渡邊健夫 (Takeo Watanabe) - マイポータル

基本情報

所属: 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター特任教授

学位: 理学博士(1990年9月大阪市立大学)

J-GLOBAL ID: 200901004223661630
researchmap会員ID: 1000214822

外部リンク: http://www.lasti.u-hyogo.ac.jp

研究キーワード

研究分野

経歴

2023年4月 - 現在

兵庫県立大学, 学長特別補佐(先端研究担当)
2023年4月 - 現在

兵庫県立大学, 産学連携・研究推進機構放射光産業利用支援本部, 本部長代行
2022年4月 - 現在

兵庫県立大学, 学長特別補佐（先端科学技術・異分野融合研究推進）
2022年4月 - 現在

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 所長特別補佐
2015年4月 - 現在

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所極端紫外線リソグラフィー研究開発センター, センター長
2015年4月 - 現在

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授
2021年12月 - 2022年3月

兵庫県立大学, 学長特別補佐（先端科学技術研究担当）
2016年4月 - 2022年3月

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 所長
2008年4月 - 2014年3月

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 准教授
2007年4月 - 2008年3月

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教
2004年4月 - 2007年3月

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助手
1996年1月 - 2004年3月

姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助手
1996年

- Himeji Institute of Technology, Laboratory of
1990年10月 - 1995年12月

シャープ(株)中央研究所, 中央研究所, 研究者
1990年 - 1995年

シャープ（株）
Assistant Professor.
Advanced Science and Technology for Industry,
Development Lab.

学歴

1987年4月 - 1990年9月

大阪市立大学, 理学研究科後期博士課程, 物理学専攻

委員歴

2022年 - 現在

兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」, 座長
2022年 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology, President
2021年 - 現在

一般社団法人日本半導体製造協会, 会員
2019年4月 - 現在

Photomask Japan, Conference chair
2018年 - 現在

International Conference on Photomask Japan, Conference Chair and Chair of the Organizing Committee
2017年 - 現在

International Workshop on EUV Lithography, EUVL Workshop Steering Committee
2016年 - 現在

International Roadmap for Devices and Systems (IRDS), Committee Member of the Lithography Part
2014年 - 現在

フォトポリマー懇話会, 組織委員 / 企画委員
2013年1月 - 現在

International Conference on Electron Ion Photon Beam Technology and Nanofabrication (EIPBN), 評価委員
2006年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology, International Affairs, Director
2006年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology, Organizing Committee
2005年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology, Program Committee
2004年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology, Session Chair
2004年4月 - 現在

International Conference on Photopolymer Science and Technology, Board member
2023年

Physics of X-Ray and Neutron Multilayer Structures (PXRNMS), Organizing Committee & Program Committee Members
2016年 - 2019年

International Conference on Photomask Japan, Co-Chair of the Organizing Committee
2013年

第74回応用物理学会学術講演会（秋季）, 座長
2013年

第60回応用物理学関係連合講演会（春季）, 講演奨励賞審査員
2012年

第73回応用物理学会学術講演会（秋季）, 座長
2012年

第59回応用物理学関係連合講演会（春季）, 座長

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受賞

2002年3月

第７回日本物理学会論文賞, Direct Observation of Sequential Weak Decay of a Double Hypernucleus, 日本物理学会

渡邊健夫
2008年6月

Best Poster Award 1st Place, EUV interference lithography employing 11-m long undulator as a light source, International Workshop on EUV Lithography

渡邊健夫
2013年6月

Best Paper Award, R&D of EUV Lithography, International Workshop on EUV Lithography

渡邊健夫
2016年5月

ニュークリアサイエンス協会賞, 放射光を利用したレジストの開発に関する研究, ニュークリアサイエンス協会

渡邊健夫
2022年7月

最優秀賞, 研究活動教員表彰

渡邊健夫
2023年4月

Outstanding Contributions A ward, International Conference of Photopolymer Science and Technology

