原田哲男 (Tetsuo Harada) - マイポータル

基本情報

所属: 兵庫県立大学高度産業科学技術研究所教授

学位: 博士（工学）

J-GLOBAL ID: 201801018052844104
researchmap会員ID: B000326989

研究キーワード

研究分野

エネルギー / 量子ビーム科学 /

経歴

2024年4月 - 現在

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 所長
2024年4月 - 現在

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授
2019年4月 - 2024年3月

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 准教授
2008年10月 - 2019年3月

兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教
2008年4月 - 2008年9月

東北大学, 多元物質科学研究所, 教育研究支援者
2007年4月 - 2008年3月

東北大学, 多元物質科学研究所, 研究支援者

学歴

2003年10月 - 2007年3月

東北大学, 大学院工学研究科, 応用物理学専攻博士課程後期３年の課程
2001年4月 - 2003年9月

東北大学, 大学院工学研究科, 応用物理学専攻博士課程前期２年の課程
1997年4月 - 2001年3月

東北大学, 工学部

論文

148

Evaluation of hydrogen plasma and ion injection to the EUV photomask using high power irradiation tool at NewSUBARU

Hayato Ishida, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada

Photomask Japan 2025: XXXI Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 30-30 2025年7月21日
Investigation of solvent effects on the distribution of resist compositions using resonant soft X-ray scattering

Kouji Kuramoto, Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 64(6) 2025年6月1日
Evaluation of basic behavior of acrylic polymer by EUV exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Tadayuki Fujiwara, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

Optical and EUV Nanolithography XXXVIII 64-64 2025年4月23日
Development of an EUV irradiation tool in hydrogen atmosphere to evaluate EUV mask absorber durability

Hayato Ishida, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 64(3) 2025年3月1日
Nanoscale Resist-Pattern Defects Clustered in the Micron Region Found by Soft X-ray Microscopy

Takeharu Motokawa, Shuhei Iguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 38(2) 145-150 2025年
Spatial Distribution Analysis of Functional Groups in Resist Thin Film Using Reflection-Mode Resonant Soft X-ray Scattering

Yuri Ebuchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 591-595 2024年12月25日
Observation Result of Chemical Composition Distribution of Resist Thin Film by Photoemission Electron Microscopy

Tsukasa Sasakura, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 585-590 2024年12月25日
Current Status of EUV Flood Exposure Tool at NewSUBARU BL03

Ryuta Shiga, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 37(6) 579-584 2024年12月25日
EUV durability of CNT pellicles for next-generation scanner

Takahiro Ueda, Marcio D. Lima, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Takeshi Kondo

Japanese Journal of Applied Physics 63(3) 2024年3月1日
Fundamental Evaluation of KrF Resist Changing Formulation by EB and EUV Exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 37(1) 89-93 2024年
Evaluation of Basic Behavior of Acrylic Polymer Changing Composition by KrF, ArF and EUV Exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Tadayuki Fujiwara, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

JOURNAL OF PHOTOPOLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY 37(3) 299-304 2024年
Carbon/boron multilayer for beyond EUV lithography

Umi Fujimoto, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe

Photomask Japan 2023: XXIX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 2023年9月29日
Present Status of EUV Interference Lithography at NewSUBARU

Rikuya Imai, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 53-59 2023年6月15日
Characterization of Photoacid Generator Bound Resist with X-ray Absorption Spectroscopy at NewSUBARU

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Koji Nakanishi, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 47-52 2023年6月15日
Spatial Distribution Analysis of Polymers in Resist Thin Film by Reflection-mode Resonant Soft X-ray Scattering

Atsunori Nakamoto, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 41-45 2023年6月15日
Spatial Distribution Imaging of Resist Thin Film with Micrometer Resolution using Reflection Type Soft X-ray Projection Microscope

Shuhei Iguchi, Tetsuo Harada, Shinji Yamakawa, Takeo Watanabe, Takeharu Motokawa

Journal of Photopolymer Science and Technology 36(1) 25-30 2023年6月15日
CNT-based pellicles for the next generation of EUV scanners

Takahiro Ueda, Marcio D. Lima, Tetsuo Harada, Takeshi Kondo

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 62(SG) 2023年6月
Comparison of photoresist sensitivity between KrF, EB and EUV exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

INTERNATIONAL CONFERENCE ON EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 2023 12750 2023年
The X-ray absorption spectroscopy analysis of the negative-Tone PAG bound resist

Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 12750 2023年
Comparison of Photoresist Sensitivity between KrF, EB and EUV Exposure

Yosuke Ohta, Atsushi Sekiguchi, Shinji Yamakawa, Tetsuo Harada, Takeo Watanabe, Hiroki Yamamoto

Journal of Photopolymer Science and Technology 35(1) 49-54 2022年12月16日査読有り

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MISC

200

EUVリソグラフィ用の実露光波長マスク検査装置の開発

原田哲男

レーザー研究 52(1) 31 2024年
BL-9Cビームライン【JST機械翻訳】

原田哲男

LASTI Annual Report (Web) 25 2024年
BL-10ビームライン【JST機械翻訳】

原田哲男

LASTI Annual Report (Web) 25 2024年
主鎖切断型レジストのEUV照射による現像特性評価

志賀竜太, 山川進二, 原田哲男

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 85th 2024年
水素雰囲気中における高強度EUV照射によるEUVマスク吸収体の評価

