大島明博 (Akihiro Oshima) - マイポータル

基本情報

所属: 大阪大学大学院工学研究科特任教授（常勤）

学位: 博士（工学）(1998年3月東海大学)

J-GLOBAL ID: 202001017511817656
researchmap会員ID: R000007705

研究キーワード

研究分野

経歴

2019年4月 - 現在

大阪大学工学研究科, 特任教授（常勤）
2016年4月 - 2019年3月

大阪大学工学研究科, 特任准教授（常勤）
2014年6月 - 2016年3月

大阪大学工学研究科環境・エネルギー工学専攻, 特任研究員（常勤）
2012年6月 - 2013年3月

大阪大学産業科学研究所, 特任准教授（常勤）
2012年4月 - 2012年5月

大阪大学産業科学研究所, 特任准教授
2008年4月 - 2012年3月

大阪大学産業科学研究所, 特任研究員
2003年4月 - 2003年5月

大阪大学産業科学研究所, 研究員
1998年4月 - 2001年3月

日本原子力研究所

学歴

- 1998年3月

東海大学, 工学研究科, 応用理学専攻

主要な論文

109

Trapped radical behavior of electron beam irradiated polytetrafluoroethylene fine powder at various temperatures

Akihiro Oshima, Hiroto Horiuchi, Atsushi Nakamura, Shun Kobayashi, Ayana Terui, Ayano Mino, Ryoya Shimura, Masakazu Washio

Scientific Reports 11(1) 2021年12月査読有り筆頭著者責任著者
Pentadecafluorooctanoic-acid-free polytetrafluoroethylene and mechanism of PFOA formation by γ-irradiation

Akihiro Oshima, Takayuki Tanaka, Hideki Nakaya, Ryosuke Senba, Kazuyuki Satoh

Scientific Reports 10(1) 2020年12月1日査読有り筆頭著者責任著者

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MISC

Fabrication of Function-Graded Proton Exchange Membranes for Direct Methanol Fuel Cells Using Electron Beam-Grafting

R. Tsuchida, S. Hiraiwa, A. Tsukamoto, M. Washio, A. Oshima

FUEL CELLS 14(2) 284-290 2014年4月査読有り
7aPS-111 Gd_xY_<1-x>H_2 (x=0.4)の磁気伝導における温度特性異常(7aPS 領域3ポスターセッション(遍歴・化合物・酸化物・f電子系磁性,スピングラス,量子スピン,フラストレーション,磁気共鳴),領域3(磁性))

桜庭琢士, 北島彰, 大島明博, 長谷川繁彦, 中村修, 春山翔太, 工藤駆, 酒井政道, 本多善太郎, 切金大介 …

日本物理学会講演概要集 69 257-257 2014年
26pSA-8 スピン軌道相互作用とローレンツ力との協同効果による磁気およびホール抵抗(26pSA 領域4 ポスターセッション,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))

酒井政道, 本多善太郎, 長谷川繁彦, 北島彰, 大島明博

日本物理学会講演概要集 67 750-750 2012年
18aPSA-14 両極性伝導型Gd_XY_<1-X>H_2における異常および正常ホール効果(18aPSA 領域3ポスターセッション(量子スピン・フラストレーション・遍歴・f電子・酸化物・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))

桜庭琢士, 平間弘晃, 大越朋哉, 坂井政道, 本多善太郎, 樋口宏二, 北島彰, 大島明博, 長谷川繁彦

日本物理学会講演概要集 67 381-381 2012年
20pPSA-28 低濃度(<3%>水素雰囲気からの高濃度水素吸蔵体YH_3およびGdH_3の結晶成長(20pPSA 領域9 ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長)

平間弘晃, 早川昌志, 大越朋哉, 酒井政道, 樋口宏二, 北島彰, 大島明博, 長谷川繁彦

日本物理学会講演概要集 67 836-836 2012年
Evaluation of PEFC Membrane based on Cross-linked PTFE by EB Grafting : Effect of Thickness for FC Performance

Hiraiwa S., Yoshikawa T., Oshima A.

