産業財産権

特許権

基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理装置

国立大学法人京都大学, 東京エレクトロン株式会社
  • 松尾 二郎
    • ,
  • 瀬木 利夫
    • ,
  • 青木 学聡
    • ,
  • 土橋 和也
    • ,
  • 井内 健介
    • ,
  • 斉藤 美佐子
出願番号
特願2012-040647
出願日
2012年2月27日
公開番号
特開2013-175681
公開日
2013年9月5日
リンク情報
J-GLOBAL
https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201303014832385254
ID情報
  • J-Global ID : 201303014832385254
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