論文

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2016年10月

3次元アトムプローブによる多結晶シリコン中のヒ素の粒界拡散に対するリンまたはホウ素添加効果の分析

Applied Physics Express

高見澤悠
清水康雄*
井上耕治*
野沢康子*
外山健*
矢野史子*
井上真雄*
西田彰男*
永井康介*

巻: 9
号: 10
開始ページ: 106601\_1
終了ページ: 106601\_4
記述言語: 英語
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
DOI: 10.7567/APEX.9.106601

リンク情報

DOI: https://doi.org/10.7567/APEX.9.106601
Web of Science: https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=JSTA_CEL&SrcApp=J_Gate_JST&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=WOS:000384096600001&DestApp=WOS_CPL
URL: https://jopss.jaea.go.jp/search/servlet/search?5047448

ID情報

DOI : 10.7567/APEX.9.106601
ISSN : 1882-0778
eISSN : 1882-0786
Web of Science ID : WOS:000384096600001

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