石田隼登, 山川進二, 原田哲男

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 85th 2024年
EUVレジストにおける反射型軟X線共鳴散乱を用いた凝集構造と感度特性の関係性の検討

江渕友梨, 志賀竜太, 山川進二, 原田哲男

応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 85th 2024年
約7600年前の摩周火山噴火におけるマグマ上昇と火砕流発生:軽石堆積物の組織分析とシンクロトロン放射光分析からの知見

佐野恭平, 原田哲男, 和田恵治, 佐藤鋭一

日本地球惑星科学連合大会予稿集(Web) 2024 2024年
EUVリソグラフィ用の実露光波長マスク検査装置の開発—Development of At-Wavelength Mask Microscopes for EUV Lithography—「高出力短波長光源開発とその応用技術の進展」特集号

原田哲男

レーザー研究 = The review of laser engineering : レーザー学会誌 / レーザー学会編 52(1) 31-35 2024年1月
放射光分析と気泡組織解析に基づく北海道摩周火山約7600年前カルデラ形成噴火のマグマ上昇・酸化過程

佐野恭平, 原田哲男, 和田恵治, 佐藤鋭一

日本地球惑星科学連合大会予稿集(Web) 2023 2023年
軟X線反射型拡大投影顕微鏡によるフォトレジストの観察

原田哲男, 井口脩平, 山川進二, 渡邊健夫

Optics & Photonics Japan講演予稿集(CD-ROM) 2023 2023年
EUVリソグラフィー技術開発の現状および今後の展開について

渡邊健夫, 原田哲男, 山川進二

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 70th 2023年
光学界の将来ビジョン X線・極端紫外光における真の回折限界に向けて

篭島靖, 上杉健太朗, 亀島敬, 高橋幸生, 武市泰男, 竹内晃久, 原田哲男, 松本浩典, 三村秀和, 矢代航

光学 51(4) 2022年
レジスト薄膜中の空間分布測定を目的とした軟X線反射型共鳴散乱の検討

中本敦啓, 山川進二, 原田哲男, 渡邊健夫

X線分析討論会講演要旨集 58th 2022年
EUVリソグラフィーとニュースバルにおける評価技術開発

原田哲男

Optics & Photonics Japan講演予稿集(CD-ROM) 2022 2022年
軟X線照射によるDNAの放射線損傷の解析

吉田一輝, 松尾直人, 山名一成, 住友弘二, 部家彰, 原田哲男, 田部井哲夫

電子情報通信学会論文誌 C(Web) J105-C(2) 74-77 2022年
半導体量産のはじまったEUVリソグラフィーにおけるEUV検査・観察技術

原田哲男

光アライアンス 33(1) 39-42 2022年1月
45μm厚裏面照射型フォトダイオード・2段LOFICを有する広ダイナミックレンジ軟X線検出グローバルシャッタCMOSイメージセンサ (情報センシング)

四家寛也, 黒田理人, 小林諒太, 村田真麻, 藤原康行, 鈴木学, 原田将真, 柴口拓, 栗山尚也, 初井宇記 …

映像情報メディア学会技術報告 = ITE technical report 45(11) 17-20 2021年3月
極端紫外線リソグラフィー技術の現状と今後の展開

渡邊健夫, 原田哲男, 山川進二

電気化学秋季大会講演要旨集(CD-ROM) 2021 2021年
放射線によるDNA損傷とトランジスタ特性変動の相関解明

吉田一輝, 松尾直人, 住友弘二, 部家彰, 山名一成, 原田哲男, 渡邊健夫, 田部井哲夫

生体医歯工学共同研究拠点成果報告書 2020 2021年
レンズレス顕微鏡によるEUVマスク観察

原田哲男, 渡邊健夫

応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 68th 113-113 2021年

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共同研究・競争的資金等の研究課題

EUV波面シンセサイザの開発と実時間・超深度ナノイメージングへの応用

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月

豊田光紀, 原田哲男
共鳴軟Ｘ線反射率測定によるフォトレジストの反応分布評価手法の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(C) 基盤研究(C) 2019年4月 - 2022年3月

原田哲男
軟X線領域の薄膜の光学定数の精密測定

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2015年4月 - 2018年3月

木下博雄, 原田哲男, 村松康司, 渡邊健夫, 渡邊健夫, 村松康司
高感度且つ低LWRを有する1Xnm級EUVレジストの開発

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2013年4月 - 2016年3月

渡邊健夫, 原田哲男, 木下博雄, 武藤正雄, 津野勝重
EUV 干渉露光による 20nm以下の極微細パタン形成

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 基盤研究(B) 2010年 - 2012年

渡邊健夫, 木下博雄, 原田哲男, 塩野大寿
13nm高次高調波の時間コヒーレンス100倍改善法の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 若手研究(B) 2010年 - 2011年

原田哲男
縦配置薄膜ビームスプリッターによる軟X線適用可能な新型コモンパス干渉計の開発

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(スタートアップ) 若手研究(スタートアップ) 2007年 - 2008年

原田哲男

産業財産権

特許6031659 短波長コヒーレント光源及び透過型の減光機構

永田豊, 原田哲男, 木下博雄
特許5846681 欠陥特性評価装置

原田哲男, 木下博雄, 臼井洋一, 渡邊健夫
特許5683236 形状測定装置

原田哲男, 木下博雄, 渡邊健夫
特願2010-192518 パタン幅測定装置

原田哲男, 木下博雄, 渡邊健夫

原田哲男

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