論文

査読有り
2019年3月

Suppression of threshold voltage shift on In-Si-O-C Thin-Film Transistor with an Al2O3 Passivation Layer under Negative and Positive Gate-Bias Stress

2019 Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM)
  • K.Kurishima
  • ,
  • T.Nabatame
  • ,
  • T.Onaya
  • ,
  • K.Tsukagoshi
  • ,
  • A.Ohi
  • ,
  • N.Ikeda
  • ,
  • T.Nagata
  • ,
  • A.Ogura

開始ページ
74
終了ページ
76
記述言語
英語
掲載種別
研究論文(国際会議プロシーディングス)
DOI
10.1109/edtm.2019.8731167

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1109/edtm.2019.8731167
URL
http://orcid.org/0000-0001-9710-2692
Scopus
https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=85067827076&origin=inward
Scopus Citedby
https://www.scopus.com/inward/citedby.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=85067827076&origin=inward
ID情報
  • DOI : 10.1109/edtm.2019.8731167
  • ISBN : 9781538665084
  • ORCIDのPut Code : 60206892
  • SCOPUS ID : 85067827076
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