草野 英二

Electronegativity of Mg-CF4 reactive sputter discharge 

18th International Conference on Reactive Sputter Deposition RSD 2019年12月5日

3Ep12 Mg-CF4直流反応性スパッタリング放電における負イオン形成と薄膜再スパッタリング 

2019年10月30日

[18p-C309-8] Mg-CF4直流反応性スパッタリング放電における負のプラズマ電位の発生 

2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会 2019年9月18日 公益社団法人応用物理学会

Revisitation of the structure zone model of sputter-deposited thin films 

The 15th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes 2019年6月12日 The Japan Society of Vacuum and Surface Science  招待有り

Model calculation and visualization of time-dependent reactive gas mass balance change in Ti-O2 reactive sputtering,” 16th International Conference on Reactive Sputtering 

16th International Conference on Reactive Sputtering 2017年12月5日  招待有り

Band gap and film structure control by H2 addition to Ar discharge gas in Cu2ZnSnS4 thin film deposition by reflector-wall sputtering 

Iberian Vacuum Conf. RIVA-X 8th 2017年10月1日

Suppression of F- ion incidence to growing film surface by using a double-grid retarding electrode in sputter deposition of MgF2 thin films,” 15th International Conference on Plasma Surface Engineering 

15th International Conference on Plasma Surface Engineering 2016年9月13日

Mechanisms involved in modification of film structure and properties in ICP assisted dc and pulsed dc sputtering 

2015 International Symposium on Surface Engineering based Convergence Science and Technology, The 49th Summer Annual cConference of the Korean Vacuum Society 2015年8月

Fundamentasls of Sputtering 

Workshop on Sputtering technology and optical coatings, Taiwan Photonics Society 2011年8月  招待有り