井谷俊郎 (Toshiro Itani) - マイポータル

基本情報

所属: 国立研究開発法人産業技術総合研究所エレクトロニクス・製造領域首席研究員
: 大阪大学産業科学研究所特任教授（常勤）

学位: 博士（工学）(大阪大学)

J-GLOBAL ID: 201901012823412979
researchmap会員ID: B000379263

研究分野

ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電気電子材料工学 / ナノリソグラフィ

学歴

- 1998年3月

大阪大学, 基礎工学研究科

委員歴

2017年9月 - 現在

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography, Conference chair
2008年4月 - 現在

応用物理学会次世代リソグラフィ（NGL）技術研究会分科会, 幹事
2007年4月 - 現在

Microprocess and Nanotechnology Conference (MNC)、組織委員会, 組織委員
2009年4月 - 2022年3月

応用物理学会論文誌企画・編集委員会, APEX/JJAP編集運営委員

受賞

2009年9月

2nd place Photomask Best Poster Award, SPIE Photomask Technology + EUV Lithography

Julius Joseph Santillan, Masahiko Harumoto, Chisayo Nakayama, Yuji Tanaka, Tomohiro Motono, Masaya Asai, Toshiro Itani

論文

162

Single-component silicon-based patterning materials for EUV lithography

Julius Joseph Santillan, Akihiro Konda, Motoharu Shichiri, Toshiro Itani

Proc. SPIE Advances in Patterning Materials and Processes XL(12498) 1249814 2023年5月1日最終著者
Photoresist stochastic defect generation depending on alkyl chain length and concentration of tetraalkylammonium hydroxide in alkali aqueous developer

Masahiko Harumoto, Andreia Figueiredo dos Santos, JULIUS JOSEPH SANTILLAN, Toshiro Itani, Takahiro KOZAWA

Japanese Journal of Applied Physics 62(SG) SG1037 2023年2月17日査読有り
Stochastic defect generation depending on tetraalkylhydroxide aqueous developers in extreme ultraviolet lithography

Masahiko Harumoto, Andreia Figueiredo dos Santos, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 62(1) 016503 2023年1月1日査読有り
Effect of Alternative Developer Solutions on EUVL Patterning

Julius Joseph Santillan, Kyoko Shimizu, Ryuichi Otogawa, Toshiro Itani

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 67-74 2022年12月16日査読有り最終著者
Dependence of photoresist dissolution dynamics in alkaline developers on alkyl chain length of tetraalkylammonium hydroxide

Masahiko Harumoto, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 61(5) 056506-056506 2022年5月1日査読有り最終著者
Pattern collapse mitigation by controlling atmosphere during development process for semiconductor lithography

Masahiko Harumoto, Tomohiro Motono, Andreia Figueiredo dos Santos, Chisayo Mori, Yuji Tanaka, Harold Stokes, Masaya Asai, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 60(SC) SCCA03-SCCA03 2021年6月1日査読有り最終著者
Application of ethyltrimethylammonium hydroxide (ETMAH) as an alternative developer solution/process for semiconductor lithography

Julius Joseph Santillan, Masahiko Harumoto, Tomohiro Motono, Andreia Figueiredo dos Santos, Chisayo Mori, Yuji Tanaka, Harold Stokes, Masaya Asai, Toshiro Itani

Japanese Journal of Applied Physics 60(SC) SCCC01-SCCC01 2021年6月1日査読有り
Alternative developer solution/process for EUV lithography: ethyltrimethylammonium hydroxide (ETMAH)

Julius Joseph S. Santillan, Masahiko Harumoto, Tomohiro Motono, Andreia Figueiredo dos Santos, Chisayo Mori, Yuji Tanaka, Harold Stokes, Masaya Asai, Toshiro Itani

Proc. SPIE EUV XII(11609) 116090W 2021年3月16日
Alternative EUVL resist processes for stochastic defect reduction

Julius Joseph S. Santillan, Masahiko Harumoto, Harold Stokes, Chisayo Mori, Yuji Tanaka, Tomohiro Motono, Masaya Asai, Toshiro Itani

Proc. SPIE Extreme Ultraviolet Lithography 2020(11517) 1151718 2020年10月14日
KrF excimer laser-based patterning system for dual applications in both lithography and ablation

