1997年12月
111表面をもつシリコン薄板にMeV領域のイオンを照射して形成された歪みの形状のX線回折強度曲線による研究
Japanese Journal of Applied Physics, Part 1
- 巻
- 36
- 号
- 12A
- 開始ページ
- 7296
- 終了ページ
- 7301
- 記述言語
- 英語
- 掲載種別
- DOI
- 10.1143/JJAP.36.7296
- 出版者・発行元
- 社団法人応用物理学会
高エネルギー(80~230MeV)の重イオン(Ni,Cu,Au)を、(111)表面を有するSi単結晶板に打込み(1~50$\times$10$^{13}$/cm$^{2}$)、結晶中に生じた照射損傷を、X線回折(三結晶法)で観察した。解析は動力学的理論で行い、結晶中の歪み分布を決定した。その結果、結晶表面付近には損傷がなく、深い部分にだけ歪みが生じること、その分布は、「イオン停止位置」(Stopping Powerによる計算)ではなく、むしろ「はじき出し損傷率分布」に近いこと、照射量と歪み分布の大きさが比例すること、等が明らかになった。なお、照射は原研タンデム加速器で、X線回折はKEKのPF等で行った。
- リンク情報
- ID情報
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- DOI : 10.1143/JJAP.36.7296
- ISSN : 0021-4922
- CiNii Articles ID : 110003906042
- CiNii Books ID : AA10457675