論文

2013年

Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin

Ukrainian Journal of Physics

Rudenko, R.M.
Krasko, M.M.
Voitovych, V.V.
Kolosyuk, A.G.
Povarchuk, V.Y.
Kraichynskyi, A.M.
Yukhymchuck, V.O.
Bratus, V.Y.
Voitovych, M.V.
Zaloilo, I.A.

巻: 58
号: 12
開始ページ: 1165
終了ページ: 1170
記述言語
掲載種別: 研究論文（学術雑誌）
DOI: 10.15407/ujpe58.12.1165
出版者・発行元: Co. Ltd. Ukrinformnauka

リンク情報

DOI: https://doi.org/10.15407/ujpe58.12.1165
URL: http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-84891302825&partnerID=MN8TOARS

ID情報

DOI : 10.15407/ujpe58.12.1165
ISSN : 2071-0186
ORCIDのPut Code : 71391895
SCOPUS ID : 84891302825

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