渡邊健夫

論文

321

Investigation of solvent effects on the distribution of resist compositions using resonant soft X-ray scattering

Kouji Kuramoto, Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Japanese Journal of Applied Physics 64(6) 06SP24-06SP24 2025年6月1日
Evaluation of basic behavior of acrylic polymer by EUV exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Tadayuki Fujiwara, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

Optical and EUV Nanolithography XXXVIII 64-64 2025年4月23日
Nanoscale Resist-Pattern Defects Clustered in the Micron Region Found by Soft X-ray Microscopy

Takeharu Motokawa, Shuhei Iguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 38(2) 145-150 2025年
Spatial Distribution Analysis of Functional Groups in Resist Thin Film Using Reflection-Mode Resonant Soft X-ray Scattering

Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 591-595 2024年12月25日
Observation Result of Chemical Composition Distribution of Resist Thin Film by Photoemission Electron Microscopy

Tsukasa Sasakura, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 585-590 2024年12月25日
Current Status of EUV Flood Exposure Tool at NewSUBARU BL03

Ryuta Shiga, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 579-584 2024年12月25日
EUV durability of CNT pellicles for next-generation scanner

Takahiro Ueda, Marcio D. Lima, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Takeshi Kondo

Japanese Journal of Applied Physics 63(3) 2024年3月1日
Fundamental Evaluation of KrF Resist Changing Formulation by EB and EUV Exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 37(1) 89-93 2024年
Evaluation of Basic Behavior of Acrylic Polymer Changing Composition by KrF, ArF and EUV Exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Tadayuki Fujiwara, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 37(3) 299-304 2024年
Carbon/boron multilayer for beyond EUV lithography

Umi Fujimoto, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe

Photomask Japan 2023: XXIX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 2023年9月29日
Present Status of EUV Interference Lithography at NewSUBARU

Rikuya Imai, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 53-59 2023年6月15日
Characterization of Photoacid Generator Bound Resist with X-ray Absorption Spectroscopy at NewSUBARU

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Koji Nakanishi, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 47-52 2023年6月15日
Spatial Distribution Analysis of Polymers in Resist Thin Film by Reflection-mode Resonant Soft X-ray Scattering

Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 41-45 2023年6月15日
Spatial Distribution Imaging of Resist Thin Film with Micrometer Resolution using Reflection Type Soft X-ray Projection Microscope

Shuhei Iguchi, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Takeharu Motokawa

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 25-30 2023年6月15日
Comparison of photoresist sensitivity between KrF, EB and EUV exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2023 12750 2023年
The X-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-Tone PAG bound resist

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 12750 2023年
Comparison of Photoresist Sensitivity between KrF, EB and EUV Exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 49-54 2022年12月16日査読有り
Development of Selenonium PAGs in EUV Lithography toward High Sensitivity Achievement

Tomohito Kizu, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Seiji Yasui, Tomoyuki Shibagaki

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 55-59 2022年12月16日査読有り責任著者
Grazing-Incidence Soft-X-ray Scattering for the Chemical Structure Size Distribution Analysis in EUV Resist

Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 61-65 2022年12月16日査読有り責任著者
R&D Activities of EUV Lithography at NewSUBARU, and Possibility of Beyond EUV

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

Optics InfoBase Conference Papers 2022年

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MISC

194

軟X線反射型拡大投影顕微鏡によるフォトレジストの観察

原田哲男, 井口脩平, 山川進二, 渡邊健夫

Optics & Photonics Japan講演予稿集(CD-ROM) 2023 2023年
レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討

中本敦啓, 山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫

X線分析討論会講演要旨集 58th 2022年
レンズレス顕微鏡によるEUVマスク観察

原田哲男, 渡邊健夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 2021年
放射線によるDNA損傷とトランジスタ特性変動の相関解明

吉田一輝, 松尾直人, 住友弘二, 部家彰, 山名一成, 原田哲男, 渡邊健夫, 田部井哲夫

生体医歯工学共同研究拠点成果報告書 2020 2021年
45μm厚裏面照射型フォトダイオード・2段LOFICを有する広ダイナミックレンジ軟X線検出グローバルシャッタCMOSイメージセンサ