Julius Joseph S. Santillan, Nobutaka Uemori, Hiroshi Yamaoka, Toshiro Itani

Proc. SPIE Optical Microlithography XXXIII(11327) 113271B 2020年3月23日
Application of alternative developer solutions for EUV lithography

Julius Joseph S. Santillan, Masahiko Harumoto, Harold W. Stokes, Chisayo Mori, Yuji Tanaka, You Arisawa, Tomohiro Motono, Masaya Asai, Toshiro Itani

Proc. SPIE Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI(11323) 113231W 2020年3月23日
Resist patterning characteristics using KrF laser-ablation process

J. Photopolym. Sci. Technol. 32(2) 355-360 2019年5月査読有り
Alternative developer solutions and processes for EUV and ArFi lithography

J. Photopolym. Sci. Technol. 32(2) 321-326 2019年5月査読有り
Pulse radiolysis of methacrylic acid ligand for zirconia nanoparticle resist

Jpn. J. Appl. Phys. 58(3) 036503 2019年2月査読有り
Analysis of line-and-space patterns of ZrO2 nanoparticle resist on the basis of EUV sensitization mechanism

Proc. SPIE EUV X(10957) 109570C 2019年2月
Dependence of relationship between chemical gradient and line width roughness of zirconia nanoparticle resist on pattern duty, acid generator, and developer

Jpn. J. Appl. Phys. 58(3) 036501 2019年2月査読有り
Relationship between resolution blur and stochastic defect of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography

Takahiro Kozawa, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani

Journal of Photopolymer Science and Technology 32(1) 161-167 2019年
Reaction mechanism of ZrO x metal resists with extreme ultraviolet irradiation

Jpn. J. Appl. Phys. 58(SD) SDDC01 2018年11月査読有り
Resist image quality control via acid diffusion constant and/or photodecomposable quencher concentration in the fabrication of 11nm half-pitch line-and-space patterns using extreme-ultraviolet lithography

Takahiro Kozawa, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani

Japanese Journal of Applied Physics 57(5) 2018年5月1日査読有り
Characterization of metal resist for EUV lithography using Infrared free electron laser

Minoru Toriumi, Takayasu Kawasaki, Takayuki Imai, Koichi Tsukiyama, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani

SPIE Conference Proceeding SPIE 10586 1-8 2018年3月査読有り

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MISC

Sensitivity enhancement of chemically amplified EUV resists by adding acid-generating promoters

Shinya Fujii, Kazumasa Okamoto, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, Toshiro Itani

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(6) 2017年6月
化学増幅型レジストへのスルホン化合物の添加効果

岡本一将, 岡本一将, 藤井槙哉, 山本洋揮, 古澤孝弘, 井谷俊郎

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
添加剤を用いた酸生成促進によるEUV用化学増幅型レジストの感度向上

藤井槙哉, 岡本一将, 山本洋揮, 古澤孝弘, 井谷俊郎

放射線化学討論会講演要旨集 59th 2016年
Shot noise limit of sensitivity of chemically amplified resists used for extreme ultraviolet lithography

Shinya Fujii, Takahiro Kozawa, Kazumasa Okamoto, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani

Japanese Journal of Applied Physics 54(11) 2015年11月1日
Relationship between information and energy carried by photons in extreme ultraviolet lithography: Consideration from the viewpoint of sensitivity enhancement

Shinya Fujii, Takahiro Kozawa, Kazumasa Okamoto, Julius Joseph Santillan, Toshiro Itani

Japanese Journal of Applied Physics 54(8) 2015年8月1日
Resist materials and processes for extreme ultraviolet lithography

Toshiro Itani, Takahiro Kozawa

Japanese Journal of Applied Physics 52(1) 2013年1月
Development of core technologies on EUV mask and resist for sub-20-nm half pitch generation

Soichi Inoue, Tsuyoshi Amano, Toshiro Itani, Hidehiro Watanabe, Ichiro Mori, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Hiroki Miyai, Masahiro Hatakeyama

Advanced Optical Technologies 1(4) 269-278 2012年9月1日
Extreme Ultraviolet Resist Fabricated Using Water Wheel-Like Cyclic Oligomer with Pendant Adamantyl Ester Groups

