2020年8月10日
大電力パルススパッタリング法におけるピーク電流密度が細孔内壁面のTi薄膜成長に及ぼす影響
表面と真空
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- 巻
- 63
- 号
- 8
- 開始ページ
- 404
- 終了ページ
- 412
- 記述言語
- 日本語
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- DOI
- 10.1380/vss.63.404
- 出版者・発行元
- 公益社団法人 日本表面真空学会
- リンク情報
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- DOI
- https://doi.org/10.1380/vss.63.404
- CiNii Books
- http://ci.nii.ac.jp/ncid/AA12808657
- CiNii Research
- https://cir.nii.ac.jp/crid/1390285300181901568?lang=ja
- URL
- https://www.jstage.jst.go.jp/article/vss/63/8/63_20180597/_pdf
- URL
- http://id.ndl.go.jp/bib/030599109
- URL
- https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-17KK0136/
- ID情報
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- DOI : 10.1380/vss.63.404
- ISSN : 2433-5835
- eISSN : 2433-5843
- CiNii Articles ID : 130007886643
- CiNii Books ID : AA12808657
- CiNii Research ID : 1390285300181901568