講演・口頭発表等

国際会議
2015年11月5日

Reactive etching with ClF3-Ar neutral cluster beam

The 37th International Symposium on Dry Process(DPS2015)
  • T. Seki
  • ,
  • Y. Yoshino
  • ,
  • T. Senoo
  • ,
  • K. Koike
  • ,
  • T. Aoki
  • ,
  • J. Matsuo

記述言語
英語
会議種別
口頭発表(一般)