2015年
Deposition of boron nitride films by filament-assisted CVD using tris (bimethylamino) borane precursor
Key Engineering Materials
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- 巻
- 661
- 号
- 記述言語
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- DOI
- 10.4028/www.scientific.net/KEM.661.142
- 出版者・発行元
- Key Engineering Materials
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.4028/www.scientific.net/KEM.661.142
- ORCIDのPut Code : 48516208
- SCOPUS ID : 84952774952