小林信一 (Shinichi Kobayashi) - マイポータル

基本情報

所属: 東京工芸大学工学部工学科教授

学位: 博士（工学）(東北大学)

J-GLOBAL ID: 200901034390327757
researchmap会員ID: 1000196207

外部リンク: http://www.t-kougei.ac.jp/engineering/index.html

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論文

Photocatalytic properties of annealed TiO2 films with controlled structure fabricated using oxygen-ion-assisted reactive evaporation with glancing angle deposition technique

Yoji Yasuda, Shin-ichi Kobayashi, Yoichi Hoshi

AIP Advances 12(1) 2022年1月1日査読有り
Top-emission organic light emitting diode with indium tin oxide top-electrode films deposited by a low-damage facing-target type sputtering method

Yoji Yasuda, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yoichi Hoshi

Thin Solid Films 698 137868-137868 2020年3月査読有り
Reactive sputter deposition of WO3 films by using two deposition methods

Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, Meihan Wang, Hao Lei

Journal of Vacuum Science & Technology A 37(3) 031514-031514 2019年5月査読有り
上部Al電極をスパッタ法で堆積した場合のAlq₃膜のPL強度の変化

安田洋司, 小林信一, 内田孝幸, 星陽一

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.2 2470-2470 2018年9月5日
上部Al電極膜を赤外線照射下でスパッタ堆積した有機EL素子

星陽一, 安田洋司, 小林信一, 内田孝幸

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2018.1 2650-2650 2018年3月5日
Crystal Orientation and Electrical Properties of Tin Oxide Transparent Conducting Films Deposited on Rutile Surface

Y Sawada, Y Hashimoto, Y Hoshi, T Uchida, S Kobayashi, L Sun, B Yue

IOP Conference Series: Materials Science and Engineering 250 012021-012021 2017年10月査読有り
有機EL素子の上部Al電極膜作製における低ダメージスパッタ法と蒸着法の比較検討

星陽一, 小林信一, 澤田豊, 内田孝之, 安田洋司

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2017.1 2334-2334 2017年3月1日
有機EL素子の上部電極作製用スパッタ成膜プロセスの開発

安田洋司, 星陽一, 小林信一, 内田孝幸

表面科学学術講演会要旨集 37 90-90 2017年
Improvement in luminance efficiency of organic light emitting diodes by suppression of secondary electron bombardment of substrate during sputter deposition of top electrode films

Hamaguchi Daichi, Kobayashi Shin-ichi, Uchida Takayuki, Sawada Yutaka, Lei Hao, Hoshi Yoichi

Jpn. J. Appl. Phys. 55(10) 106501-106501 2016年10月1日査読有り
上部Al電極作製時の基板温度上昇がOLEDの動作特性に与える影響

星陽一, 濱口大地, 小林信一, 澤田豊, 内田孝幸, 安田洋司

応用物理学会学術講演会講演予稿集 2016.2 2332-2332 2016年9月1日
Development of low damage sputter-deposition method for the preparation of organic light emitting diode

Yoichi Hoshi, Shin-Ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, Hao Lei

Journal of the Vacuum Society of Japan 59(3) 59-64 2016年
有機EL素子の上部電極膜作製における低ダメージスパッタ法と蒸着法の比較検討

星陽一, 小林信一, 内田孝幸, 澤田豊, 濱口大地, 安田洋司

表面科学学術講演会要旨集 36 27-27 2016年
Comparative studies on damages to organic layer during the deposition of ITO films by various sputtering methods

Hao Lei, Meihan Wang, Yoichi Hoshi, Takayuki Uchida, Shinichi Kobayashi, Yutaka Sawada

Applied Surface Science 285 389-394 2013年11月査読有り
Electron-Bombardment-Induced Damage to Organic Light Emission Layer

Lei Hao, Hoshi Yoichi, Wang Meihan, Takayuki Uchida, Shinichi Kobayashi, Yutaka Sawada

Jpn J Appl Phys 49(4) 042103-042103 2010年4月20日査読有り
Effect of isochronal hydrogen annealing on surface roughness and threading dislocation density of epitaxial Ge films grown on Si

S. Kobayashi, Y. Nishi, K.C. Saraswat

Thin Solid Films 518(6) S136-S139 2010年1月査読有り筆頭著者
Electronic structure of hydrogenated amorphous Si 1-xN x thin films using soft X-ray emission and absorption measurements

Teak Boyko, Safa Kasap, Robert Johanson, S. Kobayashi, T. Aoki, Alexander Moewes

Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science 206(5) 935-939 2009年5月査読有り
Optical properties of amorphous silicon nitride thin-films prepared by VHF-PECVD using silane and nitrogen

Wee Chong Tan, S. Kobayashi, T. Aoki, Robert E. Johanson, S. O. Kasap

Journal of Materials Science: Materials in Electronics 20(1) S15-S18 2009年1月査読有り
Slow luminescence from Er 3+ centers in Er-Doped GeGaSe chalcogenide glasses observed by wideband quadrature frequency-resolved spectroscopy

T. Aoki, D. Saitou, S. Kobayashi, C. Fujihashi, K. Shimakawa, M. Munzar, K. Koughia, S. O. Kasap

Journal of Materials Science: Materials in Electronics 18(1) 97-101 2007年10月査読有り
Deposition of luminescent a-SiNx : H Films with SiH4-N-2 gas mixture by VHF-PECVD using novel impedance matching method

S. Kobayashi, N. Ohrui, Y. C. Chao, T. Aoki, H. Kobayashi, T. Asakawa

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE-MATERIALS IN ELECTRONICS 18 S29-S32 2007年10月査読有り
Preferential growth of mu c-Ge : H along the crystallographic axes of Si and Ge substrates by ECR plasma CVD

S. Kobayashi, T. Shimizu, T. Aoki, T. Asakawa

Journal of Materials Science: Materials in Electronics 14(10/12) 741-743 2003年査読有り筆頭著者

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MISC

ITO透明導電膜で形成するUWB用広帯域アンテナの検討

齋藤優花, 越地福朗, 安田洋司, 小林信一, 山田勝実, 内田孝幸

日本写真学会誌 86(4) 2023年
低ダメージスパッタ法で堆積したITO上部電極膜有するトップエミッション型OLED素子の熱処理に関する検討

安田洋司, 小林信一, 内田孝幸, 星陽一

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 67th 2020年
上部Al電極をスパッタ法で堆積した場合のAlq₃膜のPL強度の変化

安田洋司, 小林信一, 内田孝幸, 星陽一

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 79th 2018年
上部Al電極作製時の基板温度上昇がOLEDの動作特性に与える影響

星陽一, 濱口大地, 小林信一, 澤田豊, 内田孝幸, 安田洋司

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 77th 2016年

所属学協会

Works(作品等)

CVD法によるSiGe系薄膜の形成とその応用

1995年
Deposition of SiGe films using CVD and its application

1995年

共同研究・競争的資金等の研究課題

高清浄ECRプラズマCVDによる高機能性ナノクリスタルGe膜の作製

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 2000年 - 2002年

青木彪, 小林信一
次世代超LSI用材料Si/Ge薄膜の成長に関する研究

日本学術振興会科学研究費助成事業奨励研究(A) 1998年 - 1999年

小林信一
次世代超LSI材料SiGeを拡散源としたSi中への不純物拡散の研究

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 1997年 - 1998年

御子柴宣夫, 小林信一, 室田淳一
高品質アモルファス及び微結晶Ge膜の成膜と膜質評価
Deposition and Characterization of High-quality Amorphous and microcrystalline Ge Films

小林信一

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