MISC

2005年9月

SiO2/Si(001)界面ひずみの酸化プロセス依存性

応用物理学会学術講演会講演予稿集
  • 中嶋薫
    • ,
  • 鈴木基史
    • ,
  • 木村健二
    • ,
  • 山本雅士
    • ,
  • 寺本章伸
    • ,
  • 大見忠弘
    • ,
  • 服部健雄
巻
66th
号
2
開始ページ
664
終了ページ
記述言語
日本語
掲載種別
研究発表ペーパー・要旨（全国大会，その他学術会議）
リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=200902219559742043
ID情報
  • J-Global ID : 200902219559742043
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