MISC

1997年12月

111表面をもつシリコン薄板にMeV領域のイオンを照射して形成された歪みの形状のX線回折強度曲線による研究

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1
  • 栗林 勝*
  • 富満 広
  • 侘美 克彦*
  • 井上 哲*
  • 石田 興太郎*
  • 相澤 一也
  • 岡安 悟
  • 富田 博文*
  • 数又 幸生*
  • Y.C.Jiang*
  • 田中 弘之*
  • 加藤 弘之*
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36
12A
開始ページ
7296
終了ページ
7301
記述言語
英語
掲載種別
DOI
10.1143/JJAP.36.7296
出版者・発行元
社団法人応用物理学会

高エネルギー(80~230MeV)の重イオン(Ni,Cu,Au)を、(111)表面を有するSi単結晶板に打込み(1~50$\times$10$^{13}$/cm$^{2}$)、結晶中に生じた照射損傷を、X線回折(三結晶法)で観察した。解析は動力学的理論で行い、結晶中の歪み分布を決定した。その結果、結晶表面付近には損傷がなく、深い部分にだけ歪みが生じること、その分布は、「イオン停止位置」(Stopping Powerによる計算)ではなく、むしろ「はじき出し損傷率分布」に近いこと、照射量と歪み分布の大きさが比例すること、等が明らかになった。なお、照射は原研タンデム加速器で、X線回折はKEKのPF等で行った。

リンク情報
DOI
https://doi.org/10.1143/JJAP.36.7296
CiNii Articles
http://ci.nii.ac.jp/naid/110003906042
CiNii Books
http://ci.nii.ac.jp/ncid/AA10457675
URL
https://jopss.jaea.go.jp/search/servlet/search?2000373
ID情報
  • DOI : 10.1143/JJAP.36.7296
  • ISSN : 0021-4922
  • CiNii Articles ID : 110003906042
  • CiNii Books ID : AA10457675

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