Journal of photopolymer science and technology 25(4) 481-485 2012年
Changes to the chemical structure of isotactic-polypropylene induced by ion-beam irradiation

T. Oka, A. Oshima, R. Motohashi, N. Seto, Y. Watanabe, R. Kobayashi, K. Saito, H. Kudo, T. Murakami, M. Washio …

RADIATION PHYSICS AND CHEMISTRY 80(2) 278-280 2011年2月査読有り
The effect of water uptake gradient in membrane electrode assembly on fuel cell performance

H. Fujita, F. Shiraki, Y. Oshima, T. Tatsumi, T. Yoshikawa, T. Sasaki, A. Oshima, M. Washio

RADIATION PHYSICS AND CHEMISTRY 80(2) 201-206 2011年2月
非貴金属電極/保護絶縁膜による強誘電体の劣化抑制効果

辻徹, 大島明博, 和泉要, 廣田祐一郎, 岡本尚樹, 齊藤丈靖, 近藤和夫, 吉村武, 藤村紀文, 北島彰

化学工学会研究発表講演要旨集 2010 545-545 2010年
APSRC-2008 "The Second Asia-Pacific Symposium on Radiation Chemistry", August 29-September 1, 2008 Preface

Yosuke Katsumura, Akihiro Oshima, Masakazu Washio

RADIATION PHYSICS AND CHEMISTRY 78(12) 1019-1020 2009年12月査読有り
架橋PTFEの集束イオンビームによる微細加工とその高機能化に関する研究

高澤侑也, 福武直之, 裏川達也, 大島明博, 鷲尾方一, 岡本一将, 田川精一

日本化学会講演予稿集 88th(1) 2008年
架橋PTFEの集束イオンビームによる微細加工とその高機能化に関する研究

高澤侑也, 福武直之, 裏川達也, 大島明博, 鷲尾方一, 岡本一将, 田川精一

アイソトープ・放射線研究発表会要旨集 45th 2008年
集束イオンビームによる架橋PTFEのナノスケール微細パターンの作成

福武直之, 裏川達也, 高澤侑也, 三好のぞみ, 大島明博, 鷲尾方一, 岡本一将, 松井良憲, 関修平, 田川精一

高分子学会予稿集(CD-ROM) 57(1 Disk1) 2008年
集束イオンビームを用いたフッ素系高分子のナノ加工

福武直之, 高澤侑也, 五輪智子, 裏川達也, 鷲尾方一, 大島明博, 岡本一将, 田川精一

放射線化学討論会講演要旨集 51st 2008年
Development of sulfonated FEP-Nafion hybrid proton exchange membranes for PEFC

Y. Sato, K. Fujii, N. Mitani, A. Matsuura, T. Kakigi, F. Muto, J. Li, A. Oshima, M. Washio

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS 265(1) 213-216 2007年12月
芳香族系高分子の照射温度依存性~広域帯誘電特性と熱物性~

大島明博, 中西真大, 野嵜龍介, 丑田公規, 鷲尾方一

放射線化学討論会講演要旨集 50th 2007年
Direct etching process using focused ion beam for microfabrication of crosslinked PTFE

Nozomi Miyoshi, Yoshinori Matsui, Akihiro Oshima, Shu Seki, Katsuyoshi Murata, Etsuko Kato, Seiichi Tagawa, Masakazu Washio

Polymer Preprints, Japan 55 3314-3315 2006年12月1日
PACIFICHEM 2005参加報告

大島明博, 長澤尚胤

放射線化学 81 59-60 2006年3月30日
Development of high brightness soft x-ray source based on inverse Compton scattering

R. Moriyama, K. Hidume, T. Saito, K. Sakaue, Y. Hama, A. Oshima, M. Washio, R. Kuroda, S. Kashiwagi, H. Hayano …

EPAC 2006 - Contributions to the Proceedings 166-168 2006年1月1日
PTFE の放射光エッチングと表面改質

大島明博, 鷲尾方一

放射線化学 76 3-9 2003年9月5日

講演・口頭発表等

High-aspect ratio microfabrication of crosslinked polytetra-fluoroethylene using synchrotron radiation direct photo-etching

