書籍等出版物

2012年7月20日

ナノエレクトロニクスにおける絶縁超薄膜技術ー成膜技術と膜・界面の物性科学

  • 廣瀬和之
  • ,
  • 小林大輔
  • ,
  • その他

担当区分
共著
担当範囲
X線光電子分光と第一原理軌道計算によるMOS界面局所構造の物性研究ー誘電率と絶縁破壊電界ー
出版者・発行元
(株)エヌ・ティー・エス