渡邊健夫 (Takeo Watanabe) - マイポータル

基本情報

所属: 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所所長・教授
: 大阪市立大学大学院工学研究科客員教授

学位: 博士(理学)(大阪市立大学)

J-GLOBAL ID: 200901004223661630

外部リンク: http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp

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研究分野

経歴

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学歴

1987年4月 - 1990年9月

大阪市立大学理学研究科後期博士課程物理学専攻

委員歴

2019年4月 - 現在

Photomask Japan Conference chair
2013年1月 - 現在

International Conference on Electron Ion Photon Beam Technology and Nanofabrication Program Committee
2006年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology International Affairs, Director
2006年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology Organizing Committee
2005年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology Program Committee

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受賞

2016年5月

ニュークリアサイエンス協会ニュークリアサイエンス協会賞放射光を利用したレジストの開発に関する研究

渡邊健夫
2013年6月

International Workshop on EUV Lithography Best Paper Award R&D of EUV Lithography

渡邊健夫
2008年6月

International Workshop on EUV Lithography Best Poster Award 1st Place EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source

渡邊健夫
2002年3月

日本物理学会第７回日本物理学会論文賞 Direct Observation of Sequential Weak Decay of a Double Hypernucleus

渡邊健夫

論文

248

Synthesis and Property of Tellurium-Containing Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography System

Hiroto Kudo, Mari Fukunaga, Teppei Yamada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Kazumasa Okamoto, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 32(6) 805 - 810 2019年査読有り
Development of an EUV Microscope with Focused Coherent EUV Based on Coherent Diffraction Imaging Method for Defect Evaluation on an EUV Mask

Tetsuo Harada, Hiraku Hashimoto, Takeo Watanabe

Electronics and Communications in Japan 101(3) 11 - 16 2018年3月1日査読有り
A study on enhancing EUV resist sensitivity (2)

Atsushi Sekiguchi, Yoko Matsumoto, Mariko Isono, Michiya Naito, Yoshiyuki Utsumi, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 10583 2018年査読有り
In-Situ Measurement of Outgassing Generated from EUV Metal Oxide Nanoparticles Resist During Electron Irradiation

Seiji Takahashi, Hiroko Minami, Yoko Matsumoto, Yoichi Minami, Mikio Kadoi, Atsushi Sekiguchi, Takeo Watanabe

J. Photopolym. Sci. Technol. 31 257 - 260 2018年査読有り
Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Laser Lithography System

Hiroto Kudo, Shizuya Ohori, Hiroya Takeda, Hiroki Ogawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 31(2) 221 - 225 2018年査読有り

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MISC

軟X線を用いた逆コンプトン散乱による高エネルギーカンマ線ビームの開発

村松憲仁, 岡部雅大, 鈴木伸介, 伊達伸, 清水肇, 大熊春夫, 神田一浩, 宮本修治, 原田哲男, 渡邊健夫, 宮部学, 時安敦史

加速器 : 日本加速器学会誌 16(3) 154 - 160 2019年
Synthesis and Property of Tannic Acid Derivatives and Their Application for Extreme Ultraviolet Laser Lithography System (vol 31, pg 221, 2018)

Hiroto Kudo, Shizuya Ohori, Hiroya Takeda, Hiroki Ogawa, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 31(6) 759 - 759 2018年
高倍率多層膜ミラー結像系によるEUVリソグラフィ用マスクの実波長観察

山添健二郎, 豊田光紀, 羽多野忠, 時政明史, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄, 柳原美廣

応用物理学会東北支部学術講演会講演予稿集 67th 23 - 24 2012年12月6日
Development of core technologies on EUV mask and resist for sub-20-nm half pitch generation

Soichi Inoue, Tsuyoshi Amano, Toshiro Itani, Hidehiro Watanabe, Ichiro Mori, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Hiroki Miyai, Masahiro Hatakeyama

Advanced Optical Technologies 1(4) 269 - 278 2012年9月1日
高倍率多層膜ミラー結像系によるEUVリソグラフィ用マスクの実波長観察

豊田光紀, 山添健二郎, 羽多野忠, 時政明史, 原田哲男, 渡邊健夫, 木下博雄, 柳原美広

応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM) 59th ROMBUNNO.18A-A4-8 2012年2月29日

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書籍等出版物

ＵＶ硬化技術を使った新製品開発

渡邊健夫(担当:分担執筆, 範囲:第8章 UV硬化型ソルダーレジスト、フォトレジストの設計と評価第7節 EUVレジストのアウトガス評価、反応解析)

株式会社技術情報協会 2017年11月
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術監修

渡邊健夫(担当:分担執筆, 範囲:EUVリソグラフィー技術)

（株）シーエムシー出版 2017年9月
リソグラフィー技術その40年～基礎からMEMS技術、応用開発事例まで～

渡邊健夫(担当:分担執筆, 範囲:第2章 EUVリソグラフィ技術、第2節 EUV干渉露光技術)

株式会社エヌ・ティー・エス 2017年4月
「放射線と産業」第142号（特集「第16回放射線プロセスシンポジウムの各論として掲載）

渡邊健夫

一般財団法人放射線利用振興協会編 2017年
フォトポリマー懇話会ニュースレター７０号

渡邊健夫(担当:分担執筆, 範囲:巻頭言「産学連携に思うこと」)

2015年