四家寛也, 黒田理人, 黒田理人, 黒田理人, 小林諒太, 村田真麻, 藤原康行, 鈴木学, 原田将真, 柴口拓 …

映像情報メディア学会技術報告 45(11(IST2021 8-21)) 2021年
軟X線領域において量子効率90%以上の性能を有する背面照射型CMOSイメージセンサの開発

原田哲男, 寺西信一, 寺西信一, 渡邊健夫, ZHOU Quan, BOGAERTS Jan, WANG Xinyang

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年
軟X線共鳴反射率による基板上高分子積層膜界面の解析

大野正司, 鉄谷尚士, 石黒巧真, 原田哲男, 渡邊健夫

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年
軟X線共鳴反射率法によるフォトレジストの相分離構造評価

石黒巧真, 田中淳, 原田哲男, 渡邊健夫

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年
EUVリソグラフィー用光学素子のアウトオブバンド領域反射率測定

津田圭輔, 原田哲男, 渡邊健夫

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年
水素雰囲気中での高強度EUV照射装置の構築

大形彩斗, 原田哲男, 渡邊健夫

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年
軟X線共鳴散乱法を用いたフォトレジスト評価手法の検討

田中淳, 石黒巧真, 原田哲男, 渡邊健夫

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 33rd 2020年
軟X線・EUV用CMOSイメージセンサの開発

寺西信一, 寺西信一, 原田哲男, 渡邊健夫, ZHOU Quan, 木村雅俊, BOGAERTS Jan, WANG Xinyang

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 67th 2020年
全電子収量軟X線吸収分光による一本鎖DNAの放射線損傷解析

吉田一輝, 松尾直人, 住友弘二, 部家彰, 山名一成, 原田哲男, 渡邊健夫

日本表面真空学会学術講演会要旨集(Web) 2020 2020年
原子状水素による2種類のDLC膜のエッチング速度

部家彰, 新部正人, 原田哲男, 赤坂大樹, 神田一浩, 渡邊健夫, 住友弘二

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 81st 2020年
軟X線の逆コンプトン散乱による高エネルギー光子ビームの開発

岡部雅大, 村松憲仁, 鈴木伸介, 伊達伸, 伊達伸, 清水肇, 大熊春夫, 神田一浩, 宮本修治, 原田哲男 …

日本物理学会講演概要集(CD-ROM) 75(1) 2020年
At wavelength coherent scatterometry microscope using high-order harmonics for EUV mask inspection

Yutaka Nagata, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroo Kinoshita, Katsumi Midorikawa

International Journal of Extreme Manufacturing 1(3) 2019年9月
軟X線を用いた逆コンプトン散乱による高エネルギーカンマ線ビームの開発

村松憲仁, 岡部雅大, 鈴木伸介, 伊達伸, 清水肇, 大熊春夫, 神田一浩, 宮本修治, 原田哲男, 渡邊健夫 …

加速器 : 日本加速器学会誌 16(3) 154-160 2019年
ニュースバル放射光施設におけるEUVリソグラフィー用マスク検査技術の開発

原田哲男, 渡邊健夫

UV/EB研究会資料 69th 2018年
フォトダイオード直接塗布法によるEUVレジストの高精度な吸収係数測定法

新原章汰, 豆崎大輝, 渡辺雅紀, 原田哲男, 渡邊健夫

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 31st 2018年
NewSUBARU BL-3における10-300nm反射率計の構築

佐藤芙貴, 原田哲男, 渡邊健夫

日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム(Web) 31st 2018年

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書籍等出版物

CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野

国立研究開発法人科学振興機構編 2023年
フォトレジストの最先端技術

CMC出版 2022年
基礎研究および産業利用を推進する放射光施設「ニュースバル」

文門科学教育通信文部科学省 2022年
CRDS 研究開発の俯瞰報告書ナノテクノロジー・材料分野

国立研究開発法人科学振興機構編 2021年
UV・EB硬化の最新開発動向

CMC出版 2021年
The Current Status and Technical Issues, and future Prospect for Extreme Ultraviolet Lithography

