2004年9月 5keV Si+注入により歪みSi/Si0.8Ge0.2に生じた欠陥の熱処理による回復 応用物理学会学術講演会講演予稿集 松下知義, 酒井渉, 中嶋薫, 鈴木基史, 木村健二, AGARWAL A, GOSSMANN H‐J 巻 65th 号 1 開始ページ 322 終了ページ 記述言語 日本語 掲載種別 研究発表ペーパー・要旨(全国大会,その他学術会議) リンク情報 J-GLOBALhttps://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=200902204693914341 ID情報 J-Global ID : 200902204693914341 エクスポート BibTeX RIS