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2016年10月12日

帯電中和3点予測XPS法によるhigh‐k材料/SiO₂界面バンドオフセット評価

X線分析討論会講演要旨集

速水脩平
豊田智史
福田勝利
森田将史
中田明良
松原英一郎

巻: 52nd
号
開始ページ: 194‐197
終了ページ
記述言語: 日本語
掲載種別

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J-GLOBAL: https://jglobal.jst.go.jp/detail?JGLOBAL_ID=201602215657366617
URL: http://jglobal.jst.go.jp/public/201602215657366617

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J-Global ID : 201602215657366617

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