HORIBA Technical Journal, Readout,1 2018年
EUVリソグラフィー用マスクの評価技術の開発

放射光学会誌第31巻 2018年
2018 掘場雅夫賞審査委員特別寄稿：極端紫外線リソグラフィー技術の現状および課題並びに今後の展望

渡邊健夫

HORIBA科学情報誌Readout,1,50-55 2018年
ＵＶ硬化技術を使った新製品開発

渡邊健夫 (担当:分担執筆, 範囲:第8章 UV硬化型ソルダーレジスト、フォトレジストの設計と評価第7節 EUVレジストのアウトガス評価、反応解析)

株式会社技術情報協会 2017年11月
最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術監修

渡邊健夫 (担当:分担執筆, 範囲:EUVリソグラフィー技術)

（株）シーエムシー出版 2017年9月
半導体微細パターンニング技術最前線～基礎からMEMS技術、応用開発事例まで～

渡邊健夫 (担当:分担執筆, 範囲:第2章 EUVリソグラフィ技術、第2節 EUV干渉露光技術)

株式会社エヌ・ティー・エス 2017年4月
「放射線と産業」第142号（特集「第16回放射線プロセスシンポジウムの各論として掲載）

渡邊健夫

一般財団法人放射線利用振興協会編 2017年
リソグラフィー技術その40年

(担当:共著, 範囲:第6章 EUVレジスト開発と歴史)

S＆T出版 2016年12月
巻話言産学連帯の思うこと

フォトポリマー懇話会ニュースレター70 2015年
フォトポリマー懇話会ニュースレター７０号

渡邊健夫 (担当:分担執筆, 範囲:巻頭言「産学連携に思うこと」)

2015年
極端紫外線リソグラフィ研究開発センター

フォトポリマー懇話会ニュースレター67 2014年
フォトポリマー懇話会ニュースレター６７号

渡邊健夫 (担当:分担執筆, 範囲:研究室紹介「極端紫外線リソグラフィ研究開発センター」)

フォトポリマー懇話会 2014年
レジストプロセスの最適化テクニック～微細化・トラブル解消のための工程別対策および材料技術～

渡邊健夫 (担当:分担執筆, 範囲:EUVレジスト)

情報機構 2011年
2007年光学界の進展（X線結像光学）

渡邊健夫

2008年4月
EUVレジスト開発の現状と課題

渡邊健夫

科学と工業82 2008年

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講演・口頭発表等

882

EUVリソグラフィおよびレジスト・フォトマスクの概要、Beyond EUVLへの将来展望～目指すべき半導体業界の将来像～

「EUVリソグラフィ」AndTech WEB講習会（オンライン） 2023年5月25日
Technical issue of EUVL, prospect for EUVL and beyond EUVL

Takeo Watanabe

IEUVI Resist TWG Workshop 2023 (online) 招待有り
EUVリソグラフィ技術開発の現状およびその取り巻く環境、今後の展開

第253回フォトポリマー懇話会講演会先端・次世代リソグラフィ技術（オンライン） 2023年4月25日
EUVリソグラフィー技術開発の現状および今後の展開について

第70回応用物理学会春季学術講演会シンポジウムマイクロ・ナノスケール微細加工の表面界面先端技術
ニュースバルにおけるEUVL基板技術開発の現状と今後の展開

ニュースバルシンポジウム2023 2023年3月13日
高反射率かつ安定なBeyond EUVL用C/B多層膜の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム 2023年3月13日
NewSUBARU BL-9 における光電子顕微鏡を用いた試料表面観察の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム 2023年3月13日
EUV干渉露光系の高度化の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム 2023年3月13日
軟X線反射型共鳴散乱法を用いたレジスト薄膜中における化学組成の空間分布評価

