2006年1月
高強度レーザーパルスを用いたナノサイズシリコンタッドポールの発生
Proceedings of 4th International Congress on Laser Advanced Materials Processing (LAMP 2006) (Internet)
- 開始ページ
- 3
- 終了ページ
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
電磁材料等においてナノサイズの柱状結晶が形成されれば、その電磁特性としてこれまで得られなかった特性を得ることが期待できる。ここで、高輝度のフェムト秒レーザー照射したシリコンの飛散粒子に注目すると、レーザーと物質との相互作用による強い電場を受けるのでナノ秒レーザー照射とは異なる飛散粒子の形態が予測される。そのため本研究では、原子力機構設置のチタンサファイアレーザーを用いてシリコンターゲットに照射した。集光強度は$\sim$5$\times$10$^{16}$W/cm$^{2}$であった。そして、シリコンターゲットからのアブレータを採取し、高分解能の透過型電子顕微鏡や電子線回折等でその構造などを詳細に調べた。その結果、多結晶成分とアモルファス成分をもつタッドポール粒子の発生を確認した。