction of CH3CN with Microwave Discharge Flow of Ar

Haruhiko Ito, Katsuaki Koshimura, Ayumi Yamamoto, Hiroki Tsudome, Nurul Izzaty Binti Zamri, Hitoshi Araki, Akira Wada

PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING 34(4) 837-851 2014年7月査読有り
Analysis of the Production of the CH(A2) State from the Dissociative Excitation of Tetramethylsilane in the Electron-Cyclotron Resonance Plasma of Ar: The H2O-Addition Method

Haruhiko Ito, Rie Gappa

Japanese Journal of Applied Physics 53(3) 1-7 2014年3月査読有り
Fabrication of a-CNx films by RF-plasma decomposition of BrCN

H. Ito, K. Okada, T. Tsuda, H. Akasaka, H. Saitoh

Transactions of Material Society ofJapan 38(4) 677-680 2013年12月31日査読有り
Comprehensive Classification of Near-Edge X-ray Absorption Fine Structure Spectra of Si-Containing Diamond-Like Carbon Thin Films

Kazuhiro Kanda, Masahito Niibe, Akira Wada, Haruhiko Ito, Tsuneo Suzuki, Tsuguyori Ohana, Naoto Ohtake, Hidetoshi Saitoh

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 52(9) 1-4 2013年9月査読有り
(Me3N)Mo(CO)5‑Catalyzed Reduction of DMF by Disiloxane and Disilane Moieties: Fate of the Silicon-Containing Fragments

Hemant K. Sharma, Renzo Arias-Ugarte, David Tomlinson, Rie Gappa, Alejandro J, Metta-Magaña

Organometallics 32(14) 3788-3794 2013年7月査読有り
Analysis of Dissociative Excitation Reaction of Tetramethylsilane with Microwave Discharge Flow of Ar

Haruhiko Ito, Rie Gappa

Transactions of Materials Research Society of Japan1nihonn 38(2) 239-242 2013年6月30日査読有り
Fabrication of Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of

H. Ito, S. Onitsuka, R. Gappa, H. Saitoh, R. Roacho, K. H. Pannell, T. Suzuki, M. Niibe, an

Journal of Physics Confference Series 441(012039) 1-4 2013年6月13日査読有り
Source of nitrogen atoms of amorphous carbon nitride films fabricated with microwave-plasma CVD processes

H. Ito, A. Yamamoto, T. Suzuki, H. Saitoh

Transacctions of Material Research Society of Japan 38(1) 31-34 2013年3月31日査読有り
Dissociative Excitation of C2H2 in the Electron Cyclotron Resonance Plasma of Ar:Production of CH(A2) Radicals and Formation of Hydrogenated Amorphous Carbon Films

H. Ito, K. Koshimura, S. Onitsuka, K. Okada, T. Suzuki, H. Akasaka, H. Saitoh

Plasma Chemistry and Plasma Processing 32(2) 231-248 2012年4月査読有り
Precursors of a-CNx(:H) films from the decompositions of BrCN and CH3CN with the discharged products of Ar

Haruhiko Ito, Ayumi Yamamoto, Hitoshi Araki, Akira Wada

DIAMOND AND RELATED MATERIALS 24(1) 121-125 2012年4月査読有り

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MISC

アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測

伊藤治彦

New Diamond 92(1) 44-50 2009年1月
アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測

伊藤治彦

New Diamond 91(1) 48-54 2008年10月
アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測

伊藤治彦

New Diamond 90(1) 45-51 2008年7月
アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測

伊藤治彦

New Diamond 89(1) 45-49 2008年4月
Optimization of the Electric-Field Emission Type Microplasma Device Based on the Spectroscopic Measurement of Hydrogen-Containing Free Radicals

Scientific Research on Priority Area, "Generation of Micro-Scale Reactive Plasmas and Development of Their New Applications", Summary Report 39-42 2008年3月
アモルファス炭素系材料合成のためのプラズマ分子分光計測

NEW DIAMOND 24(1) 36-38 2008年1月
Mechanism of Dissociative Excitation of BrCN in Electron Cyclotron Resonance

18th International Symposium on Plasma Chemistry, Full-paper CD,30Ｐ-17 1-4 2007年8月

講演・口頭発表等

Synthesis and Structural Analysis of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitrides with High [N]/([N]+[C]) Ratios

Haruhiko Ito, Kennya Hiramatsu, Hidetoshi Saitoh

IUMRS-ICAM2017 2017年8月31日 MRS-J
CN(X2-sigma+) Radicals as the Precursor of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films

H. Ito

IPS2016 2016年6月29日 International Science Committie of IPS
Si(CH3)4の放電分解によるa-SiCx:H薄膜の形成 ― 表面O原子と膜厚に関する考察

伊藤治彦

2017年第64回応用物理学会春季学術講演会 2016年3月16日応用物理学会
Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar

H. Ito, M. Kumakura, T. Suzuki, M. Niibe, K. Kanda, H. Saitoh

Dry Process Symposium 2015 2015年11月6日応用物理学会
Precursor of N atoms of Hydrogeneated Amorphous Carbon Nitride Films Formed from the Microwave Discharge of C2H2/N2 Gas Mixture

Haruhiko Ito, Hiroki Tsudome, Nobuyoshi Mogi

ISPlamsa 2015 2015年3月30日応用物理学会
Production of CH(A2) Radicals from the Dissociative Excitation Reaction of C2H2 with Microwave Discharge Flow of Ar

H. Ito, H. Tsudome

Dry Process Symposium 2014 2014年11月28日応用物理学会
Laser-Induced Fluorescence Measurements on the Microwave-Plasma Flow Producing Amorphous Carbon Nitrides with High [N]/([N]+[C]) Ratios

IUMRS-ICA2014 2014年8月28日 Materials Society of Japan
Laser-Spectroscopic Measurements of the Free Radicals Produced from the Dissociation of C2H2 with the Microwave Discharge Flow of Ar

IUMRS-ICA2014 2014年8月28日 Materials Society of Japan
「光と薄膜」―プラズマの分光計測にもとづく炭素系薄膜の材料設計

伊藤治彦

第61回応用物理学会春季学術講演会 2014年3月17日応用物理学会招待有り
高い窒素含有率を有するアモルファス窒化炭素薄膜の一般的合成法の確立

伊藤治彦

第27回ダイヤモンドシンポジウム 2013年11月21日ニューダイヤモンドフォーラム
Mechanism of the Production of the CH(A2) State from the Dissociative Excitation of Tetramethylsilane in the Electron-Cyclotron Resonance Plasma of Ar

H. Ito, R. Gappa

DPS2013 2013年8月30日 The Japan Society of Applied Physics
Mechanism of Film hardening of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films Fabricated by the Decomposition of Tetramethylsilane with the Microwave Discharge Flow of Ar

Haruhiko Ito, Takeshi Ohgaki, Hiroki Akasaka, Hidetoshi Saitoh

ISSP2013 2013年7月10日 The Vacuum Society of Japan
アモルファス炭化ケイ素薄膜の硬質化メカニズム

伊藤治彦, 大柿猛, 赤坂大樹, 斎藤秀俊

第６０回応用物理学会春季学術講演会 2013年3月28日応用物理学会
アモルファス窒化炭素薄膜の窒素源について

伊藤治彦, 山元愛弓, NURUL IZZATY, BINTI ZAMRI, 鈴木常生

第６０回応用物理学会春季学術講演会 2013年3月28日応用物理学会
Fabrication of Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Tetramethylsilane using ECR Plasma of Ar

H. Ito, S. Onitsuka, R. Gappa, H. Saitoh, R. Roacho, K. H. Pannell, T. Suzuki, M. Niibe, K. Kanda

APCPST & SPSM 2012 2012年10月3日日本学術振興会第１５３小委員会、他
Source of nitrogen atoms of amorphous carbon nitride films fabricated with microwave-plasma CVD processes

H. Ito, A. Yamamoto, T. Suzuki, H. Saitoh

IUMRS-ICEM2012 2012年9月28日 Material Research Society of Japan
Arの電子サイクロトロン共鳴プラズマにおけるC2H2の解離励起

第59回応用物理学関係連合講演会 2012年3月17日応用物理学会
アモルファスカーボンナイトライド形成におけるCNラジカルの寄与について

第25回ダイヤモンドシンポジウム 2011年12月9日ニューダイヤモンドフォーラム
Stickin Probability of CN Radicals

NDNC2010 2010年5月17日 NDNC2010 Organizing Committee
CNラジカルの付着確率２

第57回応用物理学関係連合討論会 2010年3月19日応用物理学会

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所属学協会

ニューダイヤモンドフォーラム

共同研究・競争的資金等の研究課題

高硬度アモルファス窒化炭素薄膜の形成と薄膜堆積メカニズムの解明

科学研究費 2016年4月 - 2018年3月

伊藤治彦
水素含有ラジカルの分光計測にもとづく電界放出型マイクロプラズマ素子の最適化

科学研究費・特定領域研究「マイクロプラズマ」
エネルギー制御されたイオン衝撃によるアモルファス窒化炭素の超硬質化ダイナミクス

科学研究費
アモルファス窒化炭素材料の波長可変深紫外in situ共鳴ラマン分光計測

学長裁量経費
高窒素含有・超硬質アモルファスカーボンナイトライドの創製

JSTシーズ発掘試験
高分解能差周波レーザー分光法にもとづくアモルファス炭素系薄膜の超硬質化機構の解明

科学研究費
エネルギー制御されたイオン衝撃によるアモルファス窒化炭素の超硬質化ダイナミクス

科学研究費

産業財産権

特願2008-217770 プラズマCVD法を用いた硬質アモルファスSiC薄膜の形成