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム 2023年3月13日
低エネルギー電子線照射（LEEFET）を用いたEUVレジストへの電子線照射の検討

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム 2023年3月13日
EUV斜入射CSMによるレジスト欠陥検出の高感度の研究

渡邊健夫

ニュースバルシンポジウム 2023年3月13日
先端半導体動向と先端半導体微細加工の基板技術開発

次世代電池・半導体シンポジウム兵庫県「次世代電池・半導体技術開発拠点推進協議会」編 2023年3月7日
Technical issue of EUVL and prospect for EUVL and Beyond EUVL

Takeo Watanabe

7th EUV-FEL Workshop (hybrid) 2023年1月30日招待有り
ニュースバル放射光施設におけるEUVリソグラフィー技術開発の取組および今後の展開～日本の半導体復興に向けて～

渡邊健夫

第30回放射線利用総合シンポジウム関西の放射線等利用施設の現状と将来展望（一般社団法人）大阪ニュークリアサイエンス協会（オンライン） 2023年1月16日
EUVリソグラフィの現状と今後の展開～ニュースバル放射光施設におけるEUVL基板技術開発～

渡邊健夫

第10回 SPring-8 次世代先端デバイス研究会 JASRI 第84回 SPring-8 先端利用技術ワークショップ 2022年12月20日
Development of low-energy-electron-flood-exposure tool (LEEFET)

Wataru Kusada, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

MNC2022
極端紫外線リソグラフィの現状および課題、並びに今後の展開

渡邊健夫

応用物理学会ナノ荷電粒子ビーム産学連携委員会第2回研究会（オンライン） 2022年11月10日
レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討

渡邊健夫

第58回X線分析討論会 2022年11月10日
Fundamental Research for EUV Lithography at NewSUBARU Synchrotron Light Facility

Takeo Watanabe, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa

Materials Science, Engineering & Technology (online) 招待有り
ニュースバル放射光施設における構造解析・化学分析の基礎およびこれらの産業利用事例

渡邊健夫

2022年度材料セミナー、放射光による組織観察、分析の基礎と応用 2022年10月27日

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所属学協会

2023年3月 - 現在

日本化学会
2021年10月 - 現在

一般社団法人次世代日本半導体製造協会
2000年4月 - 現在

高分子学会
1998年4月 - 現在

日本放射光学会
1991年4月 - 現在

日本応用物理学会
- 現在

Society of Photopolymer Science and Technology (SPST)
- 現在

International Conference on Photomask Japan (PMJ)
- 現在

Opitical Society of America (OSA)
- 現在

The International Society for Optics and Photonics (SPIE)
- 現在

Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
1985年4月

日本物理学会

Works(作品等)

共同研究・競争的資金等の研究課題

軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2015年4月 - 2018年3月

木下博雄, 原田哲男, 村松康司, 渡邊健夫, 渡邊健夫, 村松康司
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2013年4月 - 2016年3月

渡邊健夫, 原田哲男, 木下博雄, 武藤正雄, 津野勝重
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2010年 - 2012年

渡邊健夫, 木下博雄, 原田哲男, 塩野大寿
高感度および低LERを有するEUVレジストの開発

科学技術振興機構産学が連携した研究開発成果の展開/研究成果展開事業/地域事業/地域イノベーション創出総合支援事業/シーズ発掘試験 2007年 - 2007年

渡邊健夫
極端紫外域での位相差型X線顕微鏡による表面微細構造観察

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(A) 基盤研究(A) 2003年 - 2005年

木下博雄, 渡邊健夫, 格内敏, 新部正人
薄膜堆積法によるX線光学素子用非球面形状の創製

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 1999年 - 2001年

新部正人, 渡邊健夫, 木下博雄
多層膜反射率測定
放射光による有機高分子材料のガス脱離
極端紫外線リソグラフィに関する研究
Multilayer reflectivity measurement
Decomposition reaction of organic material by SR irradiation
Study on Extreme Ultra Violet Lithography