草場 彰
クサバ アキラ (Akira KUSABA)
更新日: 02/27
基本情報
- 所属
- 九州大学 応用力学研究所 助教
- (兼任) 情報基盤研究開発センター附属汎オミクス計測・計算科学センター
- 学位
-
博士 (工学)(2019年3月 九州大学)
- 連絡先
- kusaba
riam.kyushu-u.ac.jp - ORCID ID
https://orcid.org/0000-0002-1296-9180
- 外部リンク
研究キーワード
3経歴
5-
2020年12月 - 現在
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2020年6月 - 現在
-
2020年6月 - 現在
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2019年4月 - 2020年5月
-
2016年4月 - 2019年3月
学歴
2-
2014年4月 - 2019年3月
-
2010年4月 - 2014年3月
受賞
11論文
19-
Crystal Growth & Design 2021年2月1日 査読有り
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CrystEngComm 23(6) 1423 - 1428 2021年1月15日 査読有り
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Proceedings of the IEEE Region 10 Conference 2020 (TENCON 2020) 1192 - 1197 2020年11月19日 査読有り
-
Proceedings of the International Conference on Data Mining Workshops 2020 (ICDMW 2020) 811 - 819 2020年11月17日 査読有り
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Proceedings of the 9th International Conference on Pattern Recognition Applications and Methods (ICPRAM 2020) 585 - 592 2020年2月22日 査読有り
MISC
5-
プラズマ・核融合学会誌 97(2) 79 - 85 2021年2月25日 査読有り
-
日本結晶成長学会誌 47(3) 47-3-05:1 - 47-3-05:9 2020年10月30日 査読有り
-
プラズマ・核融合学会誌 96(2) 2020年2月25日
-
日本結晶成長学会誌 45(1) 45-1-03:1 - 45-1-03:8 2018年4月27日 査読有り
-
日本結晶成長学会誌 43(4) 233 - 238 2017年8月23日 査読有り
講演・口頭発表等
77-
NIFS共同研究（研究会）「プラズマインフォマティクス研究会」 2021年1月29日
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第26回電子デバイス界面テクノロジー研究会－材料・プロセス・デバイス特性の物理－ 2021年1月23日
-
International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation 2021 (ISWGPDs 2021) 2021年1月21日 招待有り
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International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation 2021 (ISWGPDs 2021) 2021年1月21日
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International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation 2021 (ISWGPDs 2021) 2021年1月20日
共同研究・競争的資金等の研究課題
5-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 若手研究
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科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業 ACT-X
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 特別研究員奨励費
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九州大学応用力学研究所 共同利用研究 若手キャリアアップ支援研究
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 特別研究員奨励費