特許権 転移基で修飾された基質の製造方法 国立大学法人 東京大学, 株式会社ペルセウスプロテオミクス 浜窪 隆雄, 高橋 一彰, 児玉 龍彦, 畑中 研一, 岩成 宏子, 川村 猛, 須藤 幸夫, 中田 淑子 出願番号 特願2010-103175 出願日 2010年4月28日 公開番号 特開2010-273676 公開日 2010年12月9日 リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201003016300443931URLhttp://jglobal.jst.go.jp/public/201003016300443931 ID情報 J-Global ID : 201003016300443931