Takanori Katoh, Yasunori Sato, Daichi Yamaguchi, Shigetoshi Ikeda, Yasushi Aoki, Akihiro Oshima, Masakazu Washio, Yoneho Tabata

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 2003年
Development of high brightness soft x-ray source based on inverse Compton scattering

R. Moriyama, K. Hidume, T. Saito, K. Sakaue, Y. Hama, A. Oshima, M. Washio, R. Kuroda, S. Kashiwagi, H. Hayano, J. Urakawa

EPAC 2006 - Contributions to the Proceedings 2006年
Chemical crosslinking of polytetrafluoroethylene by fluorinated-pitch and its properties

Akihiro Oshima, Masakazu Washio

Polymer Preprints, Japan 2006年
Development of PEM for PEFC consists of sulfonated FEP and Nafion® hybrid

Yukiko Sato, Kazuki Fujii, Naohiro Mitani, Akio Matsuura, Tomoyuki Kakigi, Fumihiro Muto, Jingye Li, Akihiro Oshima, Masakazu Washio

Polymer Preprints, Japan 2006年
Direct etching process using focused ion beam for microfabrication of crosslinked PTFE

Nozomi Miyoshi, Yoshinori Matsui, Akihiro Oshima, Shu Seki, Katsuyoshi Murata, Etsuko Kato, Seiichi Tagawa, Masakazu Washio

Polymer Preprints, Japan 2006年
Characteristics of main chain decomposable STAR polymer for EUV resist

Jun Iwashita, Taku Hirayama, Isamu Takagi, Kensuke Matsuzawa, Kenta Suzuki, Sachiko Yoshizawa, Kenri Konno, Masahito Yahagi, Kazufumi Sato, Seiichi Tagawa, Kazuyuki Enomoto, Akihiro Oshima

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 2011年
Development of plant-based resist materials in electron beam lithography

Satoshi Takei, Akihiro Oshima, Naomi Yanamori, Atsushi Sekiguchi, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 2011年
Extendibility of EUV resists in the exposure wavelength from 13.5 down to 3.1 nm for next-generation lithography

Tomoko G. Oyama, Tomohiro Takahashi, Akihiro Oshima, Masakazu Washio, Seiichi Tagawa

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 2011年
Acid proliferation to improve the sensitivity of EUV resists: A pulse radiolysis study

Kazuyuki Enomoto, Koji Arimitsu, Atsutaro Yoshizawa, Hiroki Yamamoto, Akihiro Oshima, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa

Proceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering 2011年
Comparative study of electrical properties of PbLaZrTiOx capacitors with Al-doped ZnO and ITO top electrodes

Yoko Takada, Toru Tsuji, Naoki Okamoto, Takeyasu Saito, Kazuo Kondo, Koji Higuchi, Akira Kitajima, Akihiro Oshima, Takeshi Yoshimura, Norifumi Fujimura

2013 IEEE INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON THE APPLICATIONS OF FERROELECTRIC AND WORKSHOP ON THE PIEZORESPONSE FORCE MICROSCOPY (ISAF/PFM) 2013年 IEEE
Prediction of Resist Sensitivity for 13.5 nm EUV and 6.x nm EUV extension from Sensitivity for EBL

Tomoko G. Oyama, Akihiro Oshima, Dang Tuan Nguyen, Satoshi Enomoto, Masakazu Washio, Seiichi Tagawa

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY IV 2013年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Evaluation of sensitivity for positive tone non-chemically and chemically amplified resists using ionized radiation: EUV, X-ray, electron and ion induced reactions

Akihiro Oshima, Tomoko Gowa Oyama, Masakazu Washio, Seiichi Tagawa

ADVANCES IN RESIST MATERIALS AND PROCESSING TECHNOLOGY XXX 2013年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Reaction mechanisms of various chemically-amplified EUV

Satoshi Enomoto, Akihiro Oshima, Seiichi Tagawa

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY IV 2013年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Organic solvent-free sugar-based transparency nanopatterning material derived from biomass for eco-friendly optical biochips using green lithography