Hiroyuki Seki, Hiroto Kudo, Hiroaki Oizumi, Toshiro Itani, Tadatomi Nishikubo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(12) 2011年12月
Multicomponent negative-type photoresist based on Noria analog with 12 ethoxy groups

Nobumitsu Niina, Hiroto Kudo, Ken Maruyama, Toshiyuki Kai, Tsutomu Shimokawa, Hiroaki Oizumi, Toshiro Itani, Tadatomi Nishikubo

POLYMER JOURNAL 43(4) 407-413 2011年4月
EUV Negative Resist Based on Thiol-Yne System

Masamitsu Shirai, Koichi Maki, Haruyuki Okamura, Koji Kaneyama, Toshiro Itani

ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXVIII 7972 2011年
Highly Sensitive EUV Resist Based on Thiol-Ene Radical Reaction

Masamitsu Shirai, Koichi Maki, Haruyuki Okamura, Koji Kaneyama, Toshiro Itani

ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXVII, PTS 1 AND 2 7639 2010年
アセタール残基を有するNoria誘導体の合成およびレジスト材料への応用

神宮司真由美, 工藤宏人, 西久保忠臣, 老泉博昭, 井谷俊朗, 田川精一, 山本洋揮, 岡本一将

高分子学会予稿集(CD-ROM) 59(2 Disk1) 2010年
アセタール残基を有するNoria誘導体のEB・EUVレジスト材料への応用

神宮司真由美, 工藤宏人, 西久保忠臣, 老泉博昭, 井谷俊朗, 岡本一将, 田川精一, 山本洋揮

高分子学会予稿集(CD-ROM) 59(1 Disk1) 2010年
Novel Noria (Water Wheel-Like Cyclic Oligomer) Derivative as a Chemically Amplified Extreme Ultraviolet (EUV)-Resist Material

Tadatomi Nishikubo, Hiroto Kudo, Yuji Suyama, Hiroaki Oizumi, Toshiro Itani

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 22(1) 73-76 2009年
Non-Chemically Amplified Negative Resist for EUV Lithography

Masamitsu Shirai, Koichi Maki, Haruyuki Okamura, Koji Kaneyama, Toshiro Itani

ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXVI 7273 2009年
アダマンチル基を有するNoria誘導体の合成とEB及びEUVレジストへの展開

陶山裕司, 工藤宏人, 西久保忠臣, 岡本一将, 古澤孝弘, 田川精一, 老泉博昭, 井谷俊朗

高分子学会予稿集(CD-ROM) 58(2 Disk1) 2009年
Difference in reaction schemes in photolysis of triphenylsulfonium salts between 248 nm and dry/wet 193 nm resists

Yoshinori Matsui, Hidekazu Sugawara, Shu Seki, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa, Toshiro Itani

APPLIED PHYSICS EXPRESS 1(3) 2008年3月
EUV resist based on low molecular weight PHS

Masamitsu Shirai, Akitaka Kurosima, Haruyuki Okamura, Koji Kaneyama, Toshiro Itani

ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXV, PTS 1 AND 2 6923 2008年
Development of new negative-tone molecular resists based on calixarene for EUV lithography

Oizumi Hiroaki, Kumise Takafumi, Itani Toshiro

Journal of photopolymer science and technology 21(3) 443-449 2008年
Current status and future direction of EUV resists

Itani Toshiro, Kawamura Daisuke, Kaneyama Koji

Journal of photopolymer science and technology 21(3) 409-414 2008年

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講演・口頭発表等

Extremely large depth-of-focus lithography system using KrF excimer laser

ジュリウスジョセフ, スドライ, サンティリャン

32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2019年10月31日
Alternative developer solutions and processes for EUV lithography

ジュリウスジョセフ, スドライ, サンティリャン

SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2019年9月16日
Alternative developer solutions and processes for EUV and ArFi lithography

ジュリウスジョセフ, スドライ, サンティリャン

The 36th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2019年6月27日招待有り
Resist patterning characteristics using KrF laser ablation process

ジュリウスジョセフ, スドライ, サンティリャン

The 36th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2019年6月27日

井谷俊郎

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論文

MISC

講演・口頭発表等

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