特許権 プラズマ処理装置 大岸厚文, 猿渡哲也, 鈴木正康, 三科健 出願番号 PCT/JP2013/064451 出願日 2012年5月 公開番号 国際公開WO2014/188576 公開日 2014年11月 特許番号/登録番号 特許第6065111号 登録日 2017年1月 発行日 2017年1月25日 出願国 外国
