酸素欠損やエピタキシャル応力を制御できる薄膜作製技術と酸化物中に水素やフッ素等のアニオンを簡便に挿入できるトポタクティック合成法を組み合わせることで、「アニオンドープ酸化物エピタキシー法」を確立した。この方法によりペロブスカイト型酸化物薄膜および酸化物ヘテロ構造体に水素ドープ、フッ素ドープを施し、新しい複合アニオン酸化物、複合アニオン酸化物／酸化物ヘテロ構造の合成に成功した。本研究で、アニオンドープ酸化物エピタキシー法が新物質合成・新奇物性探索に有効な手法であることを示すことが出来た。