講演・口頭発表等

2011年9月1日

シリコンにプラズマドープしたホウ素の深さ分布の測定：アトムプローブと高分解能RBS法の比較

第72回応用物理学会学術講演会
  • 藤田頌
    • ,
  • 中嶋薫
    • ,
  • 鈴木基史
    • ,
  • 木村健二
    • ,
  • Sebastian Koelling
    • ,
  • Wilfriedrst Vandervorst
記述言語
日本語
会議種別
口頭発表（一般）
主催者
応用物理学会
開催地
山形大学 小白川キャンパス
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