
井谷 俊郎
イタニ トシロウ (Toshiro Itani)
更新日: 2024/09/19
基本情報
- 所属
- 国立研究開発法人産業技術総合研究所 エレクトロニクス・製造領域 首席研究員
- 大阪大学 産業科学研究所 特任教授(常勤)
- 学位
-
博士(工学)(大阪大学)
- J-GLOBAL ID
- 201901012823412979
- researchmap会員ID
- B000379263
学歴
1-
- 1998年3月
委員歴
4-
2008年4月 - 現在
-
2009年4月 - 2022年3月
論文
162-
Proc. SPIE Advances in Patterning Materials and Processes XL(12498) 1249814 2023年5月1日 最終著者
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Japanese Journal of Applied Physics 62(SG) SG1037 2023年2月17日 査読有り
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Japanese Journal of Applied Physics 62(1) 016503 2023年1月1日 査読有り
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Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 67-74 2022年12月16日 査読有り最終著者
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Japanese Journal of Applied Physics 61(5) 056506-056506 2022年5月1日 査読有り最終著者
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Japanese Journal of Applied Physics 60(SC) SCCA03-SCCA03 2021年6月1日 査読有り最終著者
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Japanese Journal of Applied Physics 60(SC) SCCC01-SCCC01 2021年6月1日 査読有り
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Alternative developer solution/process for EUV lithography: ethyltrimethylammonium hydroxide (ETMAH)Proc. SPIE EUV XII(11609) 116090W 2021年3月16日
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Proc. SPIE Extreme Ultraviolet Lithography 2020(11517) 1151718 2020年10月14日
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Proc. SPIE Optical Microlithography XXXIII(11327) 113271B 2020年3月23日
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Proc. SPIE Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI(11323) 113231W 2020年3月23日
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J. Photopolym. Sci. Technol. 32(2) 355-360 2019年5月 査読有り
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J. Photopolym. Sci. Technol. 32(2) 321-326 2019年5月 査読有り
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Jpn. J. Appl. Phys. 58(3) 036503 2019年2月 査読有り
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Proc. SPIE EUV X(10957) 109570C 2019年2月
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Jpn. J. Appl. Phys. 58(3) 036501 2019年2月 査読有り
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Journal of Photopolymer Science and Technology 32(1) 161-167 2019年
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Jpn. J. Appl. Phys. 58(SD) SDDC01 2018年11月 査読有り
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Japanese Journal of Applied Physics 57(5) 2018年5月1日 査読有り
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SPIE Conference Proceeding SPIE 10586 1-8 2018年3月 査読有り
MISC
28-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(6) 2017年6月
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応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
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放射線化学討論会講演要旨集 59th 2016年
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Japanese Journal of Applied Physics 54(11) 2015年11月1日
-
Japanese Journal of Applied Physics 54(8) 2015年8月1日
-
Japanese Journal of Applied Physics 52(1) 2013年1月
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Advanced Optical Technologies 1(4) 269-278 2012年9月1日
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50(12) 2011年12月
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POLYMER JOURNAL 43(4) 407-413 2011年4月
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ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXVIII 7972 2011年
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ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXVII, PTS 1 AND 2 7639 2010年
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高分子学会予稿集(CD-ROM) 59(2 Disk1) 2010年
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高分子学会予稿集(CD-ROM) 59(1 Disk1) 2010年
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JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 22(1) 73-76 2009年
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ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXVI 7273 2009年
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高分子学会予稿集(CD-ROM) 58(2 Disk1) 2009年
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APPLIED PHYSICS EXPRESS 1(3) 2008年3月
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ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXV, PTS 1 AND 2 6923 2008年
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Journal of photopolymer science and technology 21(3) 443-449 2008年
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Journal of photopolymer science and technology 21(3) 409-414 2008年
講演・口頭発表等
4-
32nd International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2019年10月31日
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SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography 2019年9月16日
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The 36th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2019年6月27日 招待有り
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The 36th International Conference of Photopolymer Science and Technology 2019年6月27日