Satoshi Takei, Akihiro Oshima, Tomoko G. Oyama, Kenta Ito, Kigenn Sugahara, Miki Kashiwakura, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa

BIOPHOTONICS: PHOTONIC SOLUTIONS FOR BETTER HEALTH CARE IV 2014年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
High-resist sensitization by pattern and flood combination lithography

Seiichi Tagawa, Akihiro Oshima, Satoshi Enomoto, C. Q. Dinh

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY V 2014年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Evaluation of vacancies in positive-tone non-chemically and chemically amplified EUV/EB resists Relationship between free-volume and LER

Akihiro Oshima, Toru Hinata, Hirotaka Nakamura, Toshitaka Oka, Nagayasu Oshima, Brian E. O'Rourke, Ryoichi Suzuki, Masakazu Washio, Seiichi Tagawa

ADVANCES IN PATTERNING MATERIALS AND PROCESSES XXXI 2014年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
High-sensitivity green resist material with organic solvent-free spin-coating and tetramethylammonium hydroxide-free water-developable processes for EB and EUV lithography

Satoshi Takei, Makoto Hanabata, Akihiro Oshima, Miki Kashiwakura, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa

ADVANCES IN PATTERNING MATERIALS AND PROCESSES XXXII 2015年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
EB and EUV lithography using inedible cellulose-based biomass resist material

Satoshi Takei, Makoto Hanabata, Akihiro Oshima, Miki Kashiwakura, Takahiro Kozawa, Seiichi Tagawa

ADVANCES IN PATTERNING MATERIALS AND PROCESSES XXXIII 2016年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Novel high sensitivity EUV photoresist for sub-7 nm node

Tomoki Nagai, Hisashi Nakagawa, Takehiko Naruoka, Seiichi Tagawa, Akihiro Oshima, Seiji Nagahara, Gosuke Shiraishi, Kosuke Yoshihara, Yuichi Terashita, Yukie Minekawa, Elizabeth Buitrago, Yasin Ekinci, Oktay Yildirim, Marieke Meeuwissen, Rik Hoefnagels, Gijsbert Rispens, Coen Verspaget, Raymond Maas

ADVANCES IN PATTERNING MATERIALS AND PROCESSES XXXIII 2016年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Challenge toward breakage of RLS trade-off for EUV lithography by Photosensitized Chemically Amplified Resist (TM) (PSCAR (TM)) with flood exposure

Seiji Nagahara, Michael Carcasi, Hisashi Nakagawa, Elizabeth Buitrago, Oktay Yildirim, Gosuke Shiraishi, Yuichi Terashita, Yukie Minekawa, Kosuke Yoshihara, Masaru Tomono, Hironori Mizoguchi, Joel Estrella, Tomoki Nagai, Takehiko Naruoka, Satoshi Dei, Masafumi Hori, Akihiro Oshima, Michaela Vockenhuber, Yasin Ekinci, Marieke Meeuwissen, Coen Verspaget, Rik Hoefnagels, Gijsbert Rispens, Raymond Maas, Hideo Nakashima, Seiichi Tagawa

EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY VII 2016年 SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING

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所属学協会

共同研究・競争的資金等の研究課題

電流注入型スピン偏極度計のデザインと擬似ＸＯＲゲートへの応用

日本学術振興会科学研究費助成事業挑戦的萌芽研究 2012年4月 - 2015年3月

酒井政道, 長谷川繁彦, 北島彰, 大島明博
ホール伝導度ゼロ状態を用いた電流-スピン流変換機能

日本学術振興会科学研究費助成事業基盤研究(B) 2010年 - 2012年

酒井政道, 本多善太郎, 長谷川繁彦, 北島彰, 大島明博
量子ビームを用いた高アスペクトマルチナノアレイエレクトロッドの作製

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(A) 2009年 - 2011年

大島明博, 田川精一, 鷲尾方一
選択的な分子捕捉機能を有するナノ-マイクロ分子ふるいの開発研究

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究(B) 2007年